專利名稱：：盤片驅(qū)動單元的制作方法
技術(shù)領域：
：本發(fā)明涉及盤片驅(qū)動單元。迄今為止，已有通過把激光照射到諸如盤片的記錄媒體來記錄/再現(xiàn)數(shù)據(jù)的多種設備。例如，作為這種光盤記錄媒體，已發(fā)展了適于多媒體使用的CD(緊致盤片)型盤片和被稱為DVD(數(shù)字通用(versatile)盤片/數(shù)字視頻盤片)的盤片。適應那些光盤的記錄裝置把由記錄數(shù)據(jù)調(diào)制的激光照射到盤片上的磁道上來例如運用相位改變記錄法記錄數(shù)據(jù)。然而，由于例如通過無保護的方法(nakedmanner)處理DVD本身，所以有可能當用戶使用盤片時盤片的表面聚集了灰塵或被刮傷。這種灰塵和刮痕(下面，將在盤片的表面上的諸如灰塵和刮痕的那些將稱為污染物(contaminant))變成阻擋激光的一種因素。當在上述盤片的表面上的污染物阻擋激光時，到達記錄平面的光量下降，從而導致不能正確地記錄數(shù)據(jù)的情況。此外，由于在盤片制造處理過程中，在記錄平面上的污染物或缺陷(defect)使得從盤片反射的光量改變。因此，穩(wěn)定地執(zhí)行聚焦伺服控制和循跡伺服控制變得很難，這是因為它不能獲得正常聚焦誤差信號，循跡誤差信號，等等。于是，通過例如根據(jù)從盤片反射的光量變化檢測這種缺陷并保持伺服信號或者停止記錄操作一次來例如根據(jù)檢測結(jié)果重新嘗試，可以獲得正常記錄條件。然而，通過把從諸如主機的外設設備提供的存儲器數(shù)據(jù)一次存儲在設在盤片驅(qū)動單元內(nèi)的緩沖器存儲器中，并通過讀取存儲在緩沖器存儲器中的記錄數(shù)據(jù)，執(zhí)行盤片驅(qū)動單元的記錄操作。即，當重試次數(shù)增加時，從緩沖器存儲器讀取記錄數(shù)據(jù)的頻率降低。因此，特別當記錄實時連續(xù)提供的圖象數(shù)據(jù)(視頻數(shù)據(jù))時，讀出的數(shù)據(jù)量相對于讀入的數(shù)據(jù)量降低，緩沖器存儲器的存儲區(qū)已充滿，而且可能丟失一些數(shù)據(jù)。即，存在著重試次數(shù)增加的問題，而且當在盤片表面上的污染物增加時穩(wěn)定地執(zhí)行記錄操作變得很難。為了解決這些問題，根據(jù)本發(fā)明，盤片驅(qū)動單元包括包括；光頭裝置，用于通過物鏡把激光照射到裝載的盤片記錄媒體，從而至少照射記錄數(shù)據(jù)；物鏡驅(qū)動機構(gòu)，用于根據(jù)某些控制信號，沿著接觸/分開至/自盤片記錄媒體的方向以及所述盤片記錄媒體的半徑方向，移動所述物鏡；反射光量檢測裝置，用于檢測照射到所述盤片記錄媒體的光束的反射光量；光量減少速度鑒別裝置，用于鑒別由所述反射光量檢測裝載檢測到的所述光量的減小速度是否快于某一時間常數(shù)；和激光輸出控制裝置，用于根據(jù)所述光量減小速度鑒別裝置的所述鑒別結(jié)果，控制所述激光的輸出大小。盤片驅(qū)動單元還包括包括光頭裝置，用于通過物鏡把激光照射到裝載的盤片記錄媒體，從而至少記錄數(shù)據(jù)；輸出光量檢測裝裝置，用于檢測從所述物鏡輸出的激光的輸出光量；反射光量檢測裝置，用于檢測照射到所述盤片記錄媒體的光束的反射光量；和輸出光量控制裝置，用于控制所述輸出光量的輸出大小，從而所述輸出光量和所述反射光量的乘積變成預定值。本發(fā)明允許根據(jù)來自盤片記錄媒體的反射光量的變化速度鑒別反射光量的變化。于是，它允許對應于反射光量的變化進行所需控制。還可以通過使激光與來自盤片記錄媒體的反射光的乘積保持一定，來保持到達盤片記錄媒體的記錄平面的激光量。從下面的說明和附圖，本發(fā)明的特定本質(zhì)以及其他目的、用途和優(yōu)點將顯而易見。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的盤片驅(qū)動單元的主要部分的方框圖；圖2是用于解釋從物鏡輸出的光束和在盤片上的光束的照明區(qū)的直徑的圖示；圖3是用于解釋在盤片的表面上的灰塵和在盤片的記錄平面上的缺陷的示圖；圖4是用于解釋反射光鑒別(discriminating)部分的結(jié)構(gòu)例子的示圖；圖5A至圖5G是示出在反射光鑒別部分中的各區(qū)域的信號波形的示圖；和圖6是示出根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的盤片驅(qū)動單元的主要部分的方框圖。下面，將解釋本發(fā)明的盤片驅(qū)動單元的實施例。裝載在該例子的盤片驅(qū)動單元中的光盤可以是諸如CD-R的CD型盤片和稱為DVD(數(shù)字通用盤片/數(shù)字視頻盤片)的盤片。本發(fā)明還適用于適應其他類型光盤的盤片驅(qū)動單元。圖1是示例盤片驅(qū)動單元的主要部分的方框圖。這種盤片驅(qū)動單元實施與來自連接主機100的請求相對應的數(shù)據(jù)記錄/再現(xiàn)操作。例如，盤片90是DVD型盤片或諸如CD-R和CD-ROM的CD型盤片。把盤片90安裝在轉(zhuǎn)臺(turntable)7上并由在記錄/再現(xiàn)數(shù)據(jù)中的拾取器(pickup)1以恒定的線速度(CLV)或恒定角速度(CAV)旋轉(zhuǎn)它。拾取器1讀取以壓紋坑點(embosspit)模式或相位變化坑點(phasechangepit)(記號)模式記錄在盤片90中的數(shù)據(jù)，或記錄/擦除數(shù)據(jù)，如相位變化坑點(記號)。在拾取器1中形成的是作為激光源的激光二極管4、用于檢測反射光的光檢測器5、作為激光輸出端的物鏡2和用于通過物鏡2把激光照射到盤片記錄平面并引導反射光到光檢測器5的光學系統(tǒng)。通過雙軸機構(gòu)3沿著循跡和聚焦方向可移動地保持物鏡2。還通過滑動機構(gòu)(sleddingmechanism)8沿著盤片半徑方向可移動地保持整個拾取器1。光檢測器5檢測來自盤片90的反射光的信息，并向RF放大器9提供它作為與接收光量相對應的電信號，其中通過照射激光可在再現(xiàn)/記錄數(shù)據(jù)中獲得上述信息。RF放大器9包括電流-電壓變換電路、矩陣計算/放大器電路和與來自諸如光檢測器5的多個光接收元件的輸出電流相對應的其他元件，以通過矩陣計算處理產(chǎn)生所需信號。例如，它產(chǎn)生作為再現(xiàn)數(shù)據(jù)的RF信號、用于伺服控制的聚焦誤差信號FE、循跡誤差信號TE或作為反射光的總和信號的進入信號(pull-insignal)PI。向二進制電路11提供從RF放大器9輸出的RF信號，同時向伺服處理器14提供聚焦誤差信號FE和循跡誤差信號TE。設置反射光鑒別部分23，以便能夠根據(jù)進入信號PI的電平變化速度，鑒別在盤片的表面上的污染物(灰塵，刮痕、等等)或記錄平面的缺陷，如下詳述，并向系統(tǒng)控制器10提供鑒別信號。在再現(xiàn)來自盤片90的數(shù)據(jù)的操作過程中，通過由二進制電路11二進制化(binarize)，把由RF放大器9獲得的RF信號轉(zhuǎn)換成所謂的EFM信號(8-14調(diào)制信號在CD型盤片的情況下)或EFM+信號(8-16調(diào)制信號在DVD型盤片的情況下)，并向編碼器/解碼器12提供它。編碼器/解碼器12根據(jù)需要實施EFM解調(diào)和誤差校正處理或者CD-ROM解碼和MPEG解碼處理，以再現(xiàn)從盤片90讀取的信息。通過緩沖器管理器21的操作，把由編碼器/解碼器12解碼的數(shù)據(jù)存儲在高速緩沖存儲器20中，以實施寫到/讀自高速緩沖存儲器20的處理。即，執(zhí)行所謂的緩沖操作。傳遞從高速緩沖存儲器20中緩沖的數(shù)據(jù)，而且輸出它作為來自再現(xiàn)單元的再現(xiàn)輸出。注意，在系統(tǒng)控制器10(作為固件控制)的控制下，傳遞來自高速緩沖存儲器20的數(shù)據(jù)輸出。把接口部分13與外設主機100相連來發(fā)送再現(xiàn)數(shù)據(jù)和在主機100之間傳播讀取命令。即，通過接口部分13傳遞存儲在高速緩沖存儲器20中的再現(xiàn)數(shù)據(jù)，并輸出到主機100。通過接口部分13向系統(tǒng)控制器10提供來自主機100的讀取命令和其他信號。伺服處理器14根據(jù)來自RF放大器9的聚焦誤差信號FE和循跡誤差信號TE以及來自編碼器/解碼器12或系統(tǒng)控制器10的主軸誤差信號SPE，產(chǎn)生聚焦、循跡、滑塊(sled)和主軸的各種伺服驅(qū)動信號，以執(zhí)行伺服操作。即，它產(chǎn)生與聚焦誤差信號FE和循跡誤差信號TE相對應的聚焦驅(qū)動信號和循跡驅(qū)動信號，來向雙軸驅(qū)動器16提供。雙軸驅(qū)動器16驅(qū)動在拾取器1中的雙軸機構(gòu)3的聚焦和循跡線圈。從而，由拾取器1、RF放大器9、伺服處理器14、雙軸驅(qū)動器16和雙軸機構(gòu)3構(gòu)成循跡伺服環(huán)路和聚焦伺服環(huán)路。注意，雖然在聚焦誤差信號FE為零的點和可能最有效地從盤片90再現(xiàn)信息的點(即，再現(xiàn)RF信號的幅度最大的點)必須理想地相同，但是實際上這些點相互偏離。將這種偏離稱為聚焦偏移(bias)，而且控制伺服系統(tǒng)，從而通過安排它從而把與聚焦偏移相對應的偏置電壓加到聚焦誤差信號FE，把聚焦狀態(tài)會聚在再現(xiàn)RF信號的幅度最大的點上。循跡偏移同樣存在于循跡誤差信號TE中。伺服處理器14還向主軸馬達驅(qū)動器17提供與主軸誤差信號SPE相對應產(chǎn)生的主軸驅(qū)動信號。與主軸驅(qū)動信號相對應，主軸馬達驅(qū)動器17例如向主軸馬達6提供三相驅(qū)動信號，來執(zhí)行主軸馬達6的CLV旋轉(zhuǎn)。伺服處理器14還產(chǎn)生與來自系統(tǒng)控制器10的主軸跳動/制動(kick/brake)控制信號相對應的主軸驅(qū)動信號，來使得主軸馬達驅(qū)動器17執(zhí)行諸如啟動和停止的主軸馬達6的操作。伺服處理器14產(chǎn)生作為循跡誤差信號TE的低范圍分量所獲得的滑塊誤差信號，并根據(jù)來自系統(tǒng)控制器10訪問執(zhí)行的控制，來產(chǎn)生滑塊驅(qū)動信號，以向滑塊驅(qū)動器15提供。與滑塊驅(qū)動信號相對應，滑塊驅(qū)動器15驅(qū)動滑動機構(gòu)8。雖然圖未示，但是滑動機構(gòu)8具有這樣的機構(gòu)，它包括用于保持拾取器1的主軸(shaft)、滑塊馬達、傳送齒輪，等等。根據(jù)滑塊驅(qū)動器15對應于滑塊驅(qū)動信號驅(qū)動滑塊馬達8的需要，滑動地移動拾取器1。激光驅(qū)動器18驅(qū)動在拾取器1中的激光二極管4，從而照射激光。在執(zhí)行用于至/自盤片90的記錄/再現(xiàn)數(shù)據(jù)的操作過程中，系統(tǒng)控制器10設定在自動功率控制電路(下面，稱為APC電路)19中的激光功率的控制值，而且APC電路19控制激光驅(qū)動器18，從而輸出與激光功率值相對應的激光。在用于把數(shù)據(jù)記錄到盤片90的操作過程中，把對應于記錄數(shù)據(jù)調(diào)制的信號加到激光驅(qū)動器18。例如，在把數(shù)據(jù)記錄到可記錄型的盤片90的過程中，在經(jīng)歷添加誤差校正碼、EFM+調(diào)制、NRZI調(diào)制和由編碼器/解碼器12執(zhí)行的其他處理之后，向激光驅(qū)動器18提供從主機100向接口部分13提供的記錄數(shù)據(jù)。于是，當激光驅(qū)動器18導致激光二極管4對應于記錄數(shù)據(jù)照射激光時，把數(shù)據(jù)記錄到盤片90。由微機構(gòu)成的系統(tǒng)控制器10控制各種操作，諸如上述的伺服、解碼和編碼。例如，作為對一系列再現(xiàn)操作的控制，系統(tǒng)控制器10向伺服處理器14發(fā)出命令作為對應于來自主機100的讀取命令，讀取所需數(shù)據(jù)部分的操作，而且使得拾取器1根據(jù)讀取命令，通過把目標指向需要傳遞的數(shù)據(jù)部分執(zhí)行訪問操作。于是，在訪問結(jié)束之后，系統(tǒng)控制器10使得伺服處理器14讀取數(shù)據(jù)，使得編碼器/解碼器12和高速緩沖存儲器20執(zhí)行所需處理和控制，從而將來自接口部分13的再現(xiàn)數(shù)據(jù)(所需數(shù)據(jù))傳遞到主機100。在控制記錄操作時，系統(tǒng)控制器10向伺服處理器14發(fā)出命令，作為用于寫入對應于來自主機100的寫命令的所提供數(shù)據(jù)，以使得拾取器1執(zhí)行用于訪問寫入起始位置的操作。于是，在結(jié)束訪問之后，系統(tǒng)控制器10使得高速緩沖存儲器20、編碼器/解碼器12、激光驅(qū)動器18和其他執(zhí)行所需處理來把記錄數(shù)據(jù)(所提供數(shù)據(jù))記錄到盤片90。圖2是用于解釋從物鏡2輸出的光束照射在表面上的區(qū)域尺寸與盤片90的記錄平面的關系的圖解。應注意，該圖是平面圖，而且通過它的直徑示出照射光束的區(qū)域。在該圖中，將物鏡2的數(shù)值孔徑NA(sinθ)標為NAo，把盤片襯底90c的折射率標為n1，把從盤片的表面90a到記錄平面90b的厚度標為t和把當盤片90旋轉(zhuǎn)時的線速度標為V。在這種情況下，假定從物鏡2輸出的光束聚焦到記錄平面90b上，可將光束照射在盤片的表面90a的區(qū)域的直徑Ds表示如下DS=2t(NAonl)1-(NAonl)(NAonl)----(1)]]>當光束的波長是λ時，可將光束照射到記錄平面90b上的焦點的照射區(qū)域直徑Df表示如下Df＝1/NA例如，在DVD的情況下，NAo＝0.6，n1＝1.55，t＝0.6和λ＝650nm，從而Ds＝0.50mm和Df＝1.08μm。這里，假設與照射到盤片表面90a的光束的直徑Ds相比較足夠大的帶狀污染物95幾乎完全吸收光束，如圖3a的圖解所示，可將當光束開始被阻擋到它幾乎完全被阻擋的時間ts表示如下ts＝Ds/V當在該例子中V＝5.0m/s時，ts＝100μs。還假設與照射到記錄表面90b的光束的直徑Df相比較足夠大的帶狀缺陷96幾乎完全吸收光束，如圖3b的圖解所示，例如，從光束開始被阻擋到它完全被阻擋的時間tf表示如下tf＝Df/V當在該例子中V＝5.0m/s時，tf＝216ns。因此，在進入信號PI的電平減小時間出現(xiàn)反射光量變化，并可表示如下ts＞tf即，根據(jù)與進入信號PI的電平變化相對應的時間，可以鑒別在盤片表面90a上的污染物95與記錄平面90b的缺陷96。注意，圖解示出在圖3b中的記錄平面90b中所示的缺陷96，來解釋它的位置和尺寸。圖4是用于解釋反射光鑒別部分23的結(jié)構(gòu)例子的方框圖，其中上述反射光鑒別部分23根據(jù)從RF放大器9輸出的進入信號PI鑒別污染物95與缺陷。注意，在標為(a)至(g)的區(qū)域中的信號波形分別與圖5A至5G中的信號相對應。在圖5A中的進入信號PI示出例如受缺陷96和污染物95的影響的條件，以及其程度隨著上述時間ts或時間tf而變化。向具有某一時間常數(shù)的微分器(differentiator)41提供圖5A中的這樣進入信號PI，然后向電平比較器42提供作為在反射光鑒別部分23中的圖5B中的差分信號。通過使得時間常數(shù)幾乎在時間tf和時間ts的中點處，形成該微分器41。電平比較器42用某一參考值ref二進制化(binarize)圖5B中的差分信號，并輸出圖5C中的二進制信號。即，由于在微分器41中設定幾乎在時間tf和時間ts的中點處的時間常數(shù)，所以在圖5C中的二進制信號是與相對快速減小的電平相對應的信號。電平比較器43通過某一參考值ref對在圖5A中的進入信號PI二進制化，而且輸出圖5D中的二進制信號。在圖5D中的該二進制信號是與圖5A中的進入信號PI的電平變化相對應的輸出。由倒相器(inverter)44對來自電平比較器42的圖5C的二進制信號倒相，然后向RS觸發(fā)器45的置入端提供。將向RS觸發(fā)器45的復位端以及或門46提供來自電平比較器43的在圖5D中的二進制信號。通過用圖5C中的二進制信號設置并通過用圖5D中的二進制信號復位，RS觸發(fā)器45輸出與由在圖5A中的進入信號PI中的記錄平面90b的缺陷所致的電平變化相對應的在圖5E中的缺陷檢測信號。即，在圖5E中的輸出信號是這樣的輸出信號，即例如對應于由在圖5A中的進入信號PI中的記錄平面90b的缺陷所致的電平變化，轉(zhuǎn)向低電平。向或門46提供RS觸發(fā)器45的在圖5D中的二進制信號和在圖5F中的反相信號，來輸出各信號的邏輯和。即，將在圖5D中的二進制信號為在或門46中的圖5F中的反相信號所掩蓋，以形成圖5G中的污染物檢測信號。在圖5G中的該污染物檢測信號是這樣的輸出信號，即它對應于由在圖5A中的進入信號PI中的盤片表面90a上的污染物95所致的電平變化，轉(zhuǎn)向低電平。反射光鑒別部分23如上所述產(chǎn)生在圖5E中的缺陷檢測信號，以及圖5G中的污染物檢測信號，并向系統(tǒng)控制器10提供。當例如在圖5G中的污染物檢測信號處于低電平，系統(tǒng)控制器10控制APC電路19來增加從激光二極管4輸出的激光量，來補償由污染物導致減小的反射光量。它允許將在記錄平面90b上的焦點處的光量保持在預定程度，而且可以減小記錄條件惡化的程度。通過假設在記錄平面90b上檢測到缺陷96，當在圖5E中的缺陷檢測信號處于低電平時，系統(tǒng)控制器10驅(qū)動雙軸機構(gòu)3，同時保持聚焦驅(qū)動信號和循跡驅(qū)動信號。它允許抑制聚焦伺服和循跡伺服由于該缺陷而偏離。注意，可以驅(qū)動拾取器1，同時保持在一些情況下的滑塊誤差信號。當在圖5E中的缺陷檢測信號的低電平期間持續(xù)大于預定時間，系統(tǒng)控制器10重試記錄操作。由于如上所述根據(jù)進入信號PI的電平變化速度可以鑒別在盤片90上的污染物95和缺陷96，所以可以通過增加激光量來連續(xù)進行記錄，而無需當在盤片表面90a上檢測到污染物95時重新嘗試。即，可以穩(wěn)定記錄，同時當把諸如視頻圖象的對應于實時的數(shù)據(jù)記錄在其表面90a上具有大量污染物的盤片90上時抑制重試的次數(shù)。同樣當由于在這種情況下重試記錄操作，所以當在某一程度時間內(nèi)連續(xù)檢測到缺陷時，可以實現(xiàn)穩(wěn)定記錄操作。注意，雖然在實施例的描述中例示了記錄數(shù)據(jù)的情況，但是本發(fā)明同樣可用于再現(xiàn)數(shù)據(jù)的情況。即，當由于污染物等阻擋使得不能獲得良好的再現(xiàn)信號時，通過增加來自激光二極管4的激光量，可以保持到達記錄平面的激光量。順便說一下，例如，由系統(tǒng)控制器10設定的APC電路19的控制值控制從激光二極管4輸出的激光功率。于是，可以在APC電路19的控制下獲得預定的激光輸出，即使當由于污染物等使得來自盤片90的反射光量減小以及從激光二極管4輸出的激光量之差變大。在這種情況下，例如，如圖6所示，在拾取器1中形成用于檢測從激光二極管4輸出的激光量的光檢測器50和用于相對于光檢測器50引導從激光二極管4輸出的激光(輸出光)的光學系統(tǒng)。于是，計算由用于檢測來自盤片90的激光的光檢測器5檢測到信號與由用于檢測來自激光二極管4的輸出光量的光檢測器50檢測到的信號乘積，以根據(jù)該乘積控制APC電路19。即，向積分器部分60提供由光檢測器5檢測到并通過RF放大器9的檢測信號D1和由光檢測器50檢測到并通過放大器51的檢測信號D2，而且例如向系統(tǒng)控制器10提供由積分器部分60求積分的積分信號D3。雖然系統(tǒng)控制器10設定在APC19處的激光功率的控制值，如圖1所示，但是它設定控制值，其中上述控制值允許獲得使積分信號D3變成預定值的激光量。從而，當例如由于污染物導致來自盤片90的反射光量減小時，在APC電路19處設定增加激光的控制值。即，通過根據(jù)積分信號D3執(zhí)行APC電路19的控制，系統(tǒng)控制器10可以保持到達記錄平面90a的激光量。于是，通過根據(jù)檢測信號D1和D2的積分信號D3控制APC電路19，可以對應于污染物等控制激光信號，而不較明顯改變電路。因此，可以實現(xiàn)穩(wěn)定記錄操作，而不執(zhí)行重試，即使例如在盤片90的表面上存在污染物的時候。該例子還可用于再現(xiàn)數(shù)據(jù)。即，當由于污染物阻擋等使得不能獲得良好的再現(xiàn)信號時，通過增加來自激光二極管4的激光量，可以保持到達記錄平面的激光量。雖然已描述較佳上述實施例，但是對于熟悉本
技術(shù)領域：
的人員而言，對其的變化落在由下列權(quán)利要求書所描述的本發(fā)明的構(gòu)思范圍內(nèi)。權(quán)利要求1.一種盤片驅(qū)動單元，其特征在于，包括；光頭裝置，用于通過物鏡把激光照射到裝載的盤片記錄媒體，從而至少照射記錄數(shù)據(jù)；物鏡驅(qū)動機構(gòu)，用于根據(jù)某些控制信號，沿著接觸/分開至/自所述盤片記錄媒體的方向以及所述盤片記錄媒體的半徑方向，移動所述物鏡；反射光量檢測裝置，用于檢測照射到所述盤片記錄媒體的光束的反射光量；光量減小速度鑒別裝置，用于鑒別由所述反射光量檢測裝置檢測到的所述光量的減小速度是否快于預定值；和激光輸出控制裝置，用于根據(jù)所述光量減小速度鑒別裝置的所述鑒別結(jié)果，控制所述激光的輸出大小。2.如權(quán)利要求1所述的盤片驅(qū)動單元，其特征在于，所述激光輸出控制裝置進行控制，從而當作為所述光量減小速度鑒別裝置的鑒別結(jié)果，所述光量的減小速度慢于預定值時，增加所述激光的輸出大小。3.如權(quán)利要求1所述的盤片驅(qū)動單元，其特征在于，還包括物鏡控制裝置，用于保持伺服信號，以當所述反射光量檢測裝置檢測到反射光量減小時控制所述物鏡的操作。4.如權(quán)利要求3所述的盤片驅(qū)動單元，其特征在于，還包括記錄控制裝置，用于當反射光量在超出預定時間內(nèi)持續(xù)減小時，重試記錄操作。5.一種盤片驅(qū)動單元，其特征在于，包括光頭裝置，用于通過物鏡把激光照射到裝載的盤片記錄媒體，從而至少照射記錄數(shù)據(jù)；輸出光量檢測裝裝置，用于檢測從所述物鏡輸出的激光的輸出光量；反射光量檢測裝置，用于檢測照射到所述盤片記錄媒體的光束的反射光量；和輸出光量控制裝置，用于控制所述輸出光量的輸出大小，使所述輸出光量和所述反射光量的乘積變成預定值。全文摘要提供一種能夠通過鑒別在盤片表面上的污染物與在記錄平面上的缺陷,對應于污染物和缺陷進行控制的盤片驅(qū)動單元。在與來自盤片的反射光相對應的進入信號PI中,產(chǎn)生缺陷檢測信號和污染物檢測信號。當缺陷檢測信號處于低電平時,系統(tǒng)控制器重試記錄操作,或者當污染物檢測信號處于低電子時增加激光?？刂萍す舛O管的輸出光量,從而激光二極管的輸出光與來自盤片的反射光的乘積總計為預定值。文檔編號G11B7/125GK1271929SQ0010825公開日2000年11月1日申請日期2000年4月28日優(yōu)先權(quán)日1999年4月28日發(fā)明者近藤真通,三上達郎,西田紀夫申請人:索尼株式會社