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一種濕法刻蝕工藝中去磷硅玻璃槽的配置方法與流程

文檔序號:11100682閱讀:1294來源:國知局
一種濕法刻蝕工藝中去磷硅玻璃槽的配置方法與制造工藝

本專利屬于光伏技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及太陽能電池制造過程中的濕法刻蝕工藝。



背景技術(shù):

由于在全球范圍內(nèi)石化能源儲量有限,且利用石化能源會產(chǎn)生嚴(yán)重的環(huán)境污染,所以各國政府普遍注意到各種新型清潔的可再生能源在未來能源結(jié)構(gòu)中的關(guān)鍵地位,紛紛加大對這些能源產(chǎn)業(yè)和相關(guān)研究工作的支持力度,以便在未來的新能源領(lǐng)域中占有一席之地。在各種新型清潔能源中,太陽能被認(rèn)為是最具發(fā)展前景的清潔能源之一。

晶硅太陽能電池片是將光能轉(zhuǎn)換為電能的器件,光電轉(zhuǎn)換效率是衡量電池片質(zhì)量的重要指標(biāo)之一。隨著傳統(tǒng)P型晶硅電池片的材料更新和工藝改進,P型電池片的轉(zhuǎn)換效率已經(jīng)臨近極限,如何提高電池片的轉(zhuǎn)換效率成為光伏技術(shù)人員的一大難題。

常規(guī)濕法刻蝕工序中去磷硅玻璃槽采用的HF和去離子水的混合溶液,HF的濃度約8-12%左右,作用僅為去除擴散后電池片正面的磷硅玻璃和中和硅片表面在堿槽中殘留的氫氧根離子,硅片表面金屬雜質(zhì)無法有效去除,從而電池片的轉(zhuǎn)化效率不會提高。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于提供一種新型的濕法刻蝕工序去磷硅玻璃槽的配比方法,目的在于提高硅片在濕法刻蝕工序的清洗效果,提高電池片正、背面的鈍化效果,達到提高轉(zhuǎn)換效率。

本發(fā)明的上述目的是通過以下技術(shù)措施來實施來實現(xiàn)的:

一種濕法刻蝕工藝中去磷硅玻璃槽的配置方法,在去磷硅玻璃槽中加入去離子水與氫氟酸、鹽酸混合液,氫氟酸的摩爾濃度為15-20%,同時通入臭氧。

優(yōu)選的,鹽酸的摩爾濃度為2-5%。

優(yōu)選的,臭氧的流速為40-60L/min。

作為本發(fā)明的一種實施方式,包含以下步驟:

(1)在去磷硅玻璃槽中加入去離子水,加入氫氟酸和鹽酸,氫氟酸的摩爾濃度為15-20%,鹽酸的摩爾濃度為2-5%,開啟循環(huán),混合10分鐘;

(2)將臭氧通入循環(huán)管內(nèi),臭氧流量40-60L/min,反應(yīng)前持續(xù)10分鐘以上,反應(yīng)過程中保持流量20-30L/min,溫度保持在25-35℃;

(3)將擴散后的硅片放入濕法刻蝕機臺,工藝過程中在去磷硅玻璃槽中需保持0.5-2min。

作為本發(fā)明的最優(yōu)實施方式,包含以下步驟:

(1)在去磷硅玻璃槽中加入去離子水,加入氫氟酸和鹽酸,氫氟酸的摩爾濃度為18%,鹽酸的摩爾濃度為4%,開啟循環(huán),混合10分鐘;

(2)將臭氧通入循環(huán)管內(nèi),臭氧流量50L/min,反應(yīng)前持續(xù)10分鐘,反應(yīng)過程中保持流量25L/min,溫度保持在30℃;

(3)將擴散后的硅片放入濕法刻蝕機臺,工藝過程中在去磷硅玻璃槽中需保持1.5min。

優(yōu)選的,所述臭氧由臭氧發(fā)生器制作。

本發(fā)明的有益效果:

本發(fā)明在去磷硅玻璃槽中加入一定比例的鹽酸,加大HF的濃度,同時通入一定流量的臭氧,既可起到傳統(tǒng)方法中去磷硅玻璃和殘留堿的作用,又可有效去除硅片表面金屬雜質(zhì)(臭氧對硅片進行氧化生成SiO2,HF再去除SiO2),這樣可有效提高電池片正面的氫鈍化和背面的鋁背場鈍化效果,從而提高電池片的轉(zhuǎn)換效率。

說明書附圖

圖1本發(fā)明的去磷硅玻璃槽的配置示意圖。

具體實施方式

以下結(jié)合具體實施例對本發(fā)明作進一步描述。

結(jié)合圖1,圖1中的濕法刻蝕設(shè)備1包括去磷玻璃槽2,在去磷玻璃槽2中設(shè)置有一根帶有循環(huán)泵3的U型循環(huán)管(根據(jù)需要也可以設(shè)置為其它形狀),U型循環(huán)管的出口和進口均插入去磷玻璃槽2中;臭氧發(fā)生器4(其它實施方式中也可以選擇其它供臭氧設(shè)備)連接循環(huán)泵3(濕法刻蝕設(shè)備1還設(shè)置有常規(guī)的水槽5、刻蝕槽6和堿槽7,此處不作詳述)。

實施例1:一種濕法刻蝕工藝中去磷硅玻璃槽的配置方法,步驟為:

(1)在去磷硅玻璃槽中加入去離子水,加入氫氟酸和鹽酸,氫氟酸的摩爾濃度為15%,鹽酸的摩爾濃度為2%,開啟循環(huán),混合10分鐘;

(2)將臭氧通入循環(huán)管內(nèi),臭氧流量40L/min,反應(yīng)前持續(xù)10分鐘以上,反應(yīng)過程中保持流量20L/min,溫度保持在25℃;

(3)將擴散后的硅片放入濕法刻蝕機臺,工藝過程中在去磷硅玻璃槽中需保持0.5min。

本實施例中,通過氧化后剝離的方式,加強硅片在濕法刻蝕工序的清洗效果,增加發(fā)射極面的氫鈍化效果和背面的鋁背場鈍化效果,提高開路電壓,從而提高電池片的轉(zhuǎn)換效率,經(jīng)測試轉(zhuǎn)換效率提高0.3%。

實施例2:一種濕法刻蝕工藝中去磷硅玻璃槽的配置方法,步驟為:

(1)在去磷硅玻璃槽中加入去離子水,加入氫氟酸和鹽酸,氫氟酸的摩爾濃度為20%,鹽酸的摩爾濃度為5%,開啟循環(huán),混合10分鐘;

(2)將臭氧通入循環(huán)管內(nèi),臭氧流量60L/min,反應(yīng)前持續(xù)10分鐘以上,反應(yīng)過程中保持流量30L/min,溫度保持在35℃;

(3)將擴散后的硅片放入濕法刻蝕機臺,工藝過程中在去磷硅玻璃槽中需保持2min。

本實施例中,通過氧化后剝離的方式,加強硅片在濕法刻蝕工序的清洗效果,增加發(fā)射極面的氫鈍化效果和背面的鋁背場鈍化效果,提高開路電壓,從而提高電池片的轉(zhuǎn)換效率,經(jīng)測試轉(zhuǎn)換效率提高0.35%。

實施例3:一種濕法刻蝕工藝中去磷硅玻璃槽的配置方法,步驟為:

(1)在去磷硅玻璃槽中加入去離子水,加入氫氟酸和鹽酸,氫氟酸的摩爾濃度為18%,鹽酸的摩爾濃度為4%,開啟循環(huán),混合10分鐘;

(2)將臭氧通入循環(huán)管內(nèi),臭氧流量50L/min,反應(yīng)前持續(xù)10分鐘,反應(yīng)過程中保持流量25L/min,溫度保持在30℃;

(3)將擴散后的硅片放入濕法刻蝕機臺,工藝過程中在去磷硅玻璃槽中需保持1.5min。

本實施例中,通過氧化后剝離的方式,加強硅片在濕法刻蝕工序的清洗效果,增加發(fā)射極面的氫鈍化效果和背面的鋁背場鈍化效果,提高開路電壓,從而提高電池片的轉(zhuǎn)換效率,經(jīng)測試轉(zhuǎn)換效率提高0.4%。

以上實施例僅用于說明本發(fā)明的技術(shù)方案,而非對本發(fā)明保護范圍的限制,盡管參照較佳實施例對本發(fā)明作了詳細地說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進行修改或等同替換,而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的實質(zhì)和范圍。

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