本發(fā)明涉及的是一種納米材料領(lǐng)域的技術(shù),具體是一種基于重離子輻照的納米多孔膜制備方法及應用。
背景技術(shù):
1、納米多孔膜可以極大增加水分的蒸發(fā)速率,強化散熱。結(jié)合重離子輻照和紫外光誘發(fā)氧化刻蝕的方法可以生成性能良好的納米多孔膜,但這種納米多孔膜多用作納濾膜選擇性分離離子,在納米結(jié)構(gòu)強化傳熱領(lǐng)域應用較少。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)存在的上述不足,提出一種基于重離子輻照的納米多孔膜制備方法及應用,能顯著提高水凝膠的蒸發(fā)速率,降低電子設(shè)備的升溫幅度,有效保障電子設(shè)備的穩(wěn)定運行,能使水凝膠蒸發(fā)速率提升至3倍以上,使運行中的電子器件溫度降低24℃。相比自然冷卻,納米多孔膜強化水凝膠蒸發(fā)散熱的方法能使換熱效率提高兩倍。
2、本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
3、本發(fā)明涉及一種基于重離子輻照的納米多孔膜的制備方法,依次通過重離子輻照和紫外光誘發(fā)氧化刻蝕的方式處理高分子膜得到納米多孔膜。
4、所述的重離子輻照是指:采用1~5gev鉍離子、金離子或銀離子,輻照劑量為107~1012cm-2對高分子膜進行重離子輻照。
5、所述的高分子膜為pet膜、聚乙烯或聚丙烯膜,其厚度為20μm以下。
6、所述的紫外光誘發(fā)氧化刻蝕是指:用紫外光照射重離子輻照處理后的高分子膜3~6小時,納米孔洞中的活性官能團會吸收紫外光導致聚合物鏈發(fā)生光氧化降解,使得孔徑擴大,最后用水沖洗掉納米孔中的殘留物質(zhì)。
7、所述的紫外光照射,具體為:采用365nm波長、2mw/cm2強度的紫外光源,紫外光照射高分子膜的時長為3~6小時。
8、所述的納米多孔膜的納米孔徑范圍為0.5~10nm之間。
9、本發(fā)明涉及上述納米多孔膜的應用,用于電子設(shè)備的散熱,具體為:將納米多孔膜和水凝膠依次設(shè)置于電子設(shè)備外部,通過加快蒸發(fā)速率強化水凝膠的蒸發(fā)散熱能力。
10、所述的水凝膠材料采用聚丙烯酰胺(paam)、聚乙烯醇、透明質(zhì)酸。
11、技術(shù)效果
12、本發(fā)明采用具有良好柔韌性的聚合物材料,經(jīng)重離子輻照輔以紫外光誘發(fā)氧化刻蝕處理,得到能夠貼合在水凝膠上的納米多孔膜,強化水凝膠蒸發(fā)散熱能力。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明制備得到的納米多孔膜能顯著提高水凝膠的蒸發(fā)速率,強化換熱效率,降低電子設(shè)備的升溫幅度,有效保障電子設(shè)備的穩(wěn)定運行。
1.一種基于重離子輻照的納米多孔膜的制備方法,其特征在于,依次通過重離子輻照和紫外光誘發(fā)氧化刻蝕的方式處理高分子膜得到納米多孔膜;
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于重離子輻照的納米多孔膜的制備方法,其特征是,所述的重離子輻照是指:采用1~5gev鉍離子、金離子或銀離子,輻照劑量為107~1012cm-2對高分子膜進行重離子輻照。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于重離子輻照的納米多孔膜的制備方法,其特征是,所述的紫外光誘發(fā)氧化刻蝕是指:用紫外光照射重離子輻照處理后的高分子膜3~6小時,納米孔洞中的活性官能團會吸收紫外光導致聚合物鏈發(fā)生光氧化降解,使得孔徑擴大,最后用水沖洗掉納米孔中的殘留物質(zhì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的基于重離子輻照的納米多孔膜的制備方法,其特征是,所述的紫外光照射,具體為:采用365nm波長、2mw/cm2強度的紫外光源,紫外光照射高分子膜的時長為3~6小時。
5.一種基于權(quán)利要求1-4中任一所述方法制備得到的納米多孔膜的應用,其特征在于,用于電子設(shè)備的散熱,具體為:將納米多孔膜和水凝膠依次設(shè)置于電子設(shè)備外部,通過加快蒸發(fā)速率強化水凝膠的蒸發(fā)散熱能力。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的引用,其特征是,所述的水凝膠材料采用聚丙烯酰胺(paam)、聚乙烯醇或透明質(zhì)酸。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的引用,其特征是,所述的納米多孔膜的納米孔徑范圍為0.5~10nm之間。