本發(fā)明涉及自動化檢測，具體涉及一種檢測裝置、檢測方法以及存儲介質(zhì)。

背景技術(shù)：

1、鋰電池極片為例，目前很多產(chǎn)品在生產(chǎn)過程中，會對厚度、面密度或表面情況等檢測項進(jìn)行測量，需要對應(yīng)的檢測裝置對對應(yīng)的檢測項進(jìn)行檢測。

2、檢測裝置的可靠性易受環(huán)境因素(例如溫度、濕度、振動)的影響，還會受到使用時長等影響，為保證檢測裝置的可靠性，需要對其進(jìn)行定期校準(zhǔn)。現(xiàn)有技術(shù)方案是定期將測量模塊移至檢測區(qū)域兩側(cè)的校準(zhǔn)區(qū)域進(jìn)行測量模塊的校準(zhǔn)。

3、但隨著鋰電池極片生產(chǎn)工藝要求越來越嚴(yán)，對檢測裝置的可靠性要求也越來越高。對于現(xiàn)有的技術(shù)方案，如果要提高檢測裝置的可靠性，只能增加校準(zhǔn)頻次，而校準(zhǔn)頻次的增加，會額外占用的一定時間，導(dǎo)致檢測裝置的效率下降。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是現(xiàn)有的檢測裝置的校準(zhǔn)方式影響檢測效率。

2、根據(jù)第一方面，一種實(shí)施例中提供一種檢測裝置，包括：底座、機(jī)架、驅(qū)動機(jī)構(gòu)、第一測量模塊、第二測量模塊、第一校準(zhǔn)模塊以及第二校準(zhǔn)模塊；

3、機(jī)架可移動的安裝在底座上；

4、驅(qū)動機(jī)構(gòu)被配置為驅(qū)動機(jī)架沿第一預(yù)設(shè)方向往復(fù)運(yùn)動，第一測量模塊安裝在機(jī)架的第一側(cè)，第二測量模塊安裝在機(jī)架的第二側(cè)；

5、第一校準(zhǔn)模塊連接在底座上且位于機(jī)架的第一側(cè)；

6、第二校準(zhǔn)模塊連接在底座上且位于機(jī)架的第二側(cè)；

7、第一測量模塊跟隨機(jī)架運(yùn)動，形成第一測量區(qū)間；

8、第二測量模塊跟隨機(jī)架運(yùn)動，形成第二測量區(qū)間；

9、機(jī)架在第一預(yù)設(shè)方向上的運(yùn)動行程為d，第一測量模塊與第二測量模塊在第一預(yù)設(shè)方向上的距離為l，其中，l<d；第一校準(zhǔn)模塊和第二校準(zhǔn)模塊均位于第一測量區(qū)間與第二測量區(qū)間在第一預(yù)設(shè)方向上重疊的區(qū)間內(nèi)，且第一校準(zhǔn)模塊和第二校準(zhǔn)模塊在第一預(yù)設(shè)方向上具有預(yù)設(shè)間距。

10、根據(jù)第二方面，一種實(shí)施例中提供一種檢測方法，應(yīng)用于第一方面所描述的檢測裝置，檢測方法包括：

11、控制驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動機(jī)架在第一預(yù)設(shè)方向往復(fù)運(yùn)動；

12、在機(jī)架運(yùn)動的過程中，控制第一測量模塊對位于預(yù)設(shè)的第一測量區(qū)間內(nèi)的待測件以及第一校準(zhǔn)模塊第一標(biāo)準(zhǔn)塊進(jìn)行測量，得到對應(yīng)的第一測量數(shù)據(jù)以及第一校準(zhǔn)數(shù)據(jù)；控制第二測量模塊對位于預(yù)設(shè)的第二測量區(qū)間內(nèi)的待測件以及第二校準(zhǔn)模塊第二標(biāo)準(zhǔn)塊進(jìn)行測量，得到第二測量數(shù)據(jù)以及第二校準(zhǔn)數(shù)據(jù)；

13、根據(jù)第一校準(zhǔn)數(shù)據(jù)判斷第一測量模塊的第一測量精度是否滿足預(yù)設(shè)精度要求；

14、其中，若第一測量精度不滿足預(yù)設(shè)精度要求，根據(jù)第一校準(zhǔn)數(shù)據(jù)與第一校準(zhǔn)模塊第一標(biāo)準(zhǔn)塊的預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)對第一測量數(shù)據(jù)進(jìn)行校準(zhǔn)；

15、根據(jù)第二校準(zhǔn)數(shù)據(jù)判斷第二測量模塊的第二測量精度是否滿足預(yù)設(shè)精度要求；

16、其中，若第二測量精度不滿足預(yù)設(shè)精度要求，根據(jù)第二校準(zhǔn)數(shù)據(jù)與第二校準(zhǔn)模塊第二標(biāo)準(zhǔn)塊的預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)對第二測量數(shù)據(jù)進(jìn)行校準(zhǔn)。

17、根據(jù)第三方面，一種實(shí)施例中提供一種計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，介質(zhì)上存儲有程序，程序能夠被處理器執(zhí)行以實(shí)現(xiàn)如第二方面所描述的方法。

18、依據(jù)上述實(shí)施例的檢測裝置、檢測方法以及存儲介質(zhì)，通過在機(jī)架上設(shè)置校準(zhǔn)模塊，測量模塊在對待測件進(jìn)行測量的過程中，可以對校準(zhǔn)模塊上進(jìn)行測量，通過對校準(zhǔn)模塊測量得到校準(zhǔn)數(shù)據(jù)與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)進(jìn)行比較，可以檢測測量模塊的測量精度是否滿足要求，可以實(shí)現(xiàn)一邊測量一邊校準(zhǔn)；同時設(shè)置兩組測量模塊與校準(zhǔn)模塊，可以在測量數(shù)據(jù)上進(jìn)行互補(bǔ)，避免校準(zhǔn)模塊的遮擋導(dǎo)致測量盲區(qū)的存在；通過上述檢測裝置，可以實(shí)現(xiàn)邊測量邊校準(zhǔn)，可以保證或提高檢測裝置的檢測效率以及檢測精準(zhǔn)度。

技術(shù)特征：

1.一種檢測裝置，其特征在于，包括：底座、機(jī)架、驅(qū)動機(jī)構(gòu)、第一測量模塊、第二測量模塊、第一校準(zhǔn)模塊以及第二校準(zhǔn)模塊；

2.如權(quán)利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，所述第一測量模塊與所述第二測量模塊沿所述第一預(yù)設(shè)方向前進(jìn)運(yùn)動時，依次進(jìn)行加減速、勻速以及加減速運(yùn)動，所述第一測量區(qū)間對應(yīng)具有第一加減速區(qū)間m1、第一勻速運(yùn)動區(qū)間o1以及第二加減速區(qū)間n1；所述第二測量區(qū)間對應(yīng)具有第三加減速區(qū)間m2、第二勻速運(yùn)動區(qū)間o2以及第四加減速區(qū)間n2；

3.如權(quán)利要求2所述的檢測裝置，其特征在于，所述第二加減速區(qū)間n1與所述第二勻速運(yùn)動區(qū)間o2在第一預(yù)設(shè)方向上至少部分重疊，其中，(m1+n1)/2＜d-l；

4.如權(quán)利要求3所述的檢測裝置，其特征在于，所述第二加減速區(qū)間n1在第一預(yù)設(shè)方向上被所述第二勻速運(yùn)動區(qū)間o2全部覆蓋，其中，(m1+n1)＜d-l；

5.如權(quán)利要求4所述的檢測裝置，其特征在于，所述第一加減速區(qū)間m1與所述第二加減速區(qū)間n1在所述第一預(yù)設(shè)方向的長度相同；

6.如權(quán)利要求4所述的檢測裝置，其特征在于，所述第一加減速區(qū)間m1與所述第六加減速區(qū)間q1在所述第一預(yù)設(shè)方向的長度相同；

7.如權(quán)利要求2-6中任一項所述的檢測裝置，其特征在于，所述第一勻速運(yùn)動區(qū)間o1與所述第三勻速運(yùn)動區(qū)間r1在所述第一預(yù)設(shè)方向上具有重疊區(qū)間，所述第一校準(zhǔn)模塊設(shè)置在該重疊區(qū)間內(nèi)；

8.如權(quán)利要求2-6中任一項所述的檢測裝置，其特征在于，所述第一校準(zhǔn)模塊包括第一標(biāo)準(zhǔn)塊，所述第一標(biāo)準(zhǔn)塊具有與待測件相同類型的待測特征，該待測特征具有預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)；

9.一種檢測方法，其特征在于，應(yīng)用于權(quán)利要求1-8中任一項所述的檢測裝置，所述檢測方法包括：

10.如權(quán)利要求9所述的檢測方法，其特征在于，若所述第一測量精度滿足預(yù)設(shè)精度要求，不對所述第一測量數(shù)據(jù)進(jìn)行校準(zhǔn)，作為最終的第一測量數(shù)據(jù)；若所述第一測量精度不滿足預(yù)設(shè)精度要求，將校準(zhǔn)后的第一測量數(shù)據(jù)作為最終的第一測量數(shù)據(jù)；

11.一種計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，其特征在于，所述介質(zhì)上存儲有程序，所述程序能夠被處理器執(zhí)行以實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求9或10所述的方法。

技術(shù)總結(jié)
一種檢測裝置、檢測方法以及存儲介質(zhì)，涉及自動化檢測技術(shù)領(lǐng)域，檢測裝置，包括：底座、機(jī)架、驅(qū)動機(jī)構(gòu)、第一測量模塊、第二測量模塊、第一校準(zhǔn)模塊以及第二校準(zhǔn)模塊；第一測量模塊安裝在機(jī)架的第一側(cè)，第二測量模塊安裝在機(jī)架的第二側(cè)；第一校準(zhǔn)模塊連接在底座上且位于機(jī)架的第一側(cè)；第二校準(zhǔn)模塊連接在底座上且位于機(jī)架的第二側(cè)；第一測量模塊跟隨機(jī)架運(yùn)動，形成第一測量區(qū)間；第二測量模塊跟隨機(jī)架運(yùn)動，形成第二測量區(qū)間；第一校準(zhǔn)模塊和第二校準(zhǔn)模塊均位于第一測量區(qū)間與第二測量區(qū)間在第一預(yù)設(shè)方向上重疊的區(qū)間內(nèi)，且第一校準(zhǔn)模塊和第二校準(zhǔn)模塊在第一預(yù)設(shè)方向上具有預(yù)設(shè)間距。本申請可以保證或提高檢測裝置的檢測效率以及檢測精準(zhǔn)度。

技術(shù)研發(fā)人員：朱瑞長,丁德甲,喬中濤
受保護(hù)的技術(shù)使用者：常州市大成真空技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6