具有攪拌功能的實(shí)驗(yàn)用半導(dǎo)體清洗裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于一種實(shí)驗(yàn)室用品，特別涉及一種具有攪拌功能的實(shí)驗(yàn)用半導(dǎo)體清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]晶片清洗是半導(dǎo)體晶片工藝加工中最常使用的工藝步驟。晶片清洗的主要作用包括:獲得清潔的晶片表面(如去除附著在晶片表面的原子、離子、分子、有機(jī)沾污或顆粒)、晶片拋光和晶片定向腐蝕。在晶片清洗過(guò)程中，晶片表面的溶液濃度不斷降低，反應(yīng)速率將逐漸下降，從而嚴(yán)重影響清洗工藝的質(zhì)量。為了確保晶片清洗的質(zhì)量，需要使反應(yīng)槽中的溶液處于不斷流動(dòng)的狀態(tài)，從而帶動(dòng)晶片表面溶液的流動(dòng)，補(bǔ)充反應(yīng)液濃度的消耗，獲得一致的反應(yīng)過(guò)程。
[0003]在半導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)中一般采用氮?dú)夤呐莸姆椒ㄊ狗磻?yīng)槽中反應(yīng)液產(chǎn)生流動(dòng)，即在反應(yīng)槽底部連接氮?dú)?，通過(guò)氣動(dòng)開(kāi)關(guān)開(kāi)啟和關(guān)閉氮?dú)?，使反?yīng)槽中反應(yīng)液體產(chǎn)生自下而上的攪動(dòng)。與工業(yè)生產(chǎn)時(shí)的大批量生產(chǎn)過(guò)程不同，在實(shí)驗(yàn)過(guò)程中清洗的晶片數(shù)量很少，且多數(shù)清洗過(guò)程的時(shí)間為20分鐘左右，所以采用氮?dú)夤呐莸姆椒ㄇ逑淳瑢?huì)使晶片清洗的成本大大增加。
[0004]一般實(shí)驗(yàn)過(guò)程采用的是人工轉(zhuǎn)動(dòng)清洗晶片籃的方式實(shí)現(xiàn)液體的流動(dòng)。如圖1所示，由于放置于晶片籃中的晶片是垂直放置于清洗反應(yīng)槽中，晶片和晶片籃之間間距很小(常為2-3_)，所以最有效的晶片籃運(yùn)動(dòng)方式應(yīng)為沿平行于硅片表面的兩個(gè)垂直方向，即Y向上下運(yùn)動(dòng)和X向橫向運(yùn)動(dòng)。一般實(shí)驗(yàn)用的清洗反應(yīng)槽與晶片籃的間隙很小，所以一般采用兩種方式進(jìn)行晶片的清洗，即晶片籃靜止放置或手動(dòng)上下提拉晶片籃。靜止放置晶片籃，會(huì)造成反應(yīng)速率不均勻，而上下提拉晶片籃需要清洗槽具有足夠的深度。
[0005]采用提拉晶片籃上下運(yùn)動(dòng)的方式或晶片籃靜止的方式清洗晶片過(guò)程存在的缺點(diǎn)包括:1、運(yùn)動(dòng)距離很難控制。晶片籃的向上運(yùn)動(dòng)可導(dǎo)致娃片從清洗液中露出，晶片籃向下運(yùn)動(dòng)易使晶片籃、清洗槽和晶片之間發(fā)生機(jī)械碰撞，從而導(dǎo)致晶片特別是超薄晶片清洗過(guò)程的成品率降低。2、清洗液體流動(dòng)的方向和速度很難控制。上下提拉晶片籃過(guò)程中，提拉晶片籃的速度、晶片籃縫隙和晶片碼放方向，共同決定了清洗液的流動(dòng)速度和方向。由于提拉晶片籃的過(guò)程很難做到勻速運(yùn)動(dòng)，且很難保持晶片表面一直處于垂直狀態(tài)，所以晶片不可避免地承受很大的應(yīng)力，從而易于導(dǎo)致晶片的破損，造成晶片清洗過(guò)程中成品率的降低。3、晶片籃靜止會(huì)造成晶片表面反應(yīng)不均勻，且清洗掉的沾污物質(zhì)，很可能重新附著到硅片表面，產(chǎn)生二次污染的問(wèn)題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是要提供一種具有攪拌功能的實(shí)驗(yàn)用半導(dǎo)體清洗裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)在晶片籃靜止不動(dòng)的前提下完成對(duì)晶片的清洗，清洗效果好，成品率高。
[0007]為解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:
[0008]一種具有攪拌功能的實(shí)驗(yàn)用半導(dǎo)體清洗裝置，包括上端敞口的盛液反應(yīng)槽；
[0009]鏤空隔板，設(shè)在盛液反應(yīng)槽內(nèi)下部，在鏤空隔板四周分別設(shè)有矩形槽口，在鏤空隔板上設(shè)有多個(gè)條形通孔，所述盛液反應(yīng)槽內(nèi)腔通過(guò)鏤空隔板分成上下連通的兩個(gè)腔；
[0010]雙葉片攪板，鉸接在盛液反應(yīng)槽內(nèi)位于鏤空隔板的下方，用于攪動(dòng)盛液反應(yīng)槽內(nèi)的清洗液；在雙葉片攪板兩端對(duì)稱連接有兩個(gè)立桿，立桿下端通過(guò)Y型支架與雙葉片攪板的兩個(gè)葉片固接，兩個(gè)立桿上端分別延伸到盛液反應(yīng)槽外面。
[0011]作為進(jìn)一步優(yōu)選，在盛液反應(yīng)槽內(nèi)下部四角處分別設(shè)有凸臺(tái)，所述鏤空隔板支撐在所述凸臺(tái)上。
[0012]作為進(jìn)一步優(yōu)選，所述雙葉片攪板包括固接在一起的所述兩個(gè)葉片，兩個(gè)葉片形成一定的夾角，在兩個(gè)葉片之間連接處的兩端對(duì)稱設(shè)有旋轉(zhuǎn)軸。
[0013]作為進(jìn)一步優(yōu)選，所述兩個(gè)葉片的夾角為120-160度。
[0014]作為進(jìn)一步優(yōu)選，在每個(gè)立桿的上端分別固接有傳動(dòng)板，在傳動(dòng)板中部設(shè)有方孔，用于連接外部振動(dòng)機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)機(jī)械攪拌。
[0015]作為進(jìn)一步優(yōu)選，在盛液反應(yīng)槽內(nèi)壁位于鏤空隔板的上端設(shè)有四個(gè)限位方槽，在限位方槽內(nèi)插入有限位塊，限位塊外端壓在鏤空隔板上表面，用于對(duì)鏤空隔板進(jìn)行限位。
[0016]作為進(jìn)一步優(yōu)選，在盛液反應(yīng)槽的前后側(cè)內(nèi)壁中部沿豎直方向設(shè)有條形卡槽，條形卡槽的下端為半圓弧狀，所述雙葉片攪板兩端的旋轉(zhuǎn)軸分別插入到條形卡槽內(nèi)下端。
[0017]本實(shí)用新型的有益效果是:通過(guò)在鏤空隔板上放置晶片籃，通過(guò)立桿帶動(dòng)雙葉片攪板擺動(dòng)，能夠使盛液反應(yīng)槽內(nèi)的清洗液不停流動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)在晶片籃靜止不動(dòng)的前提下完成對(duì)晶片的清洗，可有效避免晶片籃靜止清洗過(guò)程中的反應(yīng)速率不均勻和提拉晶片籃清洗過(guò)程中容易產(chǎn)生碰撞的問(wèn)題，清洗效果好，晶片籃不會(huì)產(chǎn)生碰撞，成品率高。
【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)剖視圖。
[0019]圖2是圖1的俯視圖。
[0020]圖3是圖1的A-A剖視圖。
[0021]圖中:盛液反應(yīng)槽1，攪動(dòng)腔101，清洗腔102，條形卡槽103，限位方槽104，雙葉片攪板2，葉片201，旋轉(zhuǎn)軸202，凸臺(tái)3，鏤空隔板4，矩形槽口 401，條形通孔402，限位塊5，傳動(dòng)板6，方孔601，立桿7，Y型支架8，清洗液9。
【具體實(shí)施方式】
[0022]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說(shuō)明書(shū)文字能夠據(jù)以實(shí)施。
[0023]如圖1-圖3所示，本實(shí)用新型涉及的一種具有攪拌功能的實(shí)驗(yàn)用半導(dǎo)體清洗裝置，包括一個(gè)上端敞口的矩形盛液反應(yīng)槽1，在盛液反應(yīng)槽I內(nèi)下部四角處分別設(shè)有一體的凸臺(tái)3，在盛液反應(yīng)槽I內(nèi)通過(guò)所述凸臺(tái)3支撐有鏤空隔板4，在鏤空隔板4四周分別設(shè)有矩形槽口 401，在鏤空隔板4上沿橫向并列設(shè)有多個(gè)條形通孔402，所述盛液反應(yīng)槽I內(nèi)腔通過(guò)鏤空隔板4分成上下布置的兩個(gè)腔，分別為清洗腔102和攪動(dòng)腔101，清洗腔102和攪動(dòng)腔101通過(guò)鏤空隔板4的矩形槽口 401和條形通孔402連通。
[0024]作為優(yōu)選，在盛液反應(yīng)槽I內(nèi)壁位于鏤空隔板4的上端設(shè)有四個(gè)限位方槽104，在限位方槽104內(nèi)通過(guò)間隙配合插入有限位塊5，限位塊5外端壓在鏤空隔板4上表面，用于對(duì)鏤空隔板4進(jìn)行限位。
[0025]在盛液反應(yīng)槽I內(nèi)位于鏤空隔板4下方的攪動(dòng)腔101內(nèi)鉸接有雙葉片攪板2，用于攪動(dòng)盛液反應(yīng)槽I內(nèi)的清洗液9。所述雙葉片攪板2包括對(duì)稱固接在一起的兩個(gè)葉片201，兩個(gè)葉片201形成一定的夾角，在兩個(gè)葉片201之間連接處的兩端對(duì)稱設(shè)有一體的旋轉(zhuǎn)軸202。作為優(yōu)選，所述兩個(gè)葉片201的夾角為120-160度。在盛液反應(yīng)槽I的前后側(cè)內(nèi)壁中部沿豎直方向設(shè)有條形卡槽103，條形卡槽103的下端為半圓弧狀，所述雙葉片攪板2兩端的旋轉(zhuǎn)軸202直徑與條形卡槽103的寬度配合并且分別插入到條形卡槽103內(nèi)下端。
[0026]在雙葉片攪板2兩端對(duì)稱連接有兩個(gè)立桿7，立桿7下端分別通過(guò)一個(gè)Y型支架8與雙葉片攪板2的兩個(gè)葉片201上表面固接，Y型支架8分別貫穿鏤空隔板4前后邊緣的矩形槽口 401，兩個(gè)立桿7上端分別延伸到盛液反應(yīng)槽I外面。作為優(yōu)選，在每個(gè)立桿7的上端分別固接有矩形傳動(dòng)板6，在傳動(dòng)板6中部設(shè)有方孔601，用于連接外部振動(dòng)機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)機(jī)械攪拌。
[0027]使用時(shí)，將裝有晶片的晶片籃放置在鏤空隔板4上，通過(guò)手動(dòng)扳動(dòng)立桿7或通過(guò)傳動(dòng)板6連接外部振動(dòng)機(jī)構(gòu)便可帶動(dòng)雙葉片攪板2以兩端的旋轉(zhuǎn)軸202為軸做往復(fù)擺動(dòng)，并帶動(dòng)盛液反應(yīng)槽I內(nèi)的清洗液9通過(guò)鏤空隔板4的矩形槽口 401和條形通孔402在清洗腔102和攪動(dòng)腔101之間不停流動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)在晶片籃靜止不動(dòng)的前提下完成對(duì)晶片的清洗。
[0028]盡管本實(shí)用新型的實(shí)施方案已公開(kāi)如上，但其并不僅僅限于說(shuō)明書(shū)和實(shí)施方式中所列運(yùn)用，它完全可以被適用于各種適合本實(shí)用新型的領(lǐng)域，對(duì)于熟悉本領(lǐng)域的人員而言，可容易地實(shí)現(xiàn)另外的修改，因此在不背離權(quán)利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本實(shí)用新型并不限于特定的細(xì)節(jié)和這里示出與描述的圖例。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種具有攪拌功能的實(shí)驗(yàn)用半導(dǎo)體清洗裝置，包括上端敞口的盛液反應(yīng)槽；其特征是: 鏤空隔板，設(shè)在盛液反應(yīng)槽內(nèi)下部，在鏤空隔板四周分別設(shè)有矩形槽口，在鏤空隔板上設(shè)有多個(gè)條形通孔，所述盛液反應(yīng)槽內(nèi)腔通過(guò)鏤空隔板分成上下連通的兩個(gè)腔； 雙葉片攪板，鉸接在盛液反應(yīng)槽內(nèi)位于鏤空隔板的下方，用于攪動(dòng)盛液反應(yīng)槽內(nèi)的清洗液；在雙葉片攪板兩端對(duì)稱連接有兩個(gè)立桿，立桿下端通過(guò)Y型支架與雙葉片攪板的兩個(gè)葉片固接，兩個(gè)立桿上端分別延伸到盛液反應(yīng)槽外面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有攪拌功能的實(shí)驗(yàn)用半導(dǎo)體清洗裝置，其特征是:在盛液反應(yīng)槽內(nèi)下部四角處分別設(shè)有凸臺(tái)，所述鏤空隔板支撐在所述凸臺(tái)上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有攪拌功能的實(shí)驗(yàn)用半導(dǎo)體清洗裝置，其特征是:所述雙葉片攪板包括固接在一起的所述兩個(gè)葉片，兩個(gè)葉片形成一定的夾角，在兩個(gè)葉片之間連接處的兩端對(duì)稱設(shè)有旋轉(zhuǎn)軸。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的具有攪拌功能的實(shí)驗(yàn)用半導(dǎo)體清洗裝置，其特征是:所述兩個(gè)葉片的夾角為120-160度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有攪拌功能的實(shí)驗(yàn)用半導(dǎo)體清洗裝置，其特征是:在每個(gè)立桿的上端分別固接有傳動(dòng)板，在傳動(dòng)板中部設(shè)有方孔，用于連接外部振動(dòng)機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)機(jī)械攪拌。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的具有攪拌功能的實(shí)驗(yàn)用半導(dǎo)體清洗裝置，其特征是:在盛液反應(yīng)槽內(nèi)壁位于鏤空隔板的上端設(shè)有四個(gè)限位方槽，在限位方槽內(nèi)插入有限位塊，限位塊外端壓在鏤空隔板上表面，用于對(duì)鏤空隔板進(jìn)行限位。
7.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的具有攪拌功能的實(shí)驗(yàn)用半導(dǎo)體清洗裝置，其特征是:在盛液反應(yīng)槽的前后側(cè)內(nèi)壁中部沿豎直方向設(shè)有條形卡槽，條形卡槽的下端為半圓弧狀，所述雙葉片攪板兩端的旋轉(zhuǎn)軸分別插入到條形卡槽內(nèi)下端。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種具有攪拌功能的實(shí)驗(yàn)用半導(dǎo)體清洗裝置，包括上端敞口的盛液反應(yīng)槽；鏤空隔板設(shè)在盛液反應(yīng)槽內(nèi)下部，在鏤空隔板四周分別設(shè)有矩形槽口，在鏤空隔板上設(shè)有多個(gè)條形通孔，所述盛液反應(yīng)槽內(nèi)腔通過(guò)鏤空隔板分成上下連通的兩個(gè)腔；雙葉片攪板鉸接在盛液反應(yīng)槽內(nèi)位于鏤空隔板的下方，在雙葉片攪板兩端對(duì)稱連接有兩個(gè)立桿，立桿下端通過(guò)Y型支架與雙葉片攪板的兩個(gè)葉片固接，兩個(gè)立桿上端分別延伸到盛液反應(yīng)槽外面。有益效果是：能夠?qū)崿F(xiàn)在晶片籃靜止不動(dòng)的前提下完成對(duì)晶片的清洗，可有效避免晶片籃靜止清洗過(guò)程中的反應(yīng)速率不均勻和提拉晶片籃清洗過(guò)程中容易產(chǎn)生碰撞的問(wèn)題，清洗效果好，晶片籃不會(huì)產(chǎn)生碰撞，成品率高。
【IPC分類】H01L21-67, B08B3-10
【公開(kāi)號(hào)】CN204320728
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420800821
【發(fā)明人】孫承智
【申請(qǐng)人】遼寧石化職業(yè)技術(shù)學(xué)院
【公開(kāi)日】2015年5月13日
【申請(qǐng)日】2014年12月17日