技術(shù)領(lǐng)域:

本發(fā)明涉及機(jī)械領(lǐng)域，尤其涉及編碼器的防護(hù)技術(shù)，特別是一種編碼器的外殼防護(hù)裝置。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的編碼器在惡劣的工況環(huán)境使用中，由于編碼器防護(hù)等級（安裝后ip40）不夠，導(dǎo)致污垢、異物、或液體進(jìn)入到編碼器內(nèi)部，會引起以下問題：1、有異物進(jìn)入，干涉感應(yīng)元件，影響輸出精度；2、有污垢進(jìn)入，影響電路和碼盤精度；3、有液體進(jìn)入，編碼器損壞；以上狀況導(dǎo)致編碼器返修率高、穩(wěn)定性差，需要花費大量的人力物力來維護(hù)，成本高，效率較低，且產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷，提供一種將編碼器防護(hù)等級提高至ip52標(biāo)準(zhǔn)的外殼防護(hù)裝置。

其主要工作原理是通過在壓蓋與編碼器外殼在結(jié)構(gòu)上形成形成上下錯位密封，以及通過密封墊受擠壓產(chǎn)生形變形成內(nèi)密封，有效防止外部灰塵或液體進(jìn)入編碼器內(nèi)部。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：編碼器的外殼防護(hù)裝置，包括壓蓋、緊固件、編碼器外殼，其特征在于，所述編碼器外殼端面上設(shè)置有凸起的密封墊底座,所述壓蓋上設(shè)置有與所述密封墊底座輪廓相匹配的環(huán)狀凸起,所述密封墊底座之上設(shè)置彈性材料制作的密封墊,所述壓蓋和所述編碼器外殼用所述緊固件緊固時，所述密封墊底座會嵌入所述環(huán)狀凸起內(nèi)形成上下錯位密封，所述密封墊受所述密封墊底座及所述壓蓋底面擠壓形成密封。

進(jìn)一步的，所述密封墊采用橡膠材質(zhì)。

進(jìn)一步的，所述編碼器外殼端面上設(shè)置有密封墊定位凸起,所述壓蓋上設(shè)置有與密封墊定位凸起相匹配的凹槽。

本發(fā)明和已有技術(shù)相比較，其效果是積極和明顯的，本發(fā)明中通過編碼器外殼上的密封墊底座嵌入壓蓋上的環(huán)狀凸起內(nèi)形成上下錯位密封，有效防護(hù)灰塵，同時采用橡膠或其他彈性材料制作密封墊，使其在編碼器外殼與壓蓋的緊固壓力下產(chǎn)生形變，進(jìn)一步防護(hù)灰塵和液體，具有加工周期短，成本低，生產(chǎn)效率高、產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定的優(yōu)點，大大提高了編碼器在在惡劣環(huán)境工況下使用的一致性和穩(wěn)定性。

附圖說明：

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)圖。

圖2是本發(fā)明的側(cè)視圖。

圖3是本發(fā)明中的編碼器外殼結(jié)構(gòu)圖。

圖4是本發(fā)明中的壓蓋結(jié)構(gòu)圖。

圖5是本發(fā)明中的密封墊結(jié)構(gòu)圖。

具體實施方式：

實施例:

如圖1、圖2、圖3及圖4所示，一種編碼器的外殼防護(hù)裝置，包括壓蓋1、緊固件3、編碼器外殼4，其特征在于，所述編碼器外殼端面43上設(shè)置有凸起的密封墊底座41,所述壓蓋上設(shè)置有與所述密封墊底座輪廓相匹配的環(huán)狀凸起11,所述密封墊底座之上設(shè)置彈性材料制作的密封墊2,所述壓蓋和所述編碼器外殼用所述緊固件緊固時，所述密封墊底座會嵌入所述環(huán)狀凸起內(nèi)形成上下錯位密封，有效防護(hù)灰塵，所述密封墊受所述密封墊底座及所述壓蓋底面42擠壓形成密封，進(jìn)一步防護(hù)灰塵和液體。

進(jìn)一步的，如圖5所示，所述密封墊采用橡膠材質(zhì)。

進(jìn)一步的，如圖3、圖4所示，所述編碼器外殼端面上設(shè)置有密封墊定位凸起,可在裝配時候防止密封墊移位，降低安裝難度提高定位準(zhǔn)確性和使用可靠率，所述壓蓋上設(shè)置有與密封墊定位凸起相匹配的凹槽。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
一種編碼器的外殼防護(hù)裝置，通過編碼器外殼上的密封墊底座嵌入壓蓋上的環(huán)狀凸起內(nèi)形成上下錯位密封，有效防護(hù)灰塵，同時采用橡膠或其他彈性材料制作密封墊，使其在編碼器外殼與壓蓋的緊固壓力下產(chǎn)生形變，進(jìn)一步防護(hù)灰塵和液體，具有加工周期短，成本低，生產(chǎn)效率高、產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定的優(yōu)點，大大提高了編碼器在惡劣環(huán)境工況下使用的一致性和穩(wěn)定性。

技術(shù)研發(fā)人員：李榮平;李孟
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上?？当壤麅x表有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.07.31
技術(shù)公布日：2017.10.10