專利名稱：一種真空罐蓋的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種真空罐蓋，尤其涉及一種VOD精煉爐的真空罐蓋。
背景技術：
VOD精煉爐在精煉過程中，真空罐蓋處于1600—170(TC高溫輻射的惡 劣環(huán)境下，罐蓋易變形。由于吹氧、加料、測溫取樣、窺視等功能設施全部 布置在真空罐蓋上，罐蓋的變形將影響到精煉的各個程序，乃至真空罐內真 空度的變化。
實用新型內容
本實用新型要解決的技術問題是提供一種在高溫輻射的惡劣環(huán)境下不易 變形的真空罐蓋。
本實用新型包括罐蓋本體，在所述罐蓋本體的外側布置一殼體，所述殼 體與罐蓋本體的外側面之間形成一水冷腔，在殼體上設置與所述水冷腔相互 連通的進水口和出水口。
作為本實用新型的改進，在水冷腔中設置若干塊隔水板，形成一水流通道。
本實用新型中的真空罐蓋通過冷卻腔中的水對罐蓋本體進行冷卻，從而 保證真空罐蓋在高溫輻射的惡劣環(huán)境不易變形，順利進行精煉的各個程序， 以及不會影響真空罐內真空度的變化。
冷卻水通過水流通道在冷卻腔中長時間流動，可最大限度地發(fā)揮冷卻水 的效用。

圖1是本實用新型的一種結構示意圖；圖2是本實用新型中水冷腔的一種內部結構示意圖。
具體實施方式

如圖1所示，真空罐蓋包括罐蓋本體1，在所述罐蓋本體1的外側布置 一殼體2，所述殼體2與罐蓋本體1的外側面之間形成一水冷腔3。在殼體2 上設置進水口 4和出水口 5，所述進水口 4和出水口 5與水冷腔3相互連通。
如圖2所示，在水冷腔3中設置若干塊隔水板6，形成一水流通道7，圖 中虛線所示即為隔水板6。
進水口 4布置在水流通道7—端，出水口 5布置在水流通道7的另一端。 當冷卻水從進水口 4進入冷水腔3中時，冷卻水沿著圖中箭頭所示的流動方 向在水流通道7中流動，最終從出水口 5流出。
權利要求1、一種真空罐蓋，包括罐蓋本體，其特征在于在所述罐蓋本體的外側布置一殼體，所述殼體與罐蓋本體的外側面之間形成一水冷腔，在殼體上設置與所述水冷腔相互連通的進水口和出水口。
2、 根據權利要求1所述的一種真空罐蓋，其特征在于在水冷腔中設置若干塊隔水板，形成一水流通道。
專利摘要本實用新型公開了一種在高溫輻射的惡劣環(huán)境下不易變形的真空罐蓋，其包括罐蓋本體，在所述罐蓋本體的外側布置一殼體，所述殼體與罐蓋本體的外側面之間形成一水冷腔，在殼體上設置與所述水冷腔相互連通的進水口和出水口。
文檔編號F27D1/18GK201269695SQ20082018560
公開日2009年7月8日 申請日期2008年9月10日 優(yōu)先權日2008年9月10日
發(fā)明者宋子富, 曹圣恩, 鮑泉官 申請人:江蘇寶航特鋼有限公司