專利名稱：細碎粉末噴射設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種細碎粉末噴射設備，它通過傾斜一噴嘴管把細碎粉末與一氣流一起噴射到一基片之類部件上。
細碎粉末噴射設備的代表性例子有隔離粒子噴射設備，該設備把用作預定數(shù)量的液晶顯示隔離粒子(隔離小珠)的粒子大小均勻的細碎粉末均勻噴射到構成液晶顯示裝置的液晶顯示板的基片、例如一玻璃基片與一玻璃或塑料基片之間而形成一層隔離粒子。
在液晶顯示裝置等的液晶顯示板中，約為幾微米到幾十微米的大小均勻的粒子(例如塑料粒子和硅石粒子之類隔離小珠)以每平方毫米10-2000個粒子的數(shù)量盡可能均勻地噴射到玻璃基片之間、塑料(有機玻璃等等)基片之間和塑料基片與玻璃基片之間而形成一層隔離粒子(下文以玻璃基片為例進行說明，玻璃基片作為待噴射部件)，以便形成使液晶帶電的空間。
某些現(xiàn)有隔離粒子噴射設備用一細管(輸送管)輸送與空氣、氮氣等氣流一起的隔離細粒后從一擺動噴嘴管把粒子與氣流一起排出，從而把隔離粒子噴射到玻璃基片上。隔離粒子為大小為幾微米到幾十微米的細碎粉末粒子，容易懸浮在空中。它們?yōu)楦鞣N容易帶電的塑料粒子或硅石粒子。因此很難以優(yōu)良的可重復性以預定密度把隔離粒子噴射到玻璃基片上。這些設備可按照帶電極性(靜電極性)使隔離粒子帶電，而玻璃基片和一平板接地，從而以預定密度把隔離粒子可靠地噴射到玻璃基片上。
新近，液晶顯示板的尺寸越來越大，許多液晶顯示板常常用單塊玻璃基片制成，因此需要把隔離粒子噴射到更大面積上。因此，噴射隔離粒子的噴嘴管的擺動角度必須更大。因此，噴嘴管噴嘴離基片中心的距離與離基片四邊的距離之間的差別越來越大，從而很難把隔離粒子均勻地噴射到該大尺寸玻璃基片上。
本發(fā)明的一個目的是提供一種能把隔離粒子之類細碎粉末均勻噴射到大尺寸玻璃基片之類一部件上的細碎粉末噴射設備。
本發(fā)明細碎粉末噴射設備包括一距一待噴射部件預定距離、在預定方向上傾斜的噴嘴管，該噴嘴管把細碎粉末與一氣流一起從其噴嘴噴射到該待噴射部件上；以及一運動速度控制裝置，該控制裝置按照試噴時沉積在該部件上的細碎粉末的密度分布控制該噴嘴管的該噴嘴的運動速度。
在本發(fā)明細碎粉末噴射設備中，該密度分布用一二次函數(shù)表示，該二次函數(shù)表示試噴時所沉積細碎粉末的隨一峰值點與一噴射點即該噴嘴管的延長線與待噴射部件的交點之間的距離而變的密度遞減率。
此外，在本發(fā)明細碎粉末噴射設備中，該二次函數(shù)由一x軸線二次函數(shù)和一y軸線二次函數(shù)構成，該x軸線二次函數(shù)表示所沉積細碎粉末的隨x軸線上該峰值點與該噴射點之間距離而變的密度遞減率，該y軸線二次函數(shù)表示所沉積細碎粉末的隨y軸線上該峰值點與該噴射點之間距離而變的密度遞減率。
此外，在本發(fā)明細碎粉末噴射設備中，噴嘴管噴嘴的運動速度隨著所沉積細碎粉末密度遞減率的增加受控地減小。
按照本發(fā)明細碎粉末噴射設備，噴嘴管噴嘴的運動速度在一運動速度控制裝置的控制下，按照該表示所沉積細碎粉末密度遞減率隨試噴中峰值點與噴射點之間距離而變的二次函數(shù)，隨著所噴射細碎粉末密度遞減率的增加而減小，從而可把細碎粉末均勻地噴射到待噴射的該大尺寸部件上。


圖1為本發(fā)明一細碎粉末噴射設備的剖面圖。
圖2為一用于本發(fā)明細碎粉末噴射設備的細碎粉末噴射機構的立體示意圖。
圖3為沿圖2中A-A線剖取的剖面圖，詳細示出本發(fā)明細碎粉末噴射機構中一用來擺動噴嘴管的擺動機構。
圖4為圖3中B-B向視圖，示出本發(fā)明該擺動機構。
圖5為圖3中C-C向視圖，示出本發(fā)明該擺動機構。
圖6A、6B、6C和6D例示出用本發(fā)明細碎粉末噴射設備中的直線運動致動器擺動噴嘴管。
圖7例示出包括本發(fā)明隔離粒子噴射設備的細碎粉末噴射系統(tǒng)的結構。
圖8示出使用本發(fā)明隔離粒子噴射設備試噴時沉積在玻璃基片整個表面上的隔離粒子的密度分布。
圖9示出使用本發(fā)明隔離粒子噴射設備試噴時在相交于玻璃基片中心的x軸線和y軸線上每隔2cm測得的所沉積隔離粒子的密度分布。
圖10示出沉積在玻璃基片整個表面上的隔離粒子的密度分布，該隔離粒子用本發(fā)明隔離粒子噴射設備噴射。
圖11示出在相交于玻璃基片中心的x軸線和y軸線上每隔2cm測得的所沉積隔離粒子的密度分布，這些隔離粒子用本發(fā)明隔離粒子噴射設備噴射。
下面結合附圖所示優(yōu)選實施例詳細說明本發(fā)明一細碎粉末噴射設備。
圖1為本發(fā)明細碎粉末噴射設備的剖面圖。
在該附圖中，一用作本發(fā)明細碎粉末噴射設備的隔離粒子噴射設備10有一作為待噴射部件的玻璃基片16，該玻璃基片固定在一位于氣密室12底部的平板14上。平板14、從而固定在該平板上的玻璃基片16接地，確保用作隔離粒子20的帶電細碎粉末沉積到接地的玻璃基片表面上。
平板14上方有一噴射機構22，該噴射機構有一噴射隔離粒子20的噴嘴管18。該噴嘴管18把在一軟管24中與一空氣、氮氣等氣流一起輸送的隔離粒子20噴射到玻璃基片16上。該噴嘴管18可在任何預定第一方向和與第一方向垂直的第二方向、例如x軸線方向和y軸線方向上擺動。該噴嘴管18在預定方向上傾斜的同時一起噴出隔離粒子20與該氣流，從而可把隔離粒子20噴射到玻璃基片16的預定部位。
圖2為本發(fā)明隔離粒子噴射設備10中隔離粒子20的噴射機構22的立體示意圖。
在該附圖中，該噴射機構22布置成使得兩直線運動致動器28和30在y方向上互相平行地位于一安裝臺26上。由可調接頭(球形接頭)構成的第二接頭32和34分別位于直線運動致動器28和30的內側。噴嘴管18位于兩直線運動致動器28和30后方兩直線運動致動器28和30之間中心線上，從而噴嘴管18可在任何x軸線方向和y軸線方向上擺動到在任意方向上傾斜。直線運動致動器28和30分別包括與y方向平行的滑塊28a和30a以及導軌28b和30b，其中，滑塊28a和30a分別在y方向上沿導軌28b和30b來回運動。本發(fā)明使用的直線運動致動器不受特別限制，也可使用AC伺服驅動的直線致動器、直線步進電動機等。
噴嘴管18的頂端上裝有第一接頭35。在該附圖中，在x方向上伸向兩側的可調接頭(萬向接頭)36和38用作第一接頭35。位于直線運動致動器28和30內側上的第二接頭(可調接頭)32和34分別經兩連桿40和42與裝在噴嘴管18頂端上的第一接頭35的可調接頭36和38連接。
圖3為沿圖2中A-A線剖取的剖面圖，詳細示出一用來擺動噴嘴管18的擺動機構。圖4為圖3中B-B向視圖，示出該擺動機構。圖5為圖3中C-C向視圖，示出該擺動機構。位于圖3中央的噴嘴管18為一空心管，其頂端連接有軟管(圖3中未示出)，其底端上有一噴嘴用來噴出細碎粉末(隔離粒子)20和氣流。噴嘴管18用一位于噴嘴管18縱向上中心的支撐件(萬向接頭)50裝在安裝臺26上，從而如圖2所示可在任何x軸線和y軸線方向上擺動。
如圖3和4所示，噴嘴管18的支撐件50在一固定在安裝臺26上的接頭底座52的中心孔中有一接頭環(huán)58，該接頭環(huán)58用與y軸線平行的兩支撐銷54和支撐銷54插入其中的軸承56支撐成可圍繞y軸線轉動。此外，支撐環(huán)58用與x軸線平行的兩支撐銷60和支撐銷60插入其中的軸承62把噴嘴管18支撐在該中心孔中，使得支撐環(huán)58可圍繞x軸線轉動。因此，噴嘴管18可在任何x軸線和y軸線方向上擺動，但無法圍繞其中心線轉動。
第一接頭35的可調接頭36和38裝在噴嘴管18的頂端上，用連桿40和42連接噴嘴管18與圖2所示直線運動致動器28和30內側上的第二接頭32和34。如圖3和5所示，可調接頭(萬向接頭)36和38裝在噴嘴管18頂端上，在x軸線方向上伸向該頂端兩側。它們由兩轉動環(huán)68構成，這兩轉動環(huán)用在水平方向上轉動的滾珠軸承66和一經滾珠軸承70與轉動環(huán)68連接的接頭臂72裝在噴嘴管18頂端上。當噴嘴管18的傾斜角度無需如此大時，第一接頭35的可調接頭36和38可用使用球軸承的球形接頭取代萬向接頭。
與連桿40(42)連接的接頭臂72經連桿40(42)與直線運動致動器28(30)的第二接頭32(34)連接，從而把直線運動致動器28(30)的運動傳給噴嘴管18。直線運動致動器28和30的第二接頭32和34的可調接頭可與可調接頭36和38相同，也可使用球形接頭之類其他可調接頭。
接頭底座52用一安裝環(huán)74固定在安裝臺26上。安裝環(huán)74有一用來調節(jié)噴嘴管18的位置的調節(jié)機構76。噴嘴管18的底端插入一使室12氣密、同時容許噴嘴管18擺動的橡膠蓋78中。橡膠蓋78的外周用一固定環(huán)80固定在安裝臺26上。當開動噴射機構22時，噴嘴管18的支撐件50等會生成灰塵，盡管灰塵的數(shù)量可忽略不計。橡膠蓋78用來防止灰塵進入室12中。
在如上布置的噴射隔離粒子20的噴射機構22中，直線運動致動器28(30)的運動、確切說滑塊28a(30a)沿導軌28b(30b)的運動造成噴嘴管18的擺動。
圖6A-6D分別例示出由直線運動致動器28(30)的滑塊28a(30a)的運動造成的噴嘴管18的擺動。圖6A示出噴嘴管18位于一運動區(qū)的中央(垂直位置)。圖6B示出當噴嘴管18擺動到該運動區(qū)在y軸線方向上的極限位置時直線運動致動器28和30的位置、確切說直線運動致動器28和30的滑塊28a和30a的位置。圖6C示出當噴嘴管18擺動到該運動區(qū)在x軸線方向上的極限位置時直線運動致動器28和30(滑塊28a和30a)的位置。圖6D示出噴嘴管18位于該運動區(qū)的角落上。
如圖6A、6B和6C所示，當噴嘴管18在y軸線方向上擺動時，兩直線運動致動器28和30同時在同一方向上運動，而當噴嘴管18在x軸線方向上擺動時，兩直線運動致動器28和30同時在相反方向上運動。當噴嘴管18以任何其他角度擺動時，它可通過兩直線運動致動器28和30的運動方向和速度的合成而以任何速度在x軸線方向和y軸線方向上運動，從而可把隔離粒子20噴射到玻璃基片16上任何部位。
圖7為一包括隔離粒子噴射設備10的細碎粉末噴射系統(tǒng)90的結構示意圖。細碎粉末噴射系統(tǒng)90包括噴射設備10；一與噴射設備10、確切說與噴射機構22的直線運動致動器28和30電連接、控制它們的致動器驅動器92；一與驅動器92電連接的定序器94和一與定序器94電連接、操縱噴射設備10、特別是把擺動控制系數(shù)輸入定序器94的觸板96。
下面說明如何把隔離粒子20噴射到玻璃基片16上。在把隔離粒子20噴射到玻璃基片16前，必須把隔離粒子20試噴到一玻璃基片試件上。在該試噴中，觸板96必須輸入噴嘴管18的運動軌跡和玻璃基片16的大小(高度×寬度)。所輸入數(shù)據(jù)經定序器94傳給致動器驅動器92，致動器驅動器92確定噴嘴管18噴嘴延長線在玻璃基片16上一X-Y坐標系中畫出的軌跡。
噴嘴管18噴嘴的垂直延長線與玻璃基片16的交點設為在其中表示玻璃基片16的對應部位的X-Y坐標系的原點。噴嘴管18噴嘴延長線在玻璃基片16上畫出的軌跡為許多連續(xù)的控制點((x1，y1)、(x2，y2)、(x3，y3)、(x4，y4)、…(xn，yn))。
致動器驅動器92用在玻璃基片16上X-Y坐標系中畫出的軌跡算出噴嘴管18在X-Y方向上的傾斜角度后把X-Y坐標系中的控制點轉換成直線運動致動器28和30的滑塊28a和30a在L1-L2坐標系中的對應位置((L11，L21)、(L12，L22)、(L13，L23)、(L14，L24)、…(L1n，L2n))。在L1-L2坐標系中，表示直線運動致動器28和30的滑塊28a和30a的滑動位置。
然后，致動器驅動器92操縱隔離粒子噴射設備10，改變噴嘴管18的傾斜角度，從而在順序把直線運動致動器28和30的滑塊28a和30a移動到位置((L11，L21)、(L12，L22)、(L13，L23)、(L14，L24)、…(L1n，L2n))上時以臨時速度(V)沿所確定軌跡改變噴射位置，從而把隔離粒子20試噴到玻璃基片試件16上。
試噴后，用一隔離粒子計數(shù)器(圖中未示出)測得沉積在玻璃基片試件16上的隔離粒子20的密度。圖8示出試噴時沉積在大小為100cm×100cm的玻璃基片的整個表面上的隔離粒子20的密度(隔離粒子數(shù)/mm2)分布。圖9示出在相交于圖8所示玻璃基片16中心的x軸線和y軸線上離端線每隔2cm測得的所沉積隔離粒子20的密度。在圖9中，垂直軸表示所沉積隔離粒子的密度(隔離粒子數(shù)/mm2)，水平軸表示距玻璃基片16的端部的距離(cm)。
從圖9所示試噴時所沉積隔離粒子密度的測量值顯然可知，所沉積隔離粒子的密度按照二次函數(shù)隨著與所沉積隔離粒子密度的一峰值點的距離的增加而減小，因此可用該二次函數(shù)得出所沉積隔離粒子隨與所沉積隔離粒子的密度的該峰值點的距離而變的密度遞減率。因此，試噴時所沉積隔離粒子的密度分布可用表示所沉積隔離粒子的密度遞減率隨與該密度的該峰值點的距離而變的該二次函數(shù)表示。
通過測量試噴時沉積在通過玻璃基片16的中心的x軸線上的峰值點“b”上的隔離粒子的密度和沉積在x軸線上任何一點(測量點)上的隔離粒子的密度和計算該峰值點“b”與該測量點之間的距離，即可得出方程1(x軸線二次函數(shù))中的常數(shù)“a”、即所沉積隔離粒子密度隨x軸線方向上與該峰值點之間的距離而變的遞減率常數(shù)“ax”。當峰值點“b”為玻璃基片16的中心時，“b”的值為0。
方程1峰值基準密度率＝a[(測量點(＝與峰值點之間的距離)-b)/基片大小×1/2]2＋1例如，在該方程中用實際值算出遞減率常數(shù)“ax”。設距玻璃基片試件16上x軸線左端50cm的一點為峰值點，x軸線左端一點為測量點。如圖9所示，設沉積在峰值點上的隔離粒子的密度為230(隔離粒子數(shù)/mm2)，沉積在該測量點上的隔離粒子的密度為150(隔離粒子數(shù)/mm2)，則在方程1中，峰值基準密度率為150/230，測量點為50(cm)，“b”為0，基片大小×1/2為50(cm)，從而得出遞減率常數(shù)“ax”約為-0.348。
此外，測量試噴時沉積在通過玻璃基片16的中心的y軸線上的峰值點“b”上的隔離粒子的密度和沉積在y軸線上任何一點(測量點)上的隔離粒子的密度和計算該峰值點“b”與該測量點之間的距離，即可得出方程1(y軸線二次函數(shù))中的常數(shù)“a”、即所沉積隔離粒子密度隨y軸線方向上與該峰值點之間的距離而變的遞減率常數(shù)“ay”。當峰值點“b”為玻璃基片16的中心時，“b”的值也為0。
在方程1中，用實際值算出遞減率常數(shù)“ay”。設距玻璃基片試件16上y軸線上頂端50cm的一點為峰值點，x軸線頂端上一點為測量點。如圖9所示，設沉積在峰值點上的隔離粒子的密度為240(隔離粒子數(shù)/mm2)，沉積在該測量點上的隔離粒子的密度為150(隔離粒子數(shù)/mm2)，則在方程1中，峰值基準密度率為150/240，測量點為50(cm)，“b”為0，基片大小×1/2為50(cm)，從而得出遞減率常數(shù)“ay”約為-0.375。
然后，隨x軸線方向上與峰值點之間距離而變的遞減率常數(shù)“ax”(-0.348)和隨y軸線方向上與峰值點之間距離而變的遞減率常數(shù)“ay”(-0.375)用觸板96輸入后經定序器94傳給致動器驅動器92。致動器驅動器92計算噴嘴管18延長線與玻璃基片16表面的交點即噴射點在該X-Y坐標系中各控制點之間的移動速度。
因此，可根據(jù)x軸線上控制點(x1，y1)與峰值點之間的距離和y軸線上控制點(x1，y1)與峰值點之間的距離確定噴射點在控制點(x1，y1)與(x2，y2)之間的移動速度。用x軸線上控制點(x1，y1)與峰值點之間的距離得出所沉積粉末密度隨x軸線方向上與峰值點之間距離而變的遞減率即峰值基準密度率(所沉積細碎粉末密度遞減率)“Rx1”。用y軸線上與峰值點之間的距離得出所沉積粉末密度隨y軸線方向上與峰值點之間距離而變的遞減率即峰值基準密度率(所沉積細碎粉末密度遞減率)“Ry1”。然后用試噴時噴射點的移動速度(臨時速度V)乘以峰值基準密度率“Rx1”和“Ry1”得出噴射點在控制點(x1，y1)與(x2，y2)之間的移動速度(Rx1×Ry1×V)。
當控制點(x1，y1)比方說為一點(10，10)、而從方程1分別得出“Rx1”為0.777和“Ry1”為0.760時，可算出噴射點在控制點(x1，y1)與(x2，y2)之間的移動速度(Rx1×Ry1×V)為0.59V。這就是說，可把噴射點的移動速度控制成試噴時的臨時速度V的0.59倍。
同樣，可根據(jù)x軸線上控制點(x2，y2)與峰值點之間的距離和y軸線上控制點(x2，y2)與峰值點之間的距離確定噴射點在控制點(x2，y2)與(x3，y3)之間的移動速度(Rx2×Ry2×V)。此外，可得出噴射點在控制點(x3，y3)與(x4，y4)之間的移動速度(Rx3×Ry3×V)和噴射點在控制點(xn-1，yn-1)與(xn，yn)之間的移動速度(Rx(n-1)×Ry(n-1)×V)。由于方程1左邊該項即峰值基準遞減率“Rx”和峰值基準遞減率“Ry”都始終滿足(0≤Rx＜1，0≤Ry＜1)，因此噴射點的移動速度、從而噴嘴管18的移動速度可受控地隨著噴射點與峰值點之間的距離的增加而減小。
然后，致動器驅動器92根據(jù)X-Y坐標系中各控制點之間的距離和噴射點的移動速度計算直線運動致動器28和30的滑塊28a和30a的移動速度。確切說，致動器驅動器92根據(jù)控制點(x1，y1)與(x2，y2)之間的距離和噴射點在控制點(x1，y1)與(x2，y2)之間的移動速度(Rx1×Ry1×V)計算直線運動致動器28和30的滑塊28a和30a在(L11，L21)與(L12，L22)之間的移動速度。同樣，致動器驅動器92分別計算直線運動致動器28和30的滑塊28a和30a在(L12，L22)與(L13，L23)之間、(L13，L23)與(L14，L24)之間和(L1n-1，L2n-1)與(L1n，L2n)之間的移動速度。
然后，把要在其上實際噴射細碎粉末的玻璃基片16固定在氣密室12中的平板14上。該玻璃基片16必須固定在試噴隔離粒子20時使用的玻璃基片試件的同一位置上。
然后，致動器驅動器92操縱隔離粒子噴射設備10，以算得的速度順序把直線運動致動器28和30的滑塊28a和30a移動到位置(L11，L21)、(L12，L22)、(L13，L23)、(L14，L24)…(L1n，L2n)上時把隔離粒子20噴射到玻璃基片16上。因此，當噴射點分別以移動速度(Rx1×Ry1×V)在控制點(x1，y1)與(x2，y2)之間、以移動速度(Rx2×Ry2×V)在控制點(x2，y2)與(x3，y3)之間、以移動速度(Rx3×Ry3×V)在控制點(x3，y3)與(x4，y4)之間和以移動速度(Rx(n-1)×Ry(n-1)×V)在控制點(xn-1，yn-1)與(xn，yn)之間移動時把隔離粒子20噴射到玻璃基片16上。
圖10示出噴射后沉積在玻璃基片16整個表面上的隔離粒子20的密度分布(隔離粒子數(shù)/mm2)。圖11示出圖10所示相交于玻璃基片16的中心的x軸線和y軸線上離端部每隔2cm的所噴射隔離粒子20的密度(隔離粒子數(shù)/mm2)。在圖11中，垂直軸表示所沉積隔離粒子20的密度(隔離粒子數(shù)/mm2)，水平軸表示離基片端部的距離(cm)。
從圖11所示測量結果顯然可知，噴嘴管18的移動速度受控地隨噴射點離開玻璃基片16中心點的距離的增加而減小，因此可把隔離粒子20均勻地噴射到玻璃基片16的整個表面上。在一玻璃基片16上噴射隔離粒子20后，在下一張玻璃基片16上同樣噴射隔離粒子20。
按照本發(fā)明隔離粒子噴射設備，噴嘴管18噴嘴的移動速度在控制下按照所沉積細碎粉末密度遞減率與試噴時所沉積粉末的密度的一峰值點與一噴射點之間的距離之間的二次函數(shù)關系隨著所沉積細碎粉末密度的遞減率的增加而減小，從而可把細碎粉末均勻地噴射到一大尺寸玻璃基片16上。
在上述實施例中，隔離粒子噴射設備10通過擺動位于玻璃基片上方的噴嘴管18把隔離粒子20向下均勻地噴射到水平固定在平板14上的玻璃基片16上。但是，本發(fā)明決不限于上述實施例?？墒褂萌魏晤愋偷囊鶆驀娚涞募毸榉勰确秸f隔離粒子之外的粉末漆、調色劑等?？墒褂萌魏我獓娚涞牟考绮ＡЩ獾挠梅勰┢釃娡康奈矬w。它們不限于水平地固定在平板14上，例如可以是不裝在平板上的垂直和斜置的待噴涂基片和部件。隔離粒子在待噴射部件上的噴射方向也不受上述實施例的限制，隔離粒子可以任何向下垂直和傾斜方向噴射到水平放置或斜置的部件上以及以任何水平和傾斜方向噴射到垂直放置或斜置的部件上。
在上述實施例中，噴嘴管18通過控制直線運動致動器28和30的滑塊28a和30a在x軸線方向和y軸線方向上擺動。但是，本發(fā)明也可用于這樣的隔離粒子噴射設備，其中，用與電動機連接的一曲軸或一偏心凸輪使得噴嘴管18在x軸線方向和y軸線方向上擺動。
按照本發(fā)明，噴嘴管18噴嘴的移動速度在一移動速度控制裝置的控制下按照所沉積細碎粉末的密度遞減率與試噴時峰值點與噴射點之間的距離之間的二次函數(shù)關系隨著所沉積細碎粉末密度的遞減率的增加而減小，從而可把細碎粉末均勻地噴射到一大尺寸部件上。
權利要求
1.一種細碎粉末噴射設備，包括一距一待噴射部件預定距離、在預定方向上傾斜的噴嘴管，該噴嘴管把細碎粉末與一氣流一起從其噴嘴噴射到該待噴射部件上；以及一運動速度控制裝置，該控制裝置根據(jù)試噴時沉積在所述部件上的細碎粉末的密度分布控制該噴嘴管的噴嘴的運動速度。
2.按權利要求1所述的細碎粉末噴射設備，其特征在于，所述密度分布用二次函數(shù)表示，該二次函數(shù)表示所沉積細碎粉末的隨所述試噴時該密度的一峰值點與所述噴嘴管的延長線與所述待噴射部件相交噴射點之間距離而變的密度遞減率。
3.按權利要求2所述的細碎粉末噴射設備，其特征在于，所述二次函數(shù)由x軸線二次函數(shù)和y軸線二次函數(shù)構成，該x軸線二次函數(shù)表示所沉積細碎粉末隨x軸線上該峰值點與該噴射點之間距離而變的密度遞減率，該y軸線二次函數(shù)表示所沉積細碎粉末隨y軸線上該峰值點與該噴射點之間距離而變的密度遞減率。
4.按權利要求1所述的細碎粉末噴射設備，其特征在于，所述噴嘴管的噴嘴的移動速度受控地隨著所述所沉積細碎粉末的密度遞減率的增加而減小。
5.按權利要求2所述的細碎粉末噴射設備，其特征在于，所述噴嘴管的噴嘴的移動速度受控地隨著所述所沉積細碎粉末的密度遞減率的增加而減小。
6.按權利要求3所述的細碎粉末噴射設備，其特征在于，所述噴嘴管的噴嘴的移動速度受控地隨著所述所沉積細碎粉末的密度遞減率的增加而減小。
7.按上述任一權利要求所述的細碎粉末噴射設備，其特征在于，所述待噴射部件為一液晶顯示基片，所述細碎粉末為用于液晶顯示的隔離粒子。
全文摘要
一種細碎粉末噴射設備,包括一距一待噴射部件預定距離、在預定方向上相對該部件傾斜的噴嘴管,該噴嘴管把細碎粉末與一氣流一起從其噴嘴噴射到該待噴射部件上;以及一運動速度控制裝置,該控制裝置按照二次函數(shù)控制該噴嘴管的該噴嘴的運動速度,該二次函數(shù)表示所沉積細碎粉末隨試噴時沉積在待噴射部件上的細碎粉末的密度的一峰值點與一噴射點即該噴嘴管的延長線與待噴射部件的交點之間的距離而變的密度遞減率。
文檔編號B05B7/14GK1339338SQ0112187
公開日2002年3月13日 申請日期2001年6月29日 優(yōu)先權日2000年8月21日
發(fā)明者土井真, 伴昌樹, 渡邊伍郎 申請人:日清工程株式會社