本發(fā)明涉及一種釹鐵硼磁體或半成品的制備方法。更具體地說，本發(fā)明涉及一種釹鐵硼金相的制備方法。

背景技術(shù)：

在燒結(jié)釹鐵硼生產(chǎn)和研究中，控制磁體或甩帶片的金相組織至關(guān)重要。因此制備金相是一項(xiàng)常見的操作。通常的金相制備過程為：1)對尺寸較大的樣品，一般用激光切割機(jī)制備10mm*10mm*10mm的立方體，并用金相砂紙打磨、拋光膏拋光。2)對尺寸較小或形狀不規(guī)則的樣品，打磨拋光過程較為困難，一般對樣品進(jìn)行鑲樣，鑲樣后再進(jìn)行打磨拋光。對于甩帶片，其厚度很薄，且材料較脆，觀察厚度方向的截面金相需要進(jìn)行鑲樣，對于甩帶片的自由面和貼輥面的金相，也是如此。對于紐扣狀的成品片，其厚度約為3mm，直徑約為8mm，通常的做法也是鑲樣處理。

對于厚度很薄的紐扣狀或環(huán)形成品片以及甩帶片的金相制備，鑲樣處理存在的問題是：1)增加測試成本。首先需要消耗價(jià)格昂貴的鑲嵌粉，且這些鑲嵌粉使用后不能回收，其次對于熱鑲樣，需要專門的鑲樣機(jī)。2)制樣耗時(shí)長，對于熱鑲樣，整個(gè)鑲樣過程需要1.5-2h。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的一個(gè)目的是解決至少上述問題，并提供至少后面將說明的優(yōu)點(diǎn)。

本發(fā)明還有一個(gè)目的是提供一種釹鐵硼金相的制備方法，其能夠簡化厚度小于4mm的紐扣狀或環(huán)形成品片以及甩帶片的金相制備過程。合理利用釹鐵硼測試產(chǎn)生的邊角料，降低輔料成本。

為了實(shí)現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的這些目的和其它優(yōu)點(diǎn)，提供了一種釹鐵硼金相的制備方法，其特征在于，包括：將待觀察樣品固定基座上進(jìn)行打磨和拋光，所述基座由釹鐵硼磁體測試產(chǎn)生的邊角料制成。

優(yōu)選的是，所述基座選取直徑為8-12mm，高度為8-15mm的樣柱或邊角料。

優(yōu)選的是，所述釹鐵硼金相的制備方法還包括：用除油劑清洗基座，并烘干備用；之后對所述基座進(jìn)行退磁處理，退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h。

優(yōu)選的是，所述釹鐵硼金相的制備方法還包括：樣品預(yù)處理，具體為：將樣品進(jìn)行退磁處理，退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h；之后剪裁樣品，使其磨削面尺寸基本與基座的截面相同。

優(yōu)選的是，所述釹鐵硼金相的制備方法還包括：裁剪后樣品的待磨削面的背面涂抹502膠水，并快速粘貼在基座的中心，晾干備用。粘貼樣品的基座放在通風(fēng)處晾30-60s，直至膠水凝固。

優(yōu)選的是，所述打磨具體為：1)將樣品輕微傾斜，使樣品的銳利角部與旋轉(zhuǎn)的400目砂紙接觸；

2)分別用400目砂紙、800目砂紙、1200目砂紙和2000目砂紙對樣品進(jìn)行打磨，直至樣品表面看不到劃痕。每換下一號砂紙，樣品的打磨方向要旋轉(zhuǎn)90°，以便去除上一號砂紙留下的劃痕。

優(yōu)選的是，所述釹鐵硼金相的制備方法還包括：用酒精棉對拋光后的樣品表面進(jìn)行清洗，清洗后用烘干機(jī)或電吹風(fēng)將樣品烘干備用。

優(yōu)選的是，所述釹鐵硼金相的制備方法還包括：將拋光后的樣品表面浸入3％的硝酸酒精中進(jìn)行腐蝕，腐蝕時(shí)間為1-3s，然后快速取出樣品。

優(yōu)選的是，所述樣品的厚度小于4mm。

優(yōu)選的是，所述磨削面的面積不小于所述基座截面積的三分之二。

優(yōu)選的是，本發(fā)明主要用于簡化厚度小于4mm的釹鐵硼磁體以及甩帶片的金相制備過程，具體步驟為：

1)選取基座。選取直徑為8-12mm，高度為8-15mm的樣柱或邊角料，作為制備金相的基座；

2)清洗基座。用除油劑清洗基座，并烘干備用。

3)退磁處理。如果基座有磁，需要進(jìn)行退磁處理，其工藝為退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h；

4)樣品預(yù)處理。如果待觀察金相的樣品有磁，則需要進(jìn)行退磁處理，其工藝為退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h；待觀察的樣品厚度小于4mm。

5)樣品裁剪。根據(jù)基座的大小，裁剪樣品，使樣品的磨削面尺寸基本與基座的截面相同。

6)粘膠。將裁剪后樣品的待磨削面的背面涂抹502膠水，并快速粘貼在基座的中心。

7)晾干。將粘貼樣品的基座放在通風(fēng)處晾30-60s，直至膠水凝固。

8)砂紙打磨。該步驟可細(xì)分為以下幾個(gè)子步驟。

(1)倒角去毛刺。對于角部較銳利的樣品，需要進(jìn)行倒角，具體為：將樣品輕微傾斜，使樣品的銳利角部與旋轉(zhuǎn)的400目砂紙接觸。

(2)打磨。分別用400目砂紙、800目砂紙、1200目砂紙和2000目砂紙對樣品進(jìn)行打磨。直至樣品表面看不到劃痕。

9)拋光。用拋光膏和拋光布對樣品進(jìn)行拋光，直至樣品表面呈明亮的鏡面。

10)清洗烘干。用酒精棉對拋光后的樣品表面進(jìn)行清洗，清洗后用烘干機(jī)或電吹風(fēng)將樣品烘干備用。

11)腐蝕。將拋光的樣品表面浸入3％的硝酸酒精中進(jìn)行腐蝕，腐蝕時(shí)間為1-3s。然后快速取出樣品。

12)清洗烘干。用酒精或去離子水對腐蝕后的樣品表面進(jìn)行清洗，然后烘干。

13)金相觀察。將樣品放置在光學(xué)顯微鏡或電子顯微鏡的物鏡下觀察金相和組織結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明至少包括以下有益效果：實(shí)際生產(chǎn)中，發(fā)現(xiàn)釹鐵硼磁性能測試的過程中會產(chǎn)生大量的測試樣柱和邊角料，其高度約為8-20mm，直徑為8-12mm。這些樣柱和邊角料形狀很規(guī)則，且表面非常光滑，在測試完成后，都作為廢料進(jìn)行回收。本發(fā)明所述釹鐵硼金相的制備方法利用這些樣柱和邊角料從而簡化了釹鐵硼金相制備過程。對于厚度較小的樣品，傳統(tǒng)的熱鑲樣過程耗時(shí)為1.5-2h，本方法的制樣過程只需5-10min。對于傳統(tǒng)的鑲樣方法，每一個(gè)樣品都需要鑲樣，需要消耗大量的電木粉，且測試完成后這些電木粉不能回收再利用。而本發(fā)明所述釹鐵硼金相的制備方法中制樣過程不需要鑲樣，只需少量的膠水。同時(shí)基座采用磁性能測試所產(chǎn)生的廢料，實(shí)現(xiàn)了變廢為寶的效果，大大降低制樣成本。傳統(tǒng)鑲樣處理的輔料不能回收，而本發(fā)明所述釹鐵硼金相所用基座回收方便快捷。測試后的、沾有樣品的基座經(jīng)熱水簡單處理，就可以實(shí)現(xiàn)樣品和基座的分離，從而實(shí)現(xiàn)基座的重復(fù)利用。

本發(fā)明的其它優(yōu)點(diǎn)、目標(biāo)和特征將部分通過下面的說明體現(xiàn)，部分還將通過對本發(fā)明的研究和實(shí)踐而為本領(lǐng)域的技術(shù)人員所理解。

附圖說明

圖1為本發(fā)明所述釹鐵硼金相的制備方法中制備好的甩帶片樣品的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明其中一個(gè)實(shí)施例所述釹鐵硼金相的制備方法中制備好的紐扣狀磁體樣品的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明其中一個(gè)實(shí)施例所述釹鐵硼金相的制備方法中制備好的圓環(huán)形磁體樣品的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明做進(jìn)一步的詳細(xì)說明，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說明書文字能夠據(jù)以實(shí)施。

應(yīng)當(dāng)理解，本文所使用的諸如“具有”、“包含”以及“包括”術(shù)語并不排除一個(gè)或多個(gè)其它元件或其組合的存在或添加。

實(shí)施例1

如圖1所示，待觀察樣品1是厚度為0.35mm的甩帶片自由面(與厚度方向垂直的平面)進(jìn)行金相觀察，本發(fā)明提供一種釹鐵硼金相的制備方法，包括：以下步驟：

1)選取基座2。選取直徑為10mm，高度為10mm的不帶磁樣柱或邊角料，作為制備金相的基座；

2)清洗基座2。用除油劑清洗基座2，并烘干備用。

3)樣品1裁剪。根據(jù)基座2的大小，裁剪甩帶樣品1，使樣品1的磨削面尺寸基本與基座的截面相同。

4)粘膠。將裁剪后樣品1的待磨削面的背面涂抹502膠水，并快速粘貼在基座2的中心。

5)晾干。將粘貼樣品1的基座2放在通風(fēng)處晾30s，直至膠水凝固。

6)砂紙打磨。該步驟可細(xì)分為以下幾個(gè)子步驟。

(1)倒角去毛刺。對甩帶樣品進(jìn)行倒角，具體為：將樣品輕微傾斜，使樣品的銳利角部與旋轉(zhuǎn)的400目砂紙接觸。

(2)打磨。分別用400目砂紙、800目砂紙、1200目砂紙和2000目砂紙對樣品進(jìn)行打磨。直至樣品表面看不到劃痕。

7)拋光。用拋光膏和拋光布對樣品進(jìn)行拋光，直至樣品表面呈明亮的鏡面。

8)清洗烘干。用酒精棉對拋光后的樣品表面進(jìn)行清洗，清洗后用烘干機(jī)或電吹風(fēng)將樣品烘干備用。

9)腐蝕。將拋光的樣品表面浸入3％的硝酸酒精中進(jìn)行腐蝕，腐蝕時(shí)間為1s。然后快速取出樣品。

10)清洗烘干。用酒精或去離子水對腐蝕后的樣品表面進(jìn)行清洗，然后烘干。

11)金相觀察。將樣品放置在光學(xué)顯微鏡或電子顯微鏡的物鏡下觀察金相和組織結(jié)構(gòu)。

實(shí)施例2

如圖2所示，本發(fā)明所述待觀察金相的樣品1為帶磁的紐扣狀成品片，其尺寸為本發(fā)明所述釹鐵硼金相的制備方法，包括：以下步驟：

1)選取基座2。選取直徑為12mm，高度為15mm的樣柱或邊角料(帶磁)，作為制備金相的基座；

2)清洗基座2。用除油劑清洗基座2，并烘干備用。

3)退磁處理。對基座2進(jìn)行退磁處理，其工藝為退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h；

4)樣品1預(yù)處理。對樣品1進(jìn)行退磁處理，其工藝為退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h；

5)粘膠。將樣品1的待磨削面的背面涂抹502膠水，并快速粘貼在基座的中心。

6)晾干。將粘貼樣品1的基座2放在通風(fēng)處晾60s，直至膠水凝固。

7)砂紙打磨。分別用400目砂紙、800目砂紙、1200目砂紙和2000目砂紙對樣品進(jìn)行打磨。直至樣品表面看不到劃痕。

8)拋光。用拋光膏和拋光布對樣品進(jìn)行拋光，直至樣品1表面呈明亮的鏡面。

9)清洗烘干。用酒精棉對拋光后的樣品1表面進(jìn)行清洗，清洗后用烘干機(jī)或電吹風(fēng)將樣品1烘干備用。

10)腐蝕。將拋光的樣品1表面浸入3％的硝酸酒精中進(jìn)行腐蝕，腐蝕時(shí)間為3s。然后快速取出樣品。

11)清洗烘干。用酒精或去離子水對腐蝕后的樣品1表面進(jìn)行清洗，然后烘干。

12)金相觀察。將樣品1放置在光學(xué)顯微鏡或電子顯微鏡的物鏡下觀察金相和組織結(jié)構(gòu)。

實(shí)施例3

如圖3所示，本發(fā)明所述待觀察的樣品1為帶孔的圓環(huán)形成品片，內(nèi)徑為外徑為厚度為2mm。產(chǎn)品不帶磁。本發(fā)明所述釹鐵硼金相的制備方法，包括：以下步驟：

1)選取基座2。選取直徑為11mm，高度為14mm的不帶磁樣柱或邊角料，作為制備金相的基座；

2)清洗基座2。用除油劑清洗基座，并烘干備用。

3)樣品預(yù)處理。對樣品1進(jìn)行退磁處理，其工藝為退磁溫度為380℃，退磁時(shí)間為1h；

4)粘膠。將樣品1的待磨削面的背面涂抹502膠水，并快速粘貼在基座的中心。

5)晾干。將粘貼樣品1的基座2放在通風(fēng)處晾30s，直至膠水凝固。

6)砂紙打磨。分別用400目砂紙、800目砂紙、1200目砂紙和2000目砂紙對樣品1進(jìn)行打磨。直至樣品1表面看不到劃痕。

7)拋光。用拋光膏和拋光布對樣品進(jìn)行拋光，直至樣品1表面呈明亮的鏡面。

8)清洗烘干。用酒精棉對拋光后的樣品1表面進(jìn)行清洗，清洗后用烘干機(jī)或電吹風(fēng)將樣品烘干備用。

9)腐蝕。將拋光的樣品表面浸入3％的硝酸酒精中進(jìn)行腐蝕，腐蝕時(shí)間為1s。然后快速取出樣品1。

10)清洗烘干。用酒精或去離子水對腐蝕后的樣品1表面進(jìn)行清洗，然后烘干。

11)金相觀察。將樣品1放置在光學(xué)顯微鏡或電子顯微鏡的物鏡下觀察金相和組織結(jié)構(gòu)。

盡管本發(fā)明的實(shí)施方案已公開如上，但其并不僅僅限于說明書和實(shí)施方式中所列運(yùn)用，它完全可以被適用于各種適合本發(fā)明的領(lǐng)域，對于熟悉本領(lǐng)域的人員而言，可容易地實(shí)現(xiàn)另外的修改，因此在不背離權(quán)利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本發(fā)明并不限于特定的細(xì)節(jié)和這里示出與描述的圖例。