技術(shù)編號：40615749
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本公開內(nèi)容涉及襯底處理系統(tǒng)，更具體地說，涉及用于襯底處理系統(tǒng)的氣體管線的節(jié)流閥。背景技術(shù)、這里提供的背景描述是為了總體呈現(xiàn)本公開的背景的目的。在此背景技術(shù)部分中描述的范圍內(nèi)的當(dāng)前指定的發(fā)明人的工作以及在提交申請時不能確定為現(xiàn)有技術(shù)的說明書的各方面既不明確也不暗示地承認是針對本公開的現(xiàn)有技術(shù)。、襯底處理系統(tǒng)可被使用于處理例如半導(dǎo)體晶片之類的襯底。襯底處理可包括沉積、蝕刻、清潔和其他處理。可在襯底上執(zhí)行的示例性處理包括但不限于化學(xué)氣相沉積(cvd)、原子層沉積(ald)、導(dǎo)體蝕刻、快速熱處理(r...
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