丙二酸二鹽和用于制備丙二酰二鹵化物的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了式2的化合物其中R1、MA和MB如公開(kāi)中所定義。另外公開(kāi)的是用于制備式1的化合物的方法其中R1和X如在公開(kāi)中所定義，所述方法包括使式2的化合物與鹵化劑接觸。另外公開(kāi)的是用于制備式4的化合物的方法其中R1、R3和R4如在公開(kāi)中所定義，所述方法包括使其中R3和R4如在公開(kāi)中所定義的式5的化合物與式1的化合物反應(yīng)，制備式4的化合物的方法包括由式2的化合物通過(guò)上文所公開(kāi)的方法制備式1的化合物的步驟。另外公開(kāi)的是化合物，即3，5-二氯苯乙亞胺酸甲酯、3，5-二氯苯乙亞胺酸甲酯或3，5-二氯苯乙亞胺酸乙酯或它們的鹽。
【專利說(shuō)明】丙二酸二鹽和用于制備丙二酰二南化物的方法

【背景技術(shù)】
[0001] 本發(fā)明涉及新型的丙二酸二鹽。這些二鹽可用于制備某些丙二酰二鹵化物的方法 中，所述方法繼而可用于制備某些介離子殺蟲(chóng)劑（參見(jiàn)如PCT公開(kāi)W02009/99929A1)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0002] 本發(fā)明涉及式2

【權(quán)利要求】
1. 式2的化合物
其中 R1為苯基或吡啶基，其各自任選地被Q和至多3個(gè)獨(dú)立地選自R2的取代基取代；前提 條件是R1被至少一個(gè)Q或一個(gè)R2取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為鹵素、氰基、SF5、烷基、鹵代烷基、烷氧基、鹵代 烷氧基、Q-C；烷硫基或Q-C；鹵代烷硫基； Q為苯基或吡啶基，其各自任選地被至多5個(gè)取代基取代，所述取代基獨(dú)立地選自鹵 素、氰基、Q-C；烷基、Q-C；鹵代烷基、Q-C；烷氧基和Q-C；鹵代烷氧基； 每個(gè) MA 和 MB 獨(dú)立地為 Li、Na、K、Ca、Ba 或 N (RA) (RB) (RG) (RD);并且 每個(gè)RA，RB，Re和RD獨(dú)立地為H、Q-C；烷基、環(huán)己基、苯基或芐基。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，其中 R1為苯基，其任選地被Q和至多3個(gè)獨(dú)立地選自R2的取代基取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為鹵素、烷基、鹵代烷基、烷氧基或鹵代烷氧基； Q為吡啶基，其任選地被至多2個(gè)獨(dú)立地選自鹵素和Q-C；鹵代烷基的取代基取代；并 且 每個(gè) MA 和 MB 獨(dú)立地為 Li、Na、K、NH4、NH (CH2CH3) 3、NH (CH2CH2CH2CH3) 3、NH2 (Bn) 2、NH2 (環(huán) 己基）2或順2(苯基）2。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的化合物，其中 R1為苯基，其任選地被至多2個(gè)獨(dú)立地選自R2的取代基取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為鹵素、烷基、鹵代烷基、烷氧基或鹵代烷氧基； 并且 每個(gè)MA和MB獨(dú)立地為Na、K、NH4或NH (CH2CH3) 3。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的化合物，其中 R1為苯基，其被2個(gè)選自R2的取代基在3位和5位上取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為C1或-CF3 ;并且 每個(gè)Ma和Mb獨(dú)立地為Na、K或NH4。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的化合物，其中 R1為苯基，其被1個(gè)選自R2的取代基在3位上取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為-CF3或-〇CF3 ;并且 每個(gè)Ma和Mb獨(dú)立地為Na、K或NH4。
6. 用于制備式1的化合物的方法 其中 R1為苯基或吡啶基，其各自任選地被Q和至多3個(gè)獨(dú)立地選自R2的取代基取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為鹵素、氰基、SF5、烷基、鹵代烷基、烷氧基、鹵代 烷氧基、Q-C；烷硫基或Q-C；鹵代烷硫基； Q為苯基或吡啶基，其各自任選地被至多5個(gè)取代基取代，所述取代基獨(dú)立地選自鹵 素、氰基、Q-C；烷基、Q-C；鹵代烷基、Q-C；烷氧基和Q-C；鹵代烷氧基；并且 X為C1或Br 所述方法包括使式2的化合物與鹵化劑接觸 其中
R1為苯基或吡啶基，其各自任選地被Q和至多3個(gè)獨(dú)立地選自R2的取代基取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為鹵素、氰基、SF5、烷基、鹵代烷基、烷氧基、鹵代 烷氧基、Q-C；烷硫基或Q-C；鹵代烷硫基； Q為苯基或吡啶基，其各自任選地被至多5個(gè)取代基取代，所述取代基獨(dú)立地選自鹵 素、氰基、Q-C；烷基、Q-C；鹵代烷基、Q-C；烷氧基和Q-C；鹵代烷氧基； 每個(gè) MA 和 MB 獨(dú)立地為 Li、Na、K、Ca、Ba 或 N (RA) (RB) (RG) (RD);并且 每個(gè)RA、RB、Re和RD獨(dú)立地為H、Q-C；烷基、環(huán)己基、苯基或芐基。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中 R1為苯基，其任選地被Q和至多3個(gè)獨(dú)立地選自R2的取代基取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為鹵素、Q-C；烷基、Q-C；鹵代烷基、Q-C；烷氧基或Q-C；鹵代烷氧基； Q為吡啶基，其任選地被至多2個(gè)獨(dú)立地選自鹵素和Q-C；鹵代烷基的取代基取代；并 且 每個(gè) MA 和 MB 獨(dú)立地為 Li、Na、K、NH4、NH (CH2CH3) 3、NH (CH2CH2CH2CH3) 3、NH2 (Bn) 2、NH2 (環(huán) 己基）2或順2(苯基）2。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中 R1為苯基，其任選地被至多2個(gè)獨(dú)立地選自R2的取代基取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為鹵素、烷基、鹵代烷基、烷氧基或鹵代烷氧基； 并且 每個(gè) MA 和 MB 獨(dú)立地為 Na、K、NH4、NH (CH2CH3) 3 或 NH (CH2CH2CH2CH3) 3。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中 鹵化劑為草酰氯、亞硫酰氯、光氣、三光氣、氰尿酰氯、三氯氧磷、三氯化磷、五氯化磷、 雙光氣、磺酰氯、亞硫酰溴、二溴三苯基膦或三溴化磷； 所述接觸在有機(jī)溶劑中進(jìn)行；并且 X為C1或fc。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中 鹵化劑為草酰氯、亞硫酰氯、光氣、三光氣或氰尿酰氯； X為C1 ;并且 有機(jī)溶劑為甲苯、二氯甲烷、環(huán)己烷、苯、1，2-二氯乙烷、乙酸乙酯或乙酸丁酯。
11. 制備式4的化合物的方法
其中 R1為苯基或吡啶基，其各自任選地被Q和至多3個(gè)獨(dú)立地選自R2的取代基取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為鹵素、氰基、SF5、烷基、鹵代烷基、烷氧基、鹵代 烷氧基、烷硫基或鹵代烷硫基； Q為苯基或吡啶基，其各自任選地被至多5個(gè)取代基取代，所述取代基獨(dú)立地選自鹵 素、氰基、烷基、鹵代烷基、烷氧基和鹵代烷氧基； R3為噻唑基、吡啶基或嘧啶基，其各自任選地被鹵素或烷基取代；并且 R4為H、烷基或鹵代烷基 所述方法包括通過(guò)使式2的化合物與鹵化劑接觸以產(chǎn)生式1的化合物而制備式1的化 合物
其中 R1為苯基或吡啶基，其各自任選地被Q和至多3個(gè)獨(dú)立地選自R2的取代基取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為鹵素、氰基、SF5、烷基、鹵代烷基、烷氧基、鹵代 烷氧基、烷硫基或鹵代烷硫基； Q為苯基或吡啶基，其各自任選地被至多5個(gè)取代基取代，所述取代基獨(dú)立地選自鹵 素、氰基、烷基、鹵代烷基、烷氧基和鹵代烷氧基；并且 X為C1或Br 其中 R1為苯基或吡啶基，其各自任選地被Q和至多3個(gè)獨(dú)立地選自R2的取代基取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為鹵素、氰基、SF5、烷基、鹵代烷基、烷氧基、鹵代 烷氧基、Q-C；烷硫基或Q-C；鹵代烷硫基； Q為苯基或吡啶基，其各自任選地被至多5個(gè)取代基取代，所述取代基獨(dú)立地選自鹵 素、氰基、Q-C；烷基、Q-C；鹵代烷基、Q-C；烷氧基和Q-C；鹵代烷氧基； 每個(gè) MA 和 MB 獨(dú)立地為 Li、Na、K、Ca、Ba 或 N (RA) (RB) (RG) (RD);并且 每個(gè)RA、RB、Re和RD獨(dú)立地為H、Q-C；烷基、環(huán)己基、苯基或芐基 并且 使式5的化合物與式1的化合物反應(yīng)以制備式4的化合物 其中
R3為噻唑基、吡啶基或嘧啶基，其各自任選地被鹵素或Q-C；烷基取代；并且 R4為H、Q-C；烷基或Q-C；鹵代烷基。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中 R1為苯基，其任選地被Q和至多3個(gè)獨(dú)立地選自R2的取代基取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為鹵素、烷基、鹵代烷基、烷氧基或鹵代烷氧基； Q為吡啶基，其任選地被至多2個(gè)獨(dú)立地選自鹵素和Q-C；鹵代烷基的取代基取代； R3為噻唑基或嘧啶基，其各自任選地被鹵素或烷基取代；并且 R4為烷基；并且 每個(gè) ΜΑ 和 ΜΒ 獨(dú)立地為 Li、Na、K、NH4、NH (CH2CH3) 3、NH (CH2CH2CH2CH3) 3、NH2 (Bn) 2、ΝΗ2 (環(huán) 己基）2或見(jiàn)12(苯基）2 ;并且 X 為 C1。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中 R1為苯基，其任選地被至多2個(gè)獨(dú)立地選自R2的取代基取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為C1或-CF3 ; R3為2-氯-5-噻唑基； R4為CH3;并且 每個(gè) MA 和 MB 獨(dú)立地為 Na、K、NH4、NH (CH2CH3) 3。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中 R1苯基，其被1個(gè)選自R2的取代基取代； 每個(gè)R2獨(dú)立地為-CF3或-〇CF3 ; R3為5-嘧啶基；并且 R4為H;并且 每個(gè)Ma和Mb獨(dú)立地為Na、K或NH4。
15.化合物，其為3, 5-二氯苯乙亞胺酸甲酯或3, 5-二氯苯乙亞胺酸乙酯，或它們的鹽。
【文檔編號(hào)】C07C257/06GK104066713SQ201280061781
【公開(kāi)日】2014年9月24日 申請(qǐng)日期:2012年12月13日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月15日
【發(fā)明者】張文明, G.D.安尼斯 申請(qǐng)人:納幕爾杜邦公司