本公開內(nèi)容涉及襯底處理系統(tǒng)，更具體地說(shuō)，涉及用于襯底處理系統(tǒng)的氣體管線的節(jié)流閥。

背景技術(shù)：

1、這里提供的背景描述是為了總體呈現(xiàn)本公開的背景的目的。在此背景技術(shù)部分中描述的范圍內(nèi)的當(dāng)前指定的發(fā)明人的工作以及在提交申請(qǐng)時(shí)不能確定為現(xiàn)有技術(shù)的說(shuō)明書的各方面既不明確也不暗示地承認(rèn)是針對(duì)本公開的現(xiàn)有技術(shù)。

2、襯底處理系統(tǒng)可被使用于處理例如半導(dǎo)體晶片之類的襯底。襯底處理可包括沉積、蝕刻、清潔和其他處理?？稍谝r底上執(zhí)行的示例性處理包括但不限于化學(xué)氣相沉積(cvd)、原子層沉積(ald)、導(dǎo)體蝕刻、快速熱處理(rtp)、離子注入、物理氣相沉積(pvd)、和/或其他蝕刻、沉積或清潔處理。

3、可將襯底設(shè)置于在襯底處理系統(tǒng)的處理室中的諸如基座、靜電卡盤(esc)等襯底支撐件上。在處理期間，可使用噴頭(或其他氣體輸送設(shè)備)將包括一或更多種前體的氣體混合物引入處理室中，并且可使用等離子體來(lái)引發(fā)化學(xué)反應(yīng)。

4、泵和氣動(dòng)閥用于控制連接到處理室的氣體管線中的真空壓力。氣體管線或前級(jí)管線(foreline)被設(shè)計(jì)為具有用于遠(yuǎn)程等離子體清潔(rpc)的高傳導(dǎo)率。在一些處理中，下游閥受到限制(幾乎關(guān)閉)以減少氣體管線中的氣流。這會(huì)導(dǎo)致閥的出口處出現(xiàn)大的壓降。當(dāng)閥處于該位置時(shí)，來(lái)自處理室的反應(yīng)物/顆粒因閥處的壓降而加速。結(jié)果，顆粒/反應(yīng)物積累在閥下游的氣體管線的特定位置處。隨著時(shí)間的推移，氣體管線最終會(huì)因堆積而堵塞。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、一種襯底處理系統(tǒng)的閥包含節(jié)流板，其被配置成調(diào)整通過(guò)氣體管線的氣流。外部致動(dòng)器被設(shè)置在所述氣體管線的外部。內(nèi)部致動(dòng)器被設(shè)置在所述氣體管線的內(nèi)部并連接到所述節(jié)流板。所述外部致動(dòng)器磁耦合至所述內(nèi)部致動(dòng)器。所述外部致動(dòng)器的移動(dòng)引起所述內(nèi)部致動(dòng)器相對(duì)于所述氣體管線的移動(dòng)，以調(diào)整所述節(jié)流板的位置。

2、在其他特征中，所述外部致動(dòng)器包括第一磁鐵。所述內(nèi)部致動(dòng)器包括第二磁鐵。所述外部致動(dòng)器和所述內(nèi)部致動(dòng)器中的一者包括第一磁鐵。所述外部致動(dòng)器和所述內(nèi)部致動(dòng)器中的另一者包括含鐵材料。

3、在其他特征中，所述外部致動(dòng)器包括：第一塊體；第二塊體；以及環(huán)形板，其圍繞所述氣體管線的外表面連接所述第一塊體和所述第二塊體。所述第一塊體和所述第二塊體分別包括接收第一磁鐵和第二磁鐵的孔。所述節(jié)流板包括第一節(jié)流板和第二節(jié)流板。圓筒體被設(shè)置在所述氣體管線內(nèi)。

4、在其他特征中，所述第一節(jié)流板和所述第二節(jié)流板的徑向內(nèi)部分包括安裝部分，以分別接收在所述圓筒體的側(cè)表面之間延伸的第一銷釘和第二銷釘。所述第一節(jié)流板和所述第二節(jié)流板分別相對(duì)于所述第一銷釘和所述第二銷釘而樞轉(zhuǎn)。所述內(nèi)部致動(dòng)器包括：第一臂部；第二臂部，其連接至所述第一臂部和所述第一節(jié)流板的徑向外邊緣；以及第三臂部，其連接至所述第一臂部和所述第二節(jié)流板的徑向外邊緣。

5、在其他特征中，所述第一節(jié)流板包括位于其下游表面上的安裝部分。所述第二臂部延伸穿過(guò)所述第一節(jié)流板并連接至所述第一節(jié)流板的所述安裝部分。所述第二節(jié)流板包括位于其下游表面上的安裝部分。所述第三臂部延伸穿過(guò)所述第二節(jié)流板并連接至所述第二節(jié)流板的所述安裝部分。

6、在其他特征中，所述第一臂部包括：第一臂部分，其沿徑向方向延伸；以及第二臂部分，其包括連接至所述第一臂部分的第一端部和沿軸向方向延伸的第二端部。

7、在其他特征中，所述圓筒體包括分別位于其相對(duì)側(cè)上的第一軸槽孔和第二軸槽孔。所述第一軸槽孔和所述第二軸槽孔接收所述第一臂部分的相對(duì)端部。所述第一臂部分的相對(duì)端部包括磁鐵和含鐵材料中的至少一者。所述第二臂部分的第二端部包括磁鐵和含鐵材料中的至少一者。所述圓筒體包括被設(shè)置為靠近所述第一節(jié)流板和所述第二節(jié)流板的第一開口和第二開口。

8、一種襯底處理系統(tǒng)的閥包含圓筒體，其包括第一軸槽孔和第二軸槽孔。第一節(jié)流板和第二節(jié)流板安裝至所述圓筒體并相對(duì)于所述圓筒體而樞轉(zhuǎn)。外部致動(dòng)器被徑向設(shè)置在氣體管線外部并包括：第一塊體，其包括第一磁鐵；第二塊體，其包括第二磁鐵；以及環(huán)形板，其圍繞所述氣體管線的外表面連接所述第一塊體和所述第二塊體。內(nèi)部致動(dòng)器被徑向設(shè)置在所述氣體管線內(nèi)部并且包括第一臂部，其包括沿徑向方向延伸的第一臂部分，所述第一臂部分的第一端部設(shè)置在所述第一軸槽孔中并包括第三磁鐵，且所述第一臂部分的第二端部設(shè)置在所述第二軸槽孔中并包括第四磁鐵。第二臂部連接至所述第一臂部和所述第一節(jié)流板的徑向外邊緣。第三臂部連接至所述第一臂部和所述第二節(jié)流板的徑向外邊緣。

9、在其他特征中，致動(dòng)器被配置成相對(duì)于所述氣體管線選擇性移動(dòng)所述外部致動(dòng)器。所述外部致動(dòng)器的所述第一磁鐵磁耦合至所述第一臂部分的所述第三磁鐵。所述外部致動(dòng)器的所述第二磁鐵磁耦合至所述第一臂部分的所述第四磁鐵。所述致動(dòng)器的移動(dòng)引起所述外部致動(dòng)器和所述內(nèi)部致動(dòng)器相對(duì)于所述氣體管線的移動(dòng)，以調(diào)整所述第一節(jié)流板和所述第二節(jié)流板的位置。

10、在其他特征中，所述第一節(jié)流板和所述第二節(jié)流板的下游側(cè)的徑向內(nèi)部包括安裝部分，以分別接收在所述圓筒體的側(cè)表面之間延伸的第一銷釘和第二銷釘。所述第一節(jié)流板和所述第二節(jié)流板分別相對(duì)于所述第一銷釘和所述第二銷釘而樞轉(zhuǎn)。

11、在其他特征中，所述第一臂部還包括第二臂部分，所述第二臂部分在第一端部處連接到所述第一臂部分并沿軸向方向延伸。所述第二臂部分的第二端部包括第五磁鐵。所述圓筒體包括第一開口和第二開口，所述第一開口和所述第二開口設(shè)置為靠近所述第一節(jié)流板和所述第二節(jié)流板。

12、根據(jù)詳細(xì)描述、權(quán)利要求和附圖，本公開內(nèi)容的適用性的進(jìn)一步的范圍將變得顯而易見。詳細(xì)描述和具體示例僅用于說(shuō)明的目的，并非意在限制本公開的范圍。

技術(shù)特征：

1.一種襯底處理系統(tǒng)的閥，其包含：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥，其中：

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥，其中：

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥，其中所述外部致動(dòng)器包括：

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的閥，其中所述第一塊體和所述第二塊體分別包括接收第一磁鐵和第二磁鐵的孔。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥，其中所述節(jié)流板包括第一節(jié)流板和第二節(jié)流板。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的閥，其還包含設(shè)置在所述氣體管線中的圓筒體。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的閥，其中：

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的閥，其中所述內(nèi)部致動(dòng)器包括：

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的閥，其中：

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的閥，其中所述第一臂部包括：

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的閥，其中：所述圓筒體包括分別位于其相對(duì)側(cè)上的第一軸槽孔和第二軸槽孔，且所述第一軸槽孔和所述第二軸槽孔接收所述第一臂部分的相對(duì)端部。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的閥，其中所述第一臂部分的相對(duì)端部包括磁鐵和含鐵材料中的至少一者。

14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的閥，其中所述第二臂部分的第二端部包括磁鐵和含鐵材料中的至少一者。

15.根據(jù)權(quán)利要求7所述的閥，其中所述圓筒體包括被設(shè)置為靠近所述第一節(jié)流板和所述第二節(jié)流板的第一開口和第二開口。

16.一種襯底處理系統(tǒng)的閥，其包含：

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的閥，其還包含：

18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的閥，其中：

19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的閥，其中：

20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的閥，其中所述圓筒體包括第一開口和第二開口，所述第一開口和所述第二開口設(shè)置為靠近所述第一節(jié)流板和所述第二節(jié)流板。

技術(shù)總結(jié)
一種襯底處理系統(tǒng)的閥包括節(jié)流板，其被配置成調(diào)整通過(guò)氣體管線的氣流。外部致動(dòng)器被設(shè)置在該氣體管線的外部。內(nèi)部致動(dòng)器被設(shè)置在該氣體管線的內(nèi)部并連接到該節(jié)流板。該外部致動(dòng)器磁耦合至該內(nèi)部致動(dòng)器。該外部致動(dòng)器的移動(dòng)引起該內(nèi)部致動(dòng)器相對(duì)于該氣體管線的移動(dòng)，以調(diào)整該節(jié)流板的位置。

技術(shù)研發(fā)人員：安德魯·波爾斯
受保護(hù)的技術(shù)使用者：朗姆研究公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6