本技術(shù)涉及真空泵，具體為一種帶有內(nèi)置式真空表的真空泵。

背景技術(shù)：

1、真空泵是指利用機(jī)械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對(duì)被抽容器進(jìn)行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備，通俗來(lái)講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置，現(xiàn)有的真空泵一般是將真空表直接安裝在泵體外的進(jìn)氣口上，因此在使用或運(yùn)輸過(guò)程中一旦受到外力撞擊或意外傾倒時(shí)，獨(dú)立安裝在泵體外的真空表極易遭受撞擊而損壞，輕者發(fā)生連接泄露，嚴(yán)重時(shí)直接導(dǎo)致真空表或連接接頭斷裂，使真空泵無(wú)法正常使用，增加使用及維修成本。

2、如中國(guó)專利公告號(hào)(cn209083483u)中公開(kāi)的一種真空泵，提供了一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可對(duì)真空表實(shí)施有效保護(hù)，從而避免真空表在使用或運(yùn)輸過(guò)程中遭受損害的帶有內(nèi)置式真空表的真空泵，解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在的真空表極易遭受撞擊而損壞，導(dǎo)致真空泵無(wú)法正常使用，增加使用及維修成本等的技術(shù)問(wèn)題，它包括支架及分別設(shè)于支架兩側(cè)的泵體組件和電機(jī)組件，電機(jī)組件外對(duì)應(yīng)的機(jī)殼上設(shè)有電容盒，在所述電容盒內(nèi)設(shè)有與泵體組件相連通的真空表，在電容盒上設(shè)有用于觀測(cè)真空表顯示狀態(tài)的真空表嵌裝口，真空表嵌裝固定在真空表嵌裝口內(nèi)。

3、但是如上述專利中還存在著對(duì)于真空表的內(nèi)置定位效果較差的問(wèn)題，如上述專利中將真空表放入嵌裝口內(nèi)實(shí)現(xiàn)的真空表內(nèi)置，但是該方式中不便于使真空表快速準(zhǔn)確的插入嵌裝口內(nèi)，易使真空表表盤偏移，需來(lái)回調(diào)節(jié)，不然影響用戶觀察使用。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種帶有內(nèi)置式真空表的真空泵，具備內(nèi)置定位效果好等優(yōu)點(diǎn)，解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在著對(duì)于真空表的內(nèi)置定位效果較差的問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種帶有內(nèi)置式真空表的真空泵，包括泵體，所述泵體的上表面設(shè)有提高內(nèi)置定位效果的內(nèi)置機(jī)構(gòu)，所述內(nèi)置機(jī)構(gòu)的左右兩側(cè)設(shè)有提高固定效果的固定機(jī)構(gòu)；

3、所述內(nèi)置機(jī)構(gòu)包括兩個(gè)內(nèi)置盒、嵌入框、兩個(gè)定位底座、真空表主體、兩個(gè)定位插環(huán)和透視屏，所述內(nèi)置盒與泵體的上表面固定，兩個(gè)所述內(nèi)置盒的正面均開(kāi)設(shè)有嵌入槽，且嵌入框與嵌入槽的內(nèi)壁固定，兩個(gè)定位底座分別與嵌入框內(nèi)底壁的前后兩側(cè)固定，所述真空表主體放置在嵌入框的內(nèi)部，兩個(gè)所述定位插環(huán)均固定在真空表主體的外側(cè)，所述透視屏與嵌入框的內(nèi)壁固定且位于真空表主體的正面。

4、進(jìn)一步，所述定位底座的形狀為半圓形，且定位底座的上表面開(kāi)設(shè)有定位槽。

5、進(jìn)一步，所述定位插環(huán)插接在定位槽的前后兩側(cè)內(nèi)壁之間，所述嵌入框的內(nèi)部且位于真空表主體的外側(cè)固定有橡膠墊。

6、進(jìn)一步，所述嵌入框內(nèi)腔的背壁固定有兩個(gè)支撐彈簧，兩個(gè)所述支撐彈簧的前端固定有支撐墊。

7、進(jìn)一步，所述固定機(jī)構(gòu)包括四個(gè)固定螺栓、四個(gè)連接彈簧和定位環(huán)，兩個(gè)所述內(nèi)置盒的相對(duì)的一側(cè)均開(kāi)設(shè)有四個(gè)階梯螺孔，且四個(gè)固定螺栓分別與四個(gè)階梯螺孔的內(nèi)壁螺紋連接，四個(gè)所述連接彈簧分別活動(dòng)套裝在四個(gè)固定螺栓的外側(cè)，所述定位環(huán)與上側(cè)內(nèi)置盒的下表面固定。

8、進(jìn)一步，下側(cè)所述內(nèi)置盒的上表面開(kāi)設(shè)有連接槽，且定位環(huán)滑動(dòng)連接在連接槽的內(nèi)壁。

9、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本申請(qǐng)的技術(shù)方案具備以下有益效果：

10、1、該帶有內(nèi)置式真空表的真空泵，通過(guò)設(shè)置了內(nèi)置機(jī)構(gòu)，通過(guò)將真空表主體固定在嵌入框內(nèi)，然后將嵌入框固定在內(nèi)置盒上，通過(guò)這種結(jié)構(gòu)的固定和定位，確保了真空表主體的穩(wěn)定位置，并且透視屏的固定使得用戶可以清晰地觀察真空表的讀數(shù)，從而提高了真空泵的定位效果和使用便捷性。

11、2、該帶有內(nèi)置式真空表的真空泵，通過(guò)設(shè)置了固定機(jī)構(gòu)，通過(guò)固定螺栓的螺紋連接將內(nèi)置盒牢固地固定在泵體上，連接彈簧的活動(dòng)性能夠吸收振動(dòng)和沖擊，從而保持內(nèi)置機(jī)構(gòu)的穩(wěn)定性，定位環(huán)的固定也有助于確保內(nèi)置機(jī)構(gòu)的整體穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。

技術(shù)特征：

1.一種帶有內(nèi)置式真空表的真空泵，包括泵體(1)，其特征在于：所述泵體(1)的上表面設(shè)有提高內(nèi)置定位效果的內(nèi)置機(jī)構(gòu)(2)，所述內(nèi)置機(jī)構(gòu)(2)的左右兩側(cè)設(shè)有提高固定效果的固定機(jī)構(gòu)(3)；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有內(nèi)置式真空表的真空泵，其特征在于：所述定位底座(23)的形狀為半圓形，且定位底座(23)的上表面開(kāi)設(shè)有定位槽(27)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有內(nèi)置式真空表的真空泵，其特征在于：所述定位插環(huán)(25)插接在定位槽(27)的前后兩側(cè)內(nèi)壁之間，所述嵌入框(22)的內(nèi)部且位于真空表主體(24)的外側(cè)固定有橡膠墊(28)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有內(nèi)置式真空表的真空泵，其特征在于：所述嵌入框(22)內(nèi)腔的背壁固定有兩個(gè)支撐彈簧(29)，兩個(gè)所述支撐彈簧(29)的前端固定有支撐墊(210)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有內(nèi)置式真空表的真空泵，其特征在于：所述固定機(jī)構(gòu)(3)包括四個(gè)固定螺栓(31)、四個(gè)連接彈簧(32)和定位環(huán)(33)，兩個(gè)所述內(nèi)置盒(21)的相對(duì)的一側(cè)均開(kāi)設(shè)有四個(gè)階梯螺孔(34)，且四個(gè)固定螺栓(31)分別與四個(gè)階梯螺孔(34)的內(nèi)壁螺紋連接，四個(gè)所述連接彈簧(32)分別活動(dòng)套裝在四個(gè)固定螺栓(31)的外側(cè)，所述定位環(huán)(33)與上側(cè)內(nèi)置盒(21)的下表面固定。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種帶有內(nèi)置式真空表的真空泵，其特征在于：下側(cè)所述內(nèi)置盒(21)的上表面開(kāi)設(shè)有連接槽，且定位環(huán)(33)滑動(dòng)連接在連接槽的內(nèi)壁。

技術(shù)總結(jié)
本新型涉及一種帶有內(nèi)置式真空表的真空泵，屬于真空泵領(lǐng)域，包括泵體，所述泵體的上表面設(shè)有提高內(nèi)置定位效果的內(nèi)置機(jī)構(gòu)，所述內(nèi)置機(jī)構(gòu)的左右兩側(cè)設(shè)有提高固定效果的固定機(jī)構(gòu)，所述內(nèi)置機(jī)構(gòu)包括兩個(gè)內(nèi)置盒、嵌入框、兩個(gè)定位底座、真空表主體、兩個(gè)定位插環(huán)和透視屏，所述內(nèi)置盒與泵體的上表面固定，兩個(gè)所述內(nèi)置盒的正面均開(kāi)設(shè)有嵌入槽。該帶有內(nèi)置式真空表的真空泵，通過(guò)設(shè)置了內(nèi)置機(jī)構(gòu)，通過(guò)將真空表主體固定在嵌入框內(nèi)，然后將嵌入框固定在內(nèi)置盒上，通過(guò)這種結(jié)構(gòu)的固定和定位，確保了真空表主體的穩(wěn)定位置，并且透視屏的固定使得用戶可以清晰地觀察真空表的讀數(shù)，從而提高了真空泵的定位效果和使用便捷性。

技術(shù)研發(fā)人員：蔡福明,蔡靜娟
受保護(hù)的技術(shù)使用者：馬鞍山市福明儀表制造股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240516
技術(shù)公布日：2025/1/2