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一種新型功率半導(dǎo)體器件及其邊緣終端結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號:11859227閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種新型功率半導(dǎo)體器件及其邊緣終端結(jié)構(gòu),包括多段浮空場板(1)和功率芯片(2),所述多段浮空場板(1)的下表面通過焊料層焊接有底板(3),其特征在于:所述功率芯片(2)由結(jié)型場效應(yīng)晶體管(4)和結(jié)型勢壘肖特基二極管(5)并聯(lián)復(fù)合而成,所述結(jié)型場效應(yīng)晶體管(4)包括P型溝道區(qū)(6)、N型漂移區(qū)(7)和陰極P型體區(qū)(10),所述P型溝道區(qū)(6)鑲嵌在N型漂移區(qū)(7)的中間,P型溝道區(qū)(6)的左邊N型漂移區(qū)(7)引出有陽極N+區(qū)(8),P型溝道區(qū)(6)的右邊N型漂移區(qū)(7)引出發(fā)射極N+區(qū)(9);所述陰極P型體區(qū)(10)淀積在N型漂移區(qū)(7)的下表面;所述結(jié)型勢壘肖特基二極管(5)包括N型基片(11)和陽極金屬(12),所述N型基片(11)和陽極金屬(12)之間填充有N-外延層(13);所述結(jié)型場效應(yīng)晶體管(4)和結(jié)型勢壘肖特基二極管(5)均連接有陰極金屬層(15)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型功率半導(dǎo)體器件及其邊緣終端結(jié)構(gòu),其特征在于:所述多段浮空場板(1)的兩側(cè)刻蝕有深溝刻槽(16),多段浮空場板(1)的中心蝕刻有中心區(qū)槽(17),中心區(qū)槽(17)向兩側(cè)延伸至深溝刻槽(16),深溝刻槽(16)與中心區(qū)槽(17)中均填充有低介電常數(shù)電介質(zhì)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型功率半導(dǎo)體器件及其邊緣終端結(jié)構(gòu),其特征在于:所述陰極P型體區(qū)(10)兩側(cè)填接有P型柱體(18),且P型柱體(18)的另一端熔接進(jìn)深溝刻槽(16)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型功率半導(dǎo)體器件及其邊緣終端結(jié)構(gòu),其特征在于:所述結(jié)型勢壘肖特基二極管(5)的N型基片(11)與陰極金屬層(15)之間墊襯有N+陰極層(14)。

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