專利名稱：光盤機及其制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種再現(xiàn)記錄載體上的光信息的裝置和方法，用于將記錄載體上已經(jīng)記錄的信息再現(xiàn)出來，所述記錄載體例如是能夠記錄信息在凹坑或類似物上的的圓盤狀載體，或者一種可以記錄信息的記錄/重放裝置(以下僅指光信息載體專用的記錄/重放裝置)，本發(fā)明特別是涉及一種所謂陸地-溝槽(land-groove)方法實現(xiàn)記錄/重放記錄載體上的信息的光盤機。
目前，人們正在使用各種各樣的適用于光信息載體的記錄/重放裝置，從光盤信息載體上讀取已記錄的光信息，然后進行信息的再現(xiàn)，光信息載體上記錄的信息是通過利用相變等方法形成的多個凹坑(pit)將信息記錄在圓盤狀的光記錄載體上的。尤其是近年來，光記錄載體能夠高密度的記錄大量的信息，非常實用和具有吸引力的例如是稱為“DVD”的產(chǎn)品(數(shù)字視盤)，其中也包括一個讀取記錄信息的再現(xiàn)裝置，在市場上已有出售。
可是，為了增加記錄在圓盤狀載體上信息的密度而問世的包括DVD等的高密度記錄載體所使用的激光束的波長比以往產(chǎn)品的激光束的波長要短，而且為了增加記錄道間距的密度，分別被稱為“溝槽區(qū)”和“陸地區(qū)”的凹部分和凸部分形成在所述載體的記錄表面上，以便記錄在所述區(qū)內的信息。在每個圓弧上交替出現(xiàn)的陸地區(qū)和溝槽區(qū)隨著光再現(xiàn)裝置的光拾音器的動作軌跡形成。市場上提供有各種高密度記錄載體，例如只能再現(xiàn)已記錄信息的記錄載體，只能記錄一次的記錄載體，還有能夠多次記錄信息的記錄載體等等。在這些記錄載體中，技術特性和性能各不相同，特別是它們具有不同的反射性或反射率。
在再現(xiàn)這種高密度記錄載體上記錄的信息的光記錄載體的記錄/重放裝置中，形成有稱為“溝槽區(qū)”和“陸地區(qū)”的凹部分和凸部分，以往使用一個控制裝置控制光再現(xiàn)裝置的聚焦定位，所述在每個圓弧上的陸地區(qū)的聚焦定位和溝槽區(qū)的聚焦定位是交替變換的，這種聚焦定位與記錄在陸地區(qū)和溝槽區(qū)之間限定的區(qū)內記錄的信號地址同步，這個信號地址預先稱為凹坑地址。
根據(jù)常規(guī)方式，采用所謂校驗控制，即證實記錄的數(shù)據(jù)是否能夠正確的被再現(xiàn)或當記錄信息到光記錄載體上時進行校驗，獲得信息的高可靠性。
不過，采用這種高密度記錄載體記錄信息和正確地再現(xiàn)這些信息，要求預置各個構成光盤機的裝置和控制實現(xiàn)記錄/重放操作默契精確，實際上，要求這種裝置必須能夠從電源合閘到可讀/寫狀態(tài)階段實現(xiàn)精確控制，即信息能夠從光盤上正確讀出。
例如，在光盤機中，必須確定光盤是否正確插入，首先，條件是電源是否在合閘狀態(tài)，接著，光盤是否是CD-ROM、DVD-ROM或DVD-RAM？根據(jù)不同種類的光盤設置不同的條件，這一點非常重要。
上述高密度記錄載體用于再現(xiàn)用高密度記錄的信息，必須控制光再現(xiàn)裝置的光拾取頭，特別是高精確地控制聚焦透鏡的聚焦定位。在光信息載體記錄/重放裝置中，一般在發(fā)貨前預先控制調節(jié)聚焦定位到適當?shù)奈恢?，但是，重要的是控制調節(jié)聚焦定位到適當?shù)奈恢脩c記錄載體的種類和/或條件相一致，以及與使用該裝置的環(huán)境相符合，包括溫度等等。為此目的，采用一種控制例如學習控制(Learning control)精確地根據(jù)要被再現(xiàn)的記錄數(shù)據(jù)修正聚焦定位到理想的位置。
此外，在許多操作環(huán)節(jié)必須進行校驗工作，包括托盤是否到位，光拾取頭的選擇，跟蹤的調節(jié)和寫入的調節(jié)等等。
本發(fā)明的目的是克服上述的種種缺陷，提供一種可以在讀出和寫入條件下短時間周期內默契實現(xiàn)校驗工作的光盤機。
根據(jù)本發(fā)明，所提供的實現(xiàn)上述目的用于在光盤上記錄和再現(xiàn)信息的光盤機包括用于識別光盤的裝置；用于讀出一個非可記錄區(qū)上的控制信息的裝置，所述非記錄區(qū)形成在所述光盤的內圓周上；用于實現(xiàn)在一個可記錄區(qū)上的聚焦控制信息的裝置，所述可記錄區(qū)形成在所述非可記錄區(qū)之外；用于調節(jié)再現(xiàn)信號的幅值的裝置，該信號來自所述可記錄區(qū)的內圓周；用于試驗寫入的裝置，寫入信息在所述可記錄區(qū)的內圓周上；用于試驗寫入的裝置，寫入信息在所述可記錄區(qū)的外圓周上；及用于調節(jié)再現(xiàn)信號的幅值的裝置，該信號來自所述可記錄區(qū)的外圓周，其中所述裝置生成相應的操作順序，控制所述光盤處于重放和記錄狀態(tài)。特別是根據(jù)本發(fā)明提供的光盤機還包括用于預先寫入(樣本寫)的裝置，它在識別所述光盤的操作和在所述可記錄區(qū)的外圓周上測試寫入的操作之間進行預先寫入操作。
根據(jù)本發(fā)明的實現(xiàn)所述目的使用于在光盤上記錄和再現(xiàn)信息的光盤機的光盤處于重放和記錄狀態(tài)的方法包括下列步驟識別光盤；讀出一個非可記錄區(qū)上的控制信息，所述非記錄區(qū)形成在所述光盤的內圓周上；實現(xiàn)在一個可記錄區(qū)上的聚焦控制，所述可記錄區(qū)形成在所述非可記錄區(qū)之外；調節(jié)再現(xiàn)信號的幅值，該信號來自所述可記錄區(qū)的內圓周；實現(xiàn)試驗寫入信息在所述可記錄區(qū)的內圓周上；實現(xiàn)試驗寫入信息在所述可記錄區(qū)的外圓周上；及調節(jié)再現(xiàn)信號的幅值，該信號來自所述可記錄區(qū)的外圓周，其中所述裝置生成相應的操作順序，控制所述光盤處于重放和記錄狀態(tài)。特別是根據(jù)本發(fā)明提供的光盤機還包括用于預先寫入(樣本寫)的裝置，它在識別所述光盤的操作和在所述可記錄區(qū)的外圓周上試驗寫入的操作之間進行預先寫入操作。


圖1是根據(jù)本發(fā)明實現(xiàn)的能夠讀和寫的光盤機的方框圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明的光盤機的外觀示意圖；圖3是一個DVD光盤的外觀示意圖，它可以通過本發(fā)明的光盤機記錄和重放信息；圖4是圖3所示的DVD的剖面圖，特別是在信息記錄區(qū)域上的陸地區(qū)和溝槽區(qū)；圖5是解釋在圖3所示的DVD的陸地區(qū)和溝槽區(qū)的形成格式的示意圖；圖6是在圖3所示的DVD的陸地區(qū)和溝槽區(qū)之間限定的一個凹坑地址區(qū)的放大的示意圖；圖7是說明本發(fā)明的光盤機的電路結構的電路圖；圖8是說明本發(fā)明的光盤機的各不同部分的波形圖；圖9是說明本發(fā)明的光盤機的直到可讀/寫狀態(tài)為止的所有步驟的流程圖；圖10是一個曲線，其橫座標代表環(huán)境溫度，縱座標代表信號幅值(DAC值)；圖11是本發(fā)明的光盤機的預寫入操作流程圖；圖12是說明一種聚焦控制方法的流程圖；圖13是解釋采用圖12所示的聚焦控制方法在相應的凹坑地址可識別區(qū)上識別的示意圖；圖14是說明用于聚焦控制的學習控制方法的流程圖；圖15是解釋根據(jù)圖14所示的學習控制方法設置對每個扇區(qū)的優(yōu)化FE偏置值的示意圖；圖16是解釋根據(jù)圖14所示的學習控制方法平均設置對每個扇區(qū)的優(yōu)化FE偏置值的示意圖；圖17是說明根據(jù)又一實施例的用于聚焦控制的學習控制方法的流程圖；圖18是解釋根據(jù)圖14所示的學習控制方法設置對每個扇區(qū)的優(yōu)化FE偏置值的簡化示意圖，其中設置最大幅值和一個漸減率。
下面將結合上述附圖詳細說明本發(fā)明的各實施例。
首先結合圖1說明本發(fā)明的光盤機的結構。圖1是根據(jù)本發(fā)明實現(xiàn)的能夠讀和寫光記錄載體的光信號的光盤機實施例的方框圖。
在圖1中，首先，標號100代表一個高密度光盤記錄載體，標號2代表一個光拾取頭，其內裝有一個半導體激光器210，作為一個發(fā)射所需波長的激光束的光發(fā)射元件，一個使激光束發(fā)射成平行光的聚光透鏡220，一個可透入入射光的一部分及反射其他部分光的半透鏡230，一個改變光的方向的透鏡240，一個將發(fā)射的激光束以預定的激光束直徑聚焦到上述光盤100的記錄層面上的聚焦透鏡250，和一個接收及檢驗來自半透鏡230的反射光的光接收元件260等，這里，標號261代表接收及檢驗來自半透鏡230的反射光的另一個前光接收元件，將從前光接收元件261接收的信號與一個在信號處理部分300內的圖中未示出的比較器產(chǎn)生的靶電壓相比較，預定的信號被反饋到激光驅動電路500，使它們相等，采用這種反饋電路，當再現(xiàn)信息時，使激光器發(fā)射的光的密度和強度得到控制。
在這個實施例中，為了改變聚光透鏡220的聚焦距離，使其與光透鏡100的厚度相符合，需要安裝兩個用于DVD和CD的物鏡，這兩個聚光透鏡220通過沿水平方向快速移動的一個機構能夠實現(xiàn)互換。一般，在追蹤系統(tǒng)正在工作的情況下，由于穩(wěn)定點處于一個最佳位置，可以沿水平方向瞬間移動透鏡，當移動透鏡時，產(chǎn)生一個跳接(kick-pass)信號，從而落入追蹤其他透鏡的穩(wěn)定點。
在圖1中，標號300代表信號處理部分，它采用上述光再現(xiàn)裝置的光接收元件260檢測出反射光，將反射光轉變?yōu)殡娦盘枺瑥亩a(chǎn)生一個預定的處理過程，這個信號處理部分300與微計算機400相連接，后者用于控制光盤機、光信息記錄載體的再現(xiàn)裝置，執(zhí)行各種控制調節(jié)，包括將在下面詳細說明的聚焦控制。這個微計算機400還與一個激光驅動電路500、偏移控制電路600、芯軸控制電路700和兩維致動控制電路800相連接。
采用上述結構，微計算機400通過控制流過半導體激光器210(即上述光再現(xiàn)裝置的光拾取頭的光發(fā)射元件)的電流，控制發(fā)射光的強度，并且通過控制電機650轉動的偏移來控制光盤機100的光拾取頭200在徑向的位置。在本實施例中，當光盤機100沿徑向發(fā)生機械偏移時，通過電機650的轉動，帶動一個齒輪傳動裝置660使光拾取頭200在徑向上移動，實現(xiàn)偏移控制。然而并不限定使用實施例的這種結構實現(xiàn)此功能。
微計算機400控制電機750轉動，帶動其芯軸旋轉，實現(xiàn)一個線性恒定速度的控制，目前在高密度信息記錄載體上已經(jīng)廣泛使用了這種線性恒定速度控制，例如LVC(恒定線性速度)、或ZCLVC(分區(qū)的恒定線性速度)等等。尤其是在后者ZCLVC情況下，轉數(shù)(或角速度)在每個區(qū)內被控制為是恒定的，并且這個轉數(shù)在各區(qū)是變化的。微計算機400還實現(xiàn)對于光拾取頭200的聚集透鏡250的聚集位置控制，即當致動機構通過兩維致動機構控制電路800時利用一個電磁線圈850或類似物的電磁作用實現(xiàn)定位控制。采用這種實現(xiàn)聚焦的兩維定位控制的兩維致動機構控制電路800包括兩種定位控制，一種是對于聚焦透鏡250沿著垂直于光盤機的記錄表面方向移動的定位控制，另一種是跟蹤沿著垂直于上述方向的徑向移動實現(xiàn)精確微小定位調節(jié)的跟蹤位置控制，并且在上述兩種聚光透鏡之間進行變換。
圖1所示的方框圖的電路安裝在圖2的盒體或箱體內，例如，組裝成一個光盤機。在這種光盤機中，一個托架上帶有一個圖中未示出的插入機構，它安裝在殼體內，由電機750帶動旋轉，能夠伸出和放入光盤，一般來說，插入光盤機的托架TR只能允許裝入CD或DVD-RAM本身，但是在如圖2所示的DVD-RAM情況下，有時允許裝入一個稱為盒式磁帶C的盒體，因此托架TR的結構應能夠允許盒式磁帶C的裝入。為了能夠復制兩種模式的光盤(即光盤本身或光盤放入其盒式磁帶內)，托架TR上帶有專用于光盤片本身的導槽G1、G2，它們分別與光盤片的標準直徑8厘米和12厘米相符合，托架上還帶有專用于固定盒式磁帶C的爪或釘。在這個實施例中，還安裝了一個檢測裝置(開關或傳感器)，用于檢測上述盒式磁帶C是否存在，這是因為目前使用盒式磁帶C的光盤只有DVD-RAM，因此通過識別盒式磁帶C是否存在即可確定DVD-RAM光盤片的存在。
根據(jù)本實施例，由一個主人例如一個圖中未示出的個人計算機發(fā)出一個指令或一個信息數(shù)據(jù)，經(jīng)一個接口控制電路被輸入，微計算機400執(zhí)行記錄/再現(xiàn)信息和搜索信息的操作，由一個信號調制處理電路300進行轉換后，通過光拾取頭將信號記錄在光盤100上。同樣，響應一個再現(xiàn)指令，通過光接收元件260讀取的各種信號由信號處理部分300又解調回原數(shù)據(jù)，被解調的數(shù)據(jù)通過接口控制電路傳送給主機。
在記錄/再現(xiàn)期間，記錄在光盤上的各種控制信息通過信號處理部分300得以再現(xiàn)，用于控制上述各種裝置和/或裝置。
接著參見圖3-圖5，光盤100是稱為DVD-RAM的高密度記錄載體，下面將進行詳細說明。圖3是高密度記錄載體的DVD的外觀示意圖，通過光記錄/再現(xiàn)裝置可將信息寫入DVD或從DVD上讀取信息，特別是圖3(A)表示了示意圖，圖3(B)是其平面示意圖。圖4是圖3所示的DVD的剖面圖，特別是展示了在信息記錄區(qū)域上的陸地區(qū)和溝槽區(qū)；圖5是解釋在圖3所示的DVD的陸地區(qū)和溝槽區(qū)的形成格式的示意圖，特別是圖5(A)表示陸地區(qū)和溝槽區(qū)的結構，圖5(B)表示每個區(qū)的陸地區(qū)和溝槽區(qū)的格式；圖6是在圖3所示的DVD的陸地區(qū)和溝槽區(qū)之間限定的一個凹坑地址區(qū)的放大的示意圖。
首先，我們將說明圖3所示的DVD-RAM光盤100，這種稱為DVD-RAM的光盤是可寫入的，利用激光束輻射的相變現(xiàn)象，在光盤基片內的記錄層上形成凹坑，用于寫入信息，之后，將寫入凹坑內的信息再現(xiàn)。或者，利用稱為DVD-ROM的只讀光盤，激光束照射在預先寫入信息的記錄表面上，通過反射光再現(xiàn)所記錄的信息。
不過，圖3所示的光盤100只是光信息記錄載體的一個例子，例如可寫入載體DVD-RAM，在其中心區(qū)分配成ROM區(qū)，其內記錄有預先寫入的控制信息，RAM區(qū)120環(huán)繞著上述中心ROM區(qū)布置。采用上述的高密度記錄載體，在作為信息記錄部分的RAM區(qū)120上形成一個螺旋形軌跡T，用于在光盤上連續(xù)地記錄信息，同時，為了增加記錄密度，分別形成凹和凸區(qū)域，也稱為陸地區(qū)和溝槽區(qū)，它們能夠記錄/再現(xiàn)信息。
上述RAM區(qū)120被分成若干區(qū)域，即在RAM區(qū)的內側和外側形成區(qū)域121和122，其中記錄了關于裝置控制的信息，位于它們之間的區(qū)域123是用戶區(qū)域，供用戶寫入信息。
上述寫入?yún)^(qū)域121又分成光盤信息區(qū)域121A和裝置信息區(qū)域121B，裝置信息區(qū)域121B的使用根據(jù)試驗寫入的操作，這將在后面詳細說明。用戶區(qū)域123帶有多個區(qū)域123A，它們沿著徑向被輻射分成多個。在每個區(qū)域123A的最外側的圓周上制備了一個替代塊，當寫入?yún)^(qū)域123A上內側部分的操作失敗時，它可以是代替該部分的記錄區(qū)，原則上，每個替代塊可以用作相應部分123A的替代塊，但是當它已經(jīng)寫滿了時，也可以用作另一個123A的替代塊，在此情況下，控制寫入到最接近的替代塊。
圖4是圖3所示的DVD的剖面圖，特別是展示了在信息記錄區(qū)域上的陸地區(qū)和溝槽區(qū)，在這張圖中，陸地用符號L表示，溝槽區(qū)用符號G表示，這些陸地區(qū)L和溝槽區(qū)G逐一形成在圓盤形記錄載體100的徑向方向上，并且在這些陸地區(qū)L和溝槽區(qū)G上，形成了如圖中間斷線所示的凹坑，用于記錄信息。
圖5表示了在這種高密度記錄載體上的上述陸地區(qū)和溝槽區(qū)的形成格式，其中陸地區(qū)L用陰影線表示，和溝槽區(qū)G則在陰影線之間，這些陸地區(qū)和溝槽區(qū)交替和交錯地形成在圓盤形記錄載體100的圓盤面上，在圖5中，陸地區(qū)L和溝槽區(qū)G交替地形成在用點劃線表示的區(qū)域的基板上。而且，這些陸地區(qū)L和溝槽區(qū)G以單元形成，稱為扇區(qū)，扇區(qū)從17-34，每個單元分別對應光盤上的一圈軌跡，所有扇區(qū)被分成由凹坑地址區(qū)PA組成的區(qū)域及其之間的區(qū)域。光盤上的RAM區(qū)120沿著從內向外的方向被分成區(qū)域123A，每個區(qū)域123A具有相同數(shù)量的扇區(qū)。
圖6表示在陸地區(qū)L和溝槽區(qū)G之間形成的凹坑地址，圖6(A)表示從陸地區(qū)L過渡到溝槽區(qū)G(即圖5的點劃線部分的凹坑地址區(qū)域)的部分，檢測記錄信號的激光束從陸地區(qū)L通過所述凹坑地址區(qū)域PA移動到溝槽區(qū)G，如圖中點劃線的箭頭所示。
圖6(B)表示檢測記錄信號的激光束從陸地區(qū)L移動到陸地區(qū)L的部分，如圖中點劃線的箭頭所示，例如激光束從陸地區(qū)L通過所述凹坑地址區(qū)域PA移動到下一個陸地區(qū)L，無需重復，激光束從溝槽區(qū)G移動到溝槽區(qū)G，也是通過所述凹坑地址區(qū)域PA。
以此方式，在高密度記錄信息的記錄載體100上，信息被交替記錄在陸地區(qū)L和溝槽區(qū)G內，它們相互的高度是不同的，因此使用這種記錄載體記錄和再現(xiàn)信息是確定的，有必要控制光拾取頭處于最佳工作狀態(tài)，使光再現(xiàn)裝置利用激光束的反射光記錄信息和再現(xiàn)信息，特別是根據(jù)陸地區(qū)L和溝槽區(qū)G的不同高度，控制再現(xiàn)聚焦在記錄載體表面上的發(fā)射的激光束在光學透鏡(聚光透鏡)的聚焦位置。
同時，如圖所示在上述凹坑地址區(qū)域PA上，在記錄載體100上的地址號記錄在兩側，形成多個凹坑序列P,P…。因此，為了再現(xiàn)已記錄在光盤100上的信息，必須先正確或精確地檢測出這些在凹坑地址區(qū)域PA內的多個凹坑序列P,P…。
根據(jù)本發(fā)明，為了精確地實現(xiàn)上述光再現(xiàn)裝置的聚光透鏡的最佳聚焦位置，在再現(xiàn)高密度記錄載體100上記錄的信息時，采用一種光信息記錄載體的記錄/再現(xiàn)裝置，它執(zhí)行學習控制過程，以及能夠精確檢測出在凹坑地址區(qū)域PA內的多個凹坑序列P,P…，實現(xiàn)最佳定位控制操作。
盡管圖3-圖6中未示出，在陸地區(qū)L和溝槽區(qū)G之間的邊緣上形成徑向擺動(沿徑向的微小擺動)，這種擺動與根據(jù)預定頻率調制地址信息有關。每一周的擺動數(shù)通過圖中未示出的一個擺動監(jiān)測電路測出，這樣，利用上述主軸電機700獲得高效和高穩(wěn)定性的電機750的轉動控制。
上述凹坑地址區(qū)PA可以沿圓周方向被分成兩部分，其中凹坑P形成在這兩部分上。通過比較從兩個凹坑P獲得的ID識別信號，可以識別相鄰的兩個部分的數(shù)據(jù)。
下面看圖7，根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖7的詳細結構包括光接收元件260，信號處理部分300用于處理測出的信號以及周邊區(qū)域上的信息，還有光拾取頭200，它是光盤機中的光再現(xiàn)裝置，用于記錄/再現(xiàn)所述光信息記錄載體。
由圖中可看出，光接收元件分成四個檢測器A、B、C和D，從高密度記錄載體100的表面上反射回來的反射光照射到光接收元件260上，然后轉換成電信號，分別通過上述檢測器電路輸出。從各檢測器A、B、C和D輸出的信號分別輸入到加法器電路301-304，分別進行(A+C)、(B+D)、(A+D)和(B+C)加法運算，從加法器301和302輸出的信號輸入到一個加法器305，它將由各檢測器A、B、C和D輸出的信號相加，輸出總和信號(A+B+C+D)。
同時，將從加法器301和302輸出的信號輸入到一個減法電路306，在這里進行((A+C)-(B+D))的運算，獲得的結果稱為跟蹤誤差信號TE，之后將跟蹤誤差信號TE輸入到一個具有高頻的高帶通濾波器(HPF)，從高帶通濾波器輸出一個ID識別信號，即，例如，這個ID信號可以通過讀取如圖6所示及如圖8(A)的信號波形圖所示的凹坑地址號P,P…而獲得。接著將該ID信號輸入到微計算機400，使在上述高密度記錄載體100的記錄表面的信道上每個扇區(qū)的地址號得到確認。
同時，跟蹤誤差信號TE送到低頻低帶通濾波器(LPF)308進行處理，將跟蹤誤差信號TE與來自一個D/A轉換器310的位置修正值在一個加法器電路309中相加，為了實現(xiàn)對溝槽區(qū)的跟蹤控制，首先，通過反向電路312使跟蹤誤差信號TE的極性相反，然后通過開關315輸出到兩維致動控制電路800。另一方面，為了實現(xiàn)對陸地區(qū)的跟蹤控制，上述跟蹤誤差信號TE通過一個開關318被送到兩維致動控制電路800。但是，對其中一個開關，即接通陸地區(qū)(L)的跟蹤控制信號的開關318，上述L/G轉換信號是通過反向電路319輸入的。也就是說，根據(jù)跟蹤誤差信號TE，陸地區(qū)(L)的跟蹤控制信號和溝槽區(qū)(G)的跟蹤控制信號是交替地輸出到兩維致動控制電路800。這個輸出是控制信道軌跡的一個TR信號，因此通過圖1的偏移控制電路600控制光再現(xiàn)裝置200沿徑向的移動位置。D/A轉換器310的位置修正值是由A/D轉換器送到微計算機的信號處理后由微計算機輸出的，關于這個部分由于與本發(fā)明關系很小，在此本文不再贅述。
同時，由上述加法器303和304輸出的信號(A+D)和(B+C)輸出到減法電路311，從而通過進行((A+D)-(B+C))運算得到聚焦誤差信號FE，這個聚焦誤差信號FE被加工分成專用于上述陸地區(qū)的聚焦誤差信號FE和專用于上述溝槽區(qū)的聚焦誤差信號FE，此后通過兩維致動控制電路800控制上述光再現(xiàn)裝置200的聚光透鏡250(在沿垂直于高密度記錄載體100的記錄表面的方向上)的聚焦定位。
從進行((A+D)-(B+C))運算的減法電路311輸出的聚焦誤差信號FE經(jīng)過加法器314獲得聚焦位置修正值，然后傳送到兩維致動控制電路800。用于陸地區(qū)和溝槽區(qū)的聚焦位置修正值在D/A變換器313和D/A變換器316中被設定，然后通過一個邏輯開關SW317傳送給加法器314。
這里，微計算機400根據(jù)分別由D/A變換器313和D/A變換器316中被設定的聚焦位置修正值控制在上述陸地區(qū)的聚焦和上述溝槽區(qū)的聚焦位置。也就是說，微計算機400交替輸出一個交替控制信號作為上述邏輯開關SW317的控制輸入，即在陸地區(qū)(L)和溝槽區(qū)(G)之間的交替信號。
而且在本發(fā)明中，通過D/A變換器313和D/A變換器316疊加到聚焦誤差信號FE上的位置修正值用于學習控制過程的經(jīng)驗值，這種學習控制是使聚光透鏡的聚焦定位在最佳位置。不過，當光信息記錄載體的記錄/再現(xiàn)裝置出廠發(fā)貨時，廠家已經(jīng)在微計算機400的存儲器EPROM中預先設定了初始值。
接著我們將結合附圖9說明本發(fā)明的光盤機從接通電源或插入光盤100到托架TR上直到具備讀/寫條件(即可讀/寫狀態(tài))的工作流程圖。
在圖9中，首先，當光盤100插入光盤機的托架TR后，托架TR收入和在機內移動，它被監(jiān)測，確定盒帶C是否存在(步驟1001)。目前市面上的光盤各種各樣，例如CD-ROM、DVD-ROM、DVD-RAM等，不過只有DVD-RAM是插入盒內使用的，因此，能夠根據(jù)是否存在盒帶C識別出所插入的光盤是DVD-RAM。如果檢測出沒有盒帶存在，再判斷光盤是否不正或沒有光盤(步驟1022)。
在步驟1022中，光拾取頭200移動到內圓周完成初始設定，在這個初始設定步驟，將電流、電壓、電阻和附加信號等設定在各自的預定值。此后，聚光透鏡250變?yōu)槭褂脿顟B(tài)，接通CD和半導體激光器210的電源。于是開始聚焦掃描，即讓聚光透鏡250上下移動或偏移。確定在這種聚焦掃描操作中是否獲得一個FOK信號，所述的判斷與夾盤正確與否或有否光盤有關。接著聚光透鏡250變換使用狀態(tài)，接通DVD和半導體激光器210的電源，執(zhí)行與上述判斷光盤是否不正或沒有光盤相同的操作步驟。
在步驟1022中，當光盤100沒有完全插入光盤機的盤夾內，即夾盤不正確，或當沒有插入光盤時(即無光盤)，也能夠識別出這種夾盤不正確狀態(tài)，這時將向與之相連的主機(即個人計算機等)發(fā)回一個信號，操作步驟結束或完成(步驟1023)。相反，如果識別出不存在夾盤不正確或確定光盤確實存在，進行光盤類型的識別(步驟1024)。
如果在步驟1001確定所插入的是光盤盒C，接著識別光盤盒C的狀態(tài)(步驟1002)，在步驟1002中，例如確定光盤是否處于寫保護狀態(tài)，如果是處于寫保護狀態(tài)，發(fā)回一個相應的信號(步驟1003)，如果確定結果表明光盤盒C的狀態(tài)是正常的，步驟轉入相應于DVD的下一步1004。
在識別光盤類型的步驟1024中，首先通過旋轉電機750確定光盤的尺寸，然后將電流、電壓、電阻值和總和信號等設定到起始值，執(zhí)行與步驟1022相同的聚焦掃描操作。此時，進行FE信號幅值的檢測，聚光透鏡250變換到相應于DVD的使用狀態(tài)。這樣通過比較識別結果，可以確定或識別出光盤的類型，例如CD-ROM(1026)等。
如果判斷出插入的光盤是DVD-RAM，是可寫入狀態(tài)，執(zhí)行從步驟1005到1021的聚焦和跟蹤所需的各種調節(jié)，直至達到可讀/寫狀態(tài)。這里在直至達到可讀/寫狀態(tài)的流程中，有些步驟如步驟1025、1026等與DVD-RAM的相同，因此相關解釋將予以省略。
首先，在步驟1005-1011，光盤裝置讀取記錄在ROM部分110內的管理數(shù)據(jù)，更詳細的說，當確定是DVD-RAM時，光盤裝置調整S成形聚焦寬度和位置修正電路(步驟1005)。然后，通過改變讀取的記錄在上述RAM部分110內的管理數(shù)據(jù)的電路常數(shù)(步驟1006)，由聚焦跟蹤機構帶動光拾取頭移動到最內圈的ROM區(qū)(步驟1007)，接著確定光拾取頭是否已經(jīng)移動到上述ROM區(qū)110(步驟1008)，然后按ROM區(qū)110的數(shù)據(jù)對于跟蹤誤差信號TE和幅值調節(jié)平衡(步驟1009)。接著驅動與ROM部分110有關的跟蹤系統(tǒng)(步驟1010)，讀取控制數(shù)據(jù)(步驟1011)，將光拾取頭定位在控制信號區(qū)的頂部，開始讀控制數(shù)據(jù)，一直到光拾取頭定位在尾部結束。此外，從ROM區(qū)開始調節(jié)的原因是為了獲得短的處理時間。也就是說，光拾取頭位于內圓周處的制動位置，例如在驅動停止狀態(tài)，此處的光盤地址是不可識別的，其位置鄰近所述ROM區(qū)，而不是RAM區(qū)，即移動或靶位置。
下面，根據(jù)流程圖中的步驟1012-1017進行對RAM區(qū)120的聚焦和跟蹤調節(jié)，詳細地說，首先改變讀取的記錄在上述RAM部分120內的電路常數(shù)(步驟1012)，由聚焦跟蹤機構帶動光拾取頭200移動到RAM區(qū)120，確定光拾取頭是否已經(jīng)移動到上述RAM區(qū)120(步驟1013)，然后調節(jié)在RAM區(qū)120內的跟蹤誤差信號的幅值和調節(jié)平衡(步驟1014)。接著驅動跟蹤系統(tǒng)到RAM部分120(步驟1015)，并且還調節(jié)聚焦增益和跟蹤增益(步驟1016)，然后精確或細致調節(jié)聚焦位置修正值(步驟1017)。
下面根據(jù)步驟1018-1020的流程圖詳細說明讀取操作過程。光拾取頭200移動到位于最內側圓周的信息區(qū)121B，讀取管理區(qū)域上的數(shù)據(jù)，以及調節(jié)再現(xiàn)信號的幅值(步驟1018)。然后在最內側圓周位置處試驗性寫入，光拾取頭200移動到位于最外側圓周處的讀/寫區(qū)122，在這個外圓周上試驗寫入(步驟1019)，接著在這個外圓周上讀取管理區(qū)的數(shù)據(jù)，調節(jié)再現(xiàn)信號的幅值(步驟1020)。完成上述流程后，光盤處于可讀/寫狀態(tài)。
當光盤處于可讀/寫狀態(tài)時，光拾取頭200沿著磁軌跡移動或慢慢地從內圓周平移至外圓周上，這樣可以防止光盤的數(shù)據(jù)被損壞，如果光拾取頭是固定的，可以使激光束照射在相同的位置上，也減少了接收驅動指令進行粗略跟蹤之后精確度的誤差率。
根據(jù)現(xiàn)有技術，在上述步驟1018-1020中，在調節(jié)上述步驟1018-1020的幅值之后，通過光拾取頭移動到內圓周，實現(xiàn)從內圓周平移至外圓周上的拖拽寫入操作，因此移動光拾取頭200需要花費過多時間。但是根據(jù)本發(fā)明的實施例，只需沿著從內圓周平移至外圓周上的方向移動，這樣可以大大縮短光拾取頭200的移動時間，此外，光拾取頭200移動至所需位置的定位時間少于常規(guī)的被動大距離移動定位的時間，使每次移動的距離可最小。
在這種情況下，根據(jù)本發(fā)明的實施例，每次的移動距離可以減小，于是提高了光拾取頭的使用效率，可以縮短達到可讀/寫狀態(tài)所需要的時間。
在精調聚焦位置修正值的重放操作期間，在精調聚焦位置修正值之前，跟蹤驅動必須相對于RAM區(qū)來實施控制。
下面說明補償半導體激光器210的功率不足的方法，這種情況一般發(fā)生在精確調節(jié)信號FE的寫入操作中，例如步驟1019的托拽寫入操作過程。
通常，人們發(fā)現(xiàn)，如果工作在室溫為50℃的條件下，光盤機不能進入可讀/寫狀態(tài)。通過對此現(xiàn)象的研究和探討，發(fā)現(xiàn)主要原由是在精確調節(jié)信號FE的寫入操作中，半導體激光機的功率不足。例如，可認為在超載的裝置狀態(tài)下I-L(在電流和半導體激光機的功率之間的關系)下降約30％，盡管可以通過增加功率能夠解決或克服此問題，但是由于功率是記錄和再現(xiàn)光盤上的數(shù)據(jù)的非常重要的因素，所以增加功率可能造成數(shù)據(jù)不希望有的損壞，特別是在0℃左右，如果功率提高，容易造成數(shù)據(jù)損壞。
下面參照圖10說明測試的結果。在圖10中，水平軸表示裝置的環(huán)境溫度，垂直軸表示信號的幅值(DAC信號值)。例如，在電流是常數(shù)的情況，上述半導體激光器210的正常幅值的變化與環(huán)境溫度的上升成反比，即隨環(huán)境溫度的上升而下降。如果對此進行I-L補償，可以獲得信號幅值基本上不變的目標值，例如，在室溫為50℃的條件下，通過1.10的補償可以獲得目標信號幅值。
在本實施例中，根據(jù)FE精調圖譜處理一個記錄道(大約4個扇區(qū))，可以進行預寫，根據(jù)這個通過圖1所示的正面光接收元件(正面檢測器)261獲得的正面檢測器數(shù)值，對電流和電壓進行調節(jié)，使其等于初始設置的值，即功率調節(jié)值范圍在±10％之內，并且記錄或存入已經(jīng)調節(jié)的FE精調圖譜。在本實施例中，上述調節(jié)過程發(fā)生在步驟1019之前，如圖9所示，復位寫入到內圓周上。
如前所示，上述正面光接收元件261向激光驅動裝置500反饋一個預定的信號，這個通過正面光接收元件261獲得的信號與當前的再現(xiàn)目標電壓進行比較，直到等于該電壓值。利用這種反饋回路，當再現(xiàn)信息時，使半導體激光裝置的發(fā)射光的強度被控制成一個常數(shù)，本實施例為此目的，在記錄之前的預先寫入階段提供一個電壓檢測裝置，不過，電流當前值的范圍從50％上升到上述功率調節(jié)值130％，如果超過50％-130％的范圍之外，則提供一種保護，迫使電流值被設置在50％或者130％。
現(xiàn)在參照圖11說明工作流程，在本發(fā)明的光盤機中，當讀取初始設置值(步驟1101)后，讀取精細學習控制溝槽部分的FE信號的數(shù)據(jù)(步驟1102)，在從上述學習控制的記錄道位置開始的1個記錄道(大約4個扇區(qū))的位置處預先寫入(步驟1103)，執(zhí)行一個試驗寫入的標準功率的子程序，讀出在預先寫入時已寫入的數(shù)據(jù)(步驟1104)，計算出由上述正面光接收元件261獲得的正面檢測器數(shù)值的DAC功率(步驟1105)，在這種情況下，如果在上述步驟1104的讀取過程中發(fā)生錯誤，則重試讀取另一個記錄道。接著，確定上述計算結果的電流當前值是否在功率調節(jié)值(出廠值)的50％-130％的允許范圍內(步驟1106)，如果確定該值是在允許范圍內，將DAC的功率設置值提高10％(步驟1107)，如果確定該值不在允許范圍內，設置為臨界值(步驟1112)。在步驟1107之后，已增加10％的功率調節(jié)值施加到記錄道記錄槽部分上，執(zhí)行FE信號精細學習控制過程(步驟1108)及執(zhí)行FE信號精細學習控制的再現(xiàn)部分的程序(步驟1109)。
然后，確定扇區(qū)數(shù)目是否等于或者小于5個，而且這些扇區(qū)是指其內根據(jù)上述再現(xiàn)部分的程序所獲得的值小于1/3幅值(步驟1110)的那些扇區(qū)。如果判斷結果是“YES”，執(zhí)行在溝槽側進行FE精細調節(jié)的程序(步驟1111)，如果判斷結果是“NO”，則轉換到另一個記錄道(步驟1113)，并且將DAC功率設置值進一步提高10％(步驟1114)，轉而執(zhí)行步驟1108。
如果1/3幅值的情況出現(xiàn)在多于5個扇區(qū)，在其他記錄道上重試操作。
因此根據(jù)本發(fā)明的實施例，執(zhí)行預先寫入的專用區(qū)被制備或提供，它與拖曳寫入?yún)^(qū)是分離的，數(shù)量上也較少。因此可以利用這種寫入?yún)^(qū)提高寫入操作的效率(例如100,000次)，由于預先寫入是一種短時間的寫入操作，通過在RAM區(qū)上預先寫入和并非總是寫入專用區(qū)內可以進一步提高上述效率。此外，預先寫入的專用區(qū)位于拖曳寫入?yún)^(qū)的內側，這是考慮了光拾取頭易于從內圓周移動到外圓周的因素。
根據(jù)本發(fā)明的實施例，例如，上述安置在寫入?yún)^(qū)121內的專用區(qū)是在上述RAM區(qū)120之內，更具體的說，存有裝置信息的區(qū)121B總共包括大約112條記錄道線，它們是分別提供的，即28線用于預先寫入?yún)^(qū)(FE微調)、70線用于復位寫入?yún)^(qū)和14線用于從內側到外側的保存。
在這種方式下，根據(jù)本發(fā)明實施例采用預先寫入的過程中，首先執(zhí)行一個短的聚焦信號(即預先寫入)，在讀出預先寫入的內容期間，復位一次，然后執(zhí)行一個長的聚焦信號，即重復上述操作多次，直到獲得最佳聚焦狀態(tài)。
上述使用預先寫入的流程必須是在判斷光盤狀態(tài)直到達到可讀出/寫狀態(tài)之后才進行，如果不能寫入，可在重試之前進入預先寫入的流程。
下面將結合附圖12-18說明本發(fā)明的控制光盤機聚焦的方法。
圖12是說明這種聚焦控制方法的流程圖；圖13是解釋采用圖12所示的聚焦控制方法在相應的凹坑地址可識別區(qū)上識別的示意圖；圖14是說明用于聚焦控制的學習控制方法的流程圖；圖15是解釋根據(jù)圖14所示的學習控制方法設置對每個扇區(qū)的優(yōu)化FE偏置值的示意圖；圖16是解釋根據(jù)圖14所示的學習控制方法平均設置的優(yōu)化FE偏置值的示意圖。
圖17是說明根據(jù)又一實施例的用于聚焦控制的學習控制方法的流程圖；圖18是解釋根據(jù)圖14所示的學習控制方法設置對每個扇區(qū)的優(yōu)化FE偏置值的簡化示意圖，其中設置最大幅值和一個漸減率。
首先，圖12所示的流程圖是在圖14所示的學習控制完成前執(zhí)行的，因而需預先設置在學習控制過程中聚焦位置的可應用區(qū)域。這個流程是與光再現(xiàn)裝置接通電源的同時開始的，例如，它根據(jù)如圖7所示的各種輸出信號及上述陸地區(qū)和溝槽區(qū)的情況分別進行。
在這個流程圖中，啟動后設置聚焦誤差(FE)的位置修正值的初始值(步驟S11)。即，由微計算機400設置D/A變換器313和316的初始值，它們在成品出廠時存入EPROM中。此后，微計算機400根據(jù)該初始設置值(0)控制執(zhí)行一系列操作步驟(例如16步，從+8步到-8步)，如圖13所示，并且通過相應步驟中修正上述聚焦誤差(FE)的位置修正值，改變聚焦定位。然后判斷在多個聚焦位置上的凹坑地址區(qū)內凹坑再現(xiàn)的情況，這種凹坑再現(xiàn)判斷的條件是采用如圖8(A)所示的ID識別信號，即判斷ID信號在記錄道的一圈區(qū)域上是否是連續(xù)的，或者對在一個記錄道內的扇區(qū)數(shù)進行識別?；蚩蛇x擇的，在一個記錄道中可檢測的扇區(qū)數(shù)目也可作為判斷的條件。
也就是說，在圖12中，位置修正值從0向下到-8逐步設置(步驟S12)，然后在每個聚焦位置的上述BIT地址區(qū)PA內識別凹坑P,P…，從而確認凹坑地址是否可以再現(xiàn)(步驟S13)，如果判斷出凹坑地址可以被再現(xiàn)(圖中用OK表示)，存入比位置修正值(步驟S14)，重復這個操作過程直到凹坑地址不可能被再現(xiàn)為止(即NG)。此后，執(zhí)行上述相同的方式，位置修正值從0向上到+8逐步設置(步驟S15)，然后確認凹坑地址是否可以再現(xiàn)(步驟S16)，如果判斷出凹坑地址可以被再現(xiàn)存入此位置修正值(步驟S17)，重復這個操作過程直到凹坑地址不可能被再現(xiàn)為止(即NG)，最后，設置凹坑地址可識別或可確認區(qū)(步驟S18)，在這個區(qū)內的位置修正值可用于學習控制過程，即具有這些位置修正值的凹坑地址可以被識別出，于是流程處理完畢。
結果，在凹坑地址區(qū)PA內的凹坑P,P…的部位可以被精確確認，這一過程是在聚焦定位控制時根據(jù)初始位置修正值(0)從-8直到+8的多個步驟實現(xiàn)的。詳細的說，在圖9(A)中，例如由于“NG”在聚焦控制的步驟-8和+5是處在陸地區(qū)，因此在凹坑地址區(qū)PA內的凹坑P,P…可以在從-7直到+4的步驟之間的范圍內被精確確認，由此，對于在陸地區(qū)的聚焦控制而言，通過在從-7直到+4的步驟之間的范圍內執(zhí)行學習控制過程，在保持凹坑地址能夠再現(xiàn)的過程中，可以將聚焦位置控制在最佳位置上。對于溝槽區(qū)的聚焦控制方式同上述過程，如圖9(B)所示，在從-4直到+7的步驟之間的范圍內執(zhí)行學習控制過程。
接著，結合圖14-18說明優(yōu)化控制上述分別記錄信息的陸地區(qū)和溝槽區(qū)的聚焦位置的學習控制方法。當插入的是一個未寫入的光盤時，激光驅動電路500在測試區(qū)工作，所述測試區(qū)設置在光盤的最內側圓周上和最外側圓周上。在學習控制過程中，由于記錄數(shù)據(jù)的再現(xiàn)信號的幅值具有相對的變化，設置記錄圖譜可以實現(xiàn)初始值的預先設定。
首先，圖14簡要說明了用于優(yōu)化聚焦定位控制的學習控制方法的流程圖。首先，再現(xiàn)數(shù)據(jù)(步驟S21)，在這種情況下，如圖8(A)所示，在每個扇區(qū)的頂部放置一個VFO區(qū)，其中存有包含一定寬度、被稱為“4T”的凹坑的預定圖譜，例如，在VFO區(qū)之后，在數(shù)據(jù)(DATA)區(qū)內寫入可以再現(xiàn)的記錄信息，通過照射到VFO區(qū)的反射光的強度控制，實現(xiàn)最佳聚焦位置的控制。也就是說，在這個VFO區(qū)上，再現(xiàn)信號具有如圖8(C)所示的波形，而從如圖7所示的信號包絡線檢測電路322輸出的包絡線波形如圖8(D)所示，即如果在上述光盤100的記錄表面上的反射系數(shù)是常數(shù)，在某一高度(電壓)上的信號總是恒定的。采用4T圖譜的原因是它相對于光盤類型的相變發(fā)生記錄圖形波動時所呈現(xiàn)的穩(wěn)定性，經(jīng)驗證明，在采用陸地-溝槽方法記錄和再現(xiàn)的最佳聚焦定位狀態(tài)，可以獲得這個4T圖譜的最大幅值。
正如圖7所示的，微計算機400在上述VFO周期內輸出采樣保持(S/H)信號，根據(jù)檢測出的再現(xiàn)信號的幅值，由采樣保持電路323加工成如圖8(D)所示高度的包絡線波形，本次的采樣保持(S/H)信號和包絡線波形的高度被相關加工，即檢測的再現(xiàn)信號的幅值如圖8(E)、(F)所示。
再回到圖14的最佳聚焦位置的學習控制方法，下面說明如何設置聚焦誤差信號(FE)的修正值(步驟S22)。這里修正值是指對在上述圖12的步驟S18中獲得的凹坑地址的可確認區(qū)范圍內再現(xiàn)的數(shù)據(jù)的修正，詳細的說，例如如圖9(B)所示，所述范圍能夠從-4直到+7在溝槽區(qū)(G)被設置，并且設置這個步驟修正值。
此后，如上所述，根據(jù)從多個扇區(qū)檢測出的再現(xiàn)信號的幅值，在每個扇區(qū)的信號幅值變?yōu)樽畲髸r，獲得聚焦誤差(FE)的修正值(步驟修正值)(步驟S23)，對由每個扇區(qū)獲得的聚焦誤差(FE)的修正值進行平均，求出光盤100的陸地區(qū)(L)和溝槽區(qū)(G)的聚焦誤差(FE)的最佳修正值FEoff(L)和FEoff (G)。
如上所述，光盤即記錄載體的圓周上一個扇區(qū)單元存在反射率不均勻問題，為此，如圖15所示，如果在各扇區(qū)(從扇區(qū)1-扇區(qū)17)檢測出的再現(xiàn)信號的幅值互不相同(見圖8(F))，首先收集由各扇區(qū)獲得的最佳FE修正值(取跨接徑向上多個圓周的一個扇區(qū)的FE修正值的平均值)，此后求出所有扇區(qū)的FE修正信號的平均值，求出最佳修正值FEoff(L)和FEoff(G)。對此圖16予以簡化的舉例說明，假設從扇區(qū)1-3分別獲得修正值-1、+1和+3，在該處檢測出的再現(xiàn)信號變?yōu)樽畲?，取它們的平均，得到最佳FE修正值+1。
可以采用各種方法得到最大幅值情況下的聚焦修正值，包括有限差分法，利用第二級曲線的近似性計算出最大位置；以及根據(jù)所得到近似為最大值的幅值對在修正位置左右遞減-1dB獲得的值取其半值的方法等。這里應當說明，所述根據(jù)所得到近似為最大值的幅值對在修正位置左右遞減預定值獲得的值取其半值的方法可參見圖17和圖18。
在圖17中，類似于如圖14所示的流程，先再現(xiàn)數(shù)據(jù)(步驟S31)，然后設置聚焦誤差信號的修正值(步驟S32)。
此后，根據(jù)檢測出的再現(xiàn)信號的幅值獲得幅值的近似最大值，對來自多個扇區(qū)的這種信號進行處理，根據(jù)幅值的近似最大值通過預定量的遞減求出的幅值，得到在兩側的修正位置(步驟S33、S34)。
現(xiàn)在參見圖18，在步驟S33中，確定究竟是從初始設置值(0)沿負向(1)還是正向(2)計算，然后確定比預定值低的幅值，例如，參見圖18，從步驟-1開始判斷，發(fā)現(xiàn)在步驟-3幅值減小，則確定是沿負向(1)計算，或在這里結束。接著從步驟+1開始，發(fā)現(xiàn)在步驟+7幅值減小，則確定是在正向(2)或在這里結束。
然后，在負向和正向的兩步之間取半值(步驟S35)。例如，在步驟-3和+7之間獲得半值+1，因此這個值可以認為是最佳修正值，這個值分別適用陸地區(qū)(L)和溝槽區(qū)(G)。
根據(jù)本發(fā)明的這個實施例，將其與圖14的實施例比較，驅動光盤轉動所需的檢測步驟數(shù)可以大大減少。盡管由于如圖14所示的不對稱波形的存在可能產(chǎn)生常規(guī)的檢測誤差，但是采用本實施例完成可以避免產(chǎn)生這種誤差。而且，采用本實施例，不是對所有初始值，只有根據(jù)順序檢測邏輯在一個方向上檢測出幅值減少預定值時，在此時間點處的判斷即結束或完成，因此可以縮短判斷時間。根據(jù)常規(guī)，這種判斷過程是從0到-8，然后從0到+8，因此本發(fā)明這個實施例的方法顯然比常規(guī)的按步就班從正向再負向的判斷要節(jié)省時間。這個方法甚至將負向和正向相互替換同樣是適用的。這個判斷方法也可以使用在圖13的判斷過程中。
如上所述，如果采用上述控制計算方法得到的優(yōu)化FE修正值超出了在步驟S22中設定的步驟范圍(即從-7到+4)，這個值將取范圍內的最接近的那個設定值，即取-7或者+4作為優(yōu)化FE修正值使用，采用這種方式，可以控制上述光拾取頭的聚焦位置總是處于最佳位置上，而且每次能夠正確讀出在凹坑地址區(qū)的地址信號。于是當?shù)刂沸畔⑷笔』蛘弑粨p壞時，不會使光盤機的整個操作失常，并且總是能夠獲得優(yōu)選的聚焦控制。
在上面的說明中多次提及學習控制過程，學習控制是指一種優(yōu)化聚焦定位控制的方法。不過，本發(fā)明并不僅僅局限于這種學習控制，也就是說，當如果采用的實現(xiàn)優(yōu)化聚焦定位控制的方法是其他控制方法，仍然可以將本發(fā)明的教導應用在所述方法中。
上述關于本發(fā)明實施例的說明只是涉及再現(xiàn)裝置及其工作流程，讀出預先記錄在光盤信息記錄載體100上的信息，但是本發(fā)明的教導并不局限在僅能夠重放(即只讀)的再現(xiàn)裝置，同樣可以適用于帶有寫入額外信息的光盤信息記錄載體的記錄/重放裝置。如果將本發(fā)明應用在帶有寫入額外信息的光盤信息記錄載體的記錄/重放裝置上，可以在重放操作時使用本發(fā)明的原理實現(xiàn)聚焦定位控制，也可以在寫入信息時使用如上所述的本發(fā)明的原理實現(xiàn)聚焦控制。在這種情況下，當讀盤時，由于能夠精確獲得存入光盤信息記錄載體的記錄表面上的地址信息，因此可以實現(xiàn)更優(yōu)化的讀信息操作效果。
權利要求
1．一種用于記錄和再現(xiàn)光盤上的信息的光盤機，包括用于識別光盤的裝置；用于讀出一個非可記錄區(qū)上的控制信息的裝置，所述非記錄區(qū)形成在所述光盤的內圓周上；用于實現(xiàn)在一個可記錄區(qū)上的聚焦控制信息的裝置，所述可記錄區(qū)形成在所述非可記錄區(qū)之外；用于調節(jié)再現(xiàn)信號的幅值的裝置，該信號來自所述可記錄區(qū)的內圓周；用于試驗寫入的裝置，寫入信息在所述可記錄區(qū)的內圓周上；用于試驗寫入的裝置，寫入信息在所述可記錄區(qū)的外圓周上；及用于調節(jié)再現(xiàn)信號的幅值的裝置，該信號來自所述可記錄區(qū)的外圓周，其中所述裝置生成相應的操作順序，控制所述光盤處于重放和記錄狀態(tài)。
2．根據(jù)權利要求1所述的光盤機，還包括用于預先寫入(采樣寫)的裝置，它在識別所述光盤的操作和在所述可記錄區(qū)的外圓周上試驗寫入的操作之間進行預先寫入操作。
3．一種使用光盤機記錄和再現(xiàn)在光盤上的信息和使光盤處于重放和記錄狀態(tài)的方法，包括下列步驟識別光盤；讀出一個非可記錄區(qū)上的控制信息，所述非記錄區(qū)形成在所述光盤的內圓周上；實現(xiàn)在一個可記錄區(qū)上的聚焦控制，所述可記錄區(qū)形成在所述非可記錄區(qū)之外；調節(jié)再現(xiàn)信號的幅值，該信號來自所述可記錄區(qū)的內圓周；實現(xiàn)試驗寫入信息在所述可記錄區(qū)的內圓周上；實現(xiàn)試驗寫入信息在所述可記錄區(qū)的外圓周上；及調節(jié)再現(xiàn)信號的幅值，該信號來自所述可記錄區(qū)的外圓周，其中所述裝置生成相應的操作順序，控制所述光盤處于重放和記錄狀態(tài)。
4．根據(jù)權利要求3所述的方法，還包括用于預先寫入(采樣寫)的步驟，它在識別所述光盤的操作和在所述可記錄區(qū)的外圓周上試驗寫入的操作之間進行預先寫入操作。
全文摘要
一種光盤機,帶有至少兩個聚光透鏡,用于記錄和再現(xiàn)在光盤上的信息,包括:用于識別光盤的裝置;用于讀出一個非可記錄區(qū)上的控制信息的裝置,所述非記錄區(qū)形成在內圓周上;用于實現(xiàn)在一個可記錄區(qū)上的聚焦控制信息的裝置,所述可記錄區(qū)形成在非可記錄區(qū)之外;用于調節(jié)再現(xiàn)信號的幅值的裝置,該信號來自所述可記錄區(qū)的內圓周;用于試驗寫入的裝置,寫入信息在所述可記錄區(qū)的內圓周上:用于試驗寫入的裝置,寫入信息在外圓周上;及用于調節(jié)再現(xiàn)信號幅值的裝置,該信號來自所述可記錄區(qū)的外圓周,其中所述裝置生成相應的操作順序,控制所述光盤處于重放和記錄狀態(tài)。還包括用于預先寫入(采樣寫)的裝置,它在識別所述光盤的操作和在所述可記錄區(qū)的外圓周上試驗寫入的操作之間進行預先寫入操作。這種光盤機具有短工作周期和能夠可靠工作。
文檔編號G11B7/005GK1236158SQ9910739
公開日1999年11月24日 申請日期1999年4月14日 優(yōu)先權日1998年4月14日
發(fā)明者山崎茂樹, 峰邑浩行, 杉山久貴, 伏見哲也, 板垣誠 申請人:株式會社日立制作所, 日立軟件工程株式會社