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一種微橋結(jié)構(gòu)錳鈷鎳氧薄膜紅外探測器的制作方法

文檔序號:11751197閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種微橋結(jié)構(gòu)錳鈷鎳氧薄膜紅外探測器,包括錳鈷鎳氧薄膜(1),二氧化硅層(2),氮化硅層(3),聚酰亞胺犧牲層(4)和低阻硅襯底(5);其特征在于:

所述的紅外探測器自低阻硅襯底(5)之上依次為聚酰亞胺犧牲層(4)、氮化硅層(3)、二氧化硅層(2)和錳鈷鎳氧薄膜(1),在錳鈷鎳氧薄膜(1)上有鉻和金復(fù)合金屬電極(6);

所述的聚酰亞胺犧牲層(4)是呈拱形的犧牲層,拱形高度為1-3μm,犧牲層厚度為1-3μm,犧牲層與二氧化硅平直接觸;

所述的氮化硅層(3)的厚度50-500nm;

所述的,二氧化硅層(2)的厚度50-500nm;

所述的錳鈷鎳氧薄膜(1)的厚度0.1-2μm。

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