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陶瓷燒結(jié)體、用其構(gòu)成的耐腐蝕性構(gòu)件、過濾器和防光暈構(gòu)件的制作方法

文檔序號:9493098閱讀:557來源:國知局
陶瓷燒結(jié)體、用其構(gòu)成的耐腐蝕性構(gòu)件、過濾器和防光暈構(gòu)件的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及陶瓷燒結(jié)體,用其構(gòu)成的耐腐蝕性構(gòu)件、過濾器和防光暈構(gòu)件。
【背景技術(shù)】
[0002] 目前,作為發(fā)動(dòng)機(jī)零件、熔液金屬用構(gòu)件、切削工具等的工業(yè)用零件,使用氮化硅 質(zhì)燒結(jié)體。
[0003] 作為這樣的氮化硅質(zhì)燒結(jié)體,例如,在專利文獻(xiàn)1中,提出有一種氮化硅質(zhì)燒結(jié) 體,其含有0. 5~9體積%的平均粒徑的范圍是5~30μm的硅化鐵粒子。
[0004] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0005] 專利文獻(xiàn)
[0006] 專利文獻(xiàn)1 :日本特開平9-227236號公報(bào)
[0007] 可是,考慮以提高氮化硅質(zhì)燒結(jié)體的耐熱沖擊性為目的而含有硅化鐵,但是,若其 量過多,則存在于表層的硅化鐵變得過多,因此硅化鐵氧化時(shí),有燒結(jié)體發(fā)生變色這樣的問 題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 本發(fā)明是為了解決上述這樣的問題而提出的,其目的在于,提供一種陶瓷燒結(jié)體, 其控制表層所含的硅化鐵,耐熱沖擊性優(yōu)異,并且抑制了變色。
[0009] 本發(fā)明的陶瓷燒結(jié)體,其特征在于,相對于總質(zhì)量含有氮化硅80質(zhì)量%以上而構(gòu) 成,在表層中散布含有Fe和Si的化合物,當(dāng)量圓直徑為0.05μπι以上且5μπι以下的所述 化合物每1mm2中存在2. 0Χ10 4個(gè)以上且2. 0Χ10 5個(gè)以下。
[0010] 另外,本發(fā)明的耐腐蝕性構(gòu)件,其特征在于,使用上述陶瓷燒結(jié)體構(gòu)成。
[0011]另外,本發(fā)明的過濾器,其特征在于,使用上述陶瓷燒結(jié)體構(gòu)成。
[0012] 另外,本發(fā)明的防光暈構(gòu)件,其特征在于,使用上述陶瓷燒結(jié)體構(gòu)成。
[0013] 根據(jù)本發(fā)明的陶瓷燒結(jié)體,相對于總質(zhì)量含有氮化硅80質(zhì)量%以上而構(gòu)成,在表 層中散布含有Fe和Si的化合物,當(dāng)量圓直徑為0. 05μm以上且5μm以下的所述化合物每 1mm2存在2. 0X10 4個(gè)以上且2. 0X10 5個(gè)以下,因此耐熱沖擊性優(yōu)異,并且能夠抑制變色。 [0014]另外,根據(jù)本發(fā)明的耐腐蝕性構(gòu)件,由于使用上述陶瓷燒結(jié)體構(gòu)成,所以耐熱沖擊 性優(yōu)異,并且能夠抑制變色。
[0015] 另外,根據(jù)本發(fā)明的過濾器,由于使用上述陶瓷燒結(jié)體構(gòu)成,所以耐熱沖擊性優(yōu) 異,并且能夠抑制變色。
[0016] 另外,根據(jù)本發(fā)明的防光暈構(gòu)件,由于使用上述陶瓷燒結(jié)體構(gòu)成,所以耐熱沖擊性 優(yōu)異,并且能夠抑制變色。
【附圖說明】
[0017] 圖1表示使用本實(shí)施方式的陶瓷燒結(jié)體構(gòu)成的耐腐蝕性構(gòu)件的一例的加熱器管 的縱剖面圖。
[0018] 圖2表示使用本實(shí)施方式的陶瓷燒結(jié)體構(gòu)成的作為耐腐蝕性構(gòu)件的一例的釣絲 用導(dǎo)向環(huán)和具備該釣絲用導(dǎo)向環(huán)的釣絲用導(dǎo)向裝置的一例,(a)是釣絲用導(dǎo)向環(huán)的俯視圖, (b)是具備(a)的釣絲用導(dǎo)向環(huán)的釣絲用導(dǎo)向裝置的立體圖。
[0019] 圖3是示意性地表示使用本實(shí)施方式的陶瓷燒結(jié)體構(gòu)成的過濾器和具備該過濾 器的氣體處理裝置的一例的概略剖面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020] 本實(shí)施方式的陶瓷燒結(jié)體,相對于總質(zhì)量(構(gòu)成陶瓷燒結(jié)體的全部成分100質(zhì) 量% )含有氮化硅80質(zhì)量%以上而構(gòu)成,在表層中散布含有Fe和Si的化合物(以下,在 僅記述為化合物的情況。),當(dāng)量圓直徑為〇. 05μm以上且5μm以下的化合物每1mm2中存 在2.OX104個(gè)以上、2. 0X10 5個(gè)以下。還有,本實(shí)施方式中的所謂表層,是指處于距陶瓷燒 結(jié)體的表面深度低于1_的范圍的部分,所謂內(nèi)部,是指處于陶瓷燒結(jié)體的表層以外的范 圍的部分。這樣的陶瓷燒結(jié)體,如果在表層,當(dāng)量圓直徑為0. 05μπι以上且5μπι以下的化 合物每1mm2中存在2. 0Χ10 4個(gè)以上且2. 0Χ10 5個(gè)以下時(shí),則在熱力學(xué)上穩(wěn)定的化合物在 上述范圍內(nèi)散布,除了能夠使耐熱沖擊性提高以外,還能夠抑制陶瓷燒結(jié)體的氧化造成的 變色(以下,僅稱為氧化造成的變色。)。
[0021] 在此,所謂含有Fe和Si的化合物,是由Fe和Si構(gòu)成的化合物,或是由Fe和Si, 與氧、鎢、鋁、鎂、鈣、鈉和鉀中的至少任意一個(gè)構(gòu)成的化合物。
[0022] 作為由Fe和Si構(gòu)成的化合物,能夠例示由組成式FeSi3、FeSi2、FeSi、Fe2Si3、 Fe3Si、Fe3Si2、Fe3Si4、Fe3Si7、Fe5Si2SFe5Si3表示的,以下以FeSi2進(jìn)行說明。
[0023] 另外,在陶瓷燒結(jié)體的表層是否散布含有Fe和Si的化合物,能夠以如下方式確 認(rèn),即,通過能量色散型X射線光譜法確認(rèn)存在于表層的元素的分布狀態(tài),通過X射線衍射 法識別存在于表層的結(jié)晶。
[0024] 另外,當(dāng)量圓直徑為0. 05μπι以上且5μπι以下的化合物每1mm2中的個(gè)數(shù),使用掃 描型電子顯微鏡使倍率為1000倍,例如,使面積為10. 8XΙΟ4μm2 (橫向的長度為127μm,縱 向的長度85. 3μπι)而設(shè)定范圍,以CCD照相機(jī)攝取這一范圍的圖像,使用圖像分析軟件"A 像<Λ/'(注冊商標(biāo),旭化成工>9二7卩 (株)制),以粒子分析這樣的方法進(jìn)行分析 即可。在此,作為這一方法的設(shè)定條件,將亮度設(shè)定為暗,二值化的方法為手動(dòng),小圖形除去 面積為5μπι2,作為表示圖像的明暗的指標(biāo)的閾值,設(shè)定為表示圖像內(nèi)的各點(diǎn)(各像素)具 有的亮度的直方圖的峰值的0. 8倍以上、2倍以下即可。還有,也可以使用光學(xué)顯微鏡代替 掃描型電子顯微鏡。
[0025] 另外,使用本實(shí)施方式的陶瓷燒結(jié)體構(gòu)成的耐腐蝕性構(gòu)件、過濾器或防光暈構(gòu)件, 如上述,耐熱沖擊性優(yōu)異,并且能夠抑制氧化造成的變色。
[0026] 還有,作為耐腐蝕性構(gòu)件,例如,能夠例示熔液金屬用的加熱器管、釣絲用的導(dǎo)向 環(huán)和半導(dǎo)體制造裝置用的結(jié)構(gòu)構(gòu)件等。作為過濾器,例如,其用于捕集從內(nèi)燃機(jī)、焚燒爐或 鍋爐等發(fā)生的廢氣中所含的微粒子和水中的雜質(zhì),能夠例示其是用于使廢氣和水通過過濾 器,在陶瓷燒結(jié)體的表面,捕集微粒子和雜質(zhì)。另外,作為防光暈構(gòu)件,能夠例示用于防止光 暈現(xiàn)象發(fā)生的構(gòu)件,這一現(xiàn)象的意思即,照到特別強(qiáng)的光的部分其周圍發(fā)白而拍攝得模糊 的現(xiàn)象。還有,防光暈構(gòu)件,例如,會被裝配在使用了CCD照相機(jī)等光學(xué)儀器的質(zhì)量檢查裝 置上,用于電子零件等的檢查。
[0027] 另外,本實(shí)施方式的陶瓷燒結(jié)體,相對于構(gòu)成陶瓷燒結(jié)體的全部成分100質(zhì)量%, 氮化硅含有80質(zhì)量%以上即可,特別是若含有85質(zhì)量%以上,則放熱特性和機(jī)械的強(qiáng)度有 更高的傾向,因此優(yōu)選。還有,氮化硅的含量,其計(jì)算是利用氮分析裝置測量陶瓷燒結(jié)體的 氮的含量,由這一氮的含量換算成氮化硅的含量即可。
[0028] 另外,構(gòu)成陶瓷燒結(jié)體的各元素的含量,能夠通過熒光X射線分析法或 ICP(InductivelyCoupledPlasma:電感親合等離子體)發(fā)光分析法求得。
[0029] 另外,本實(shí)施方式的陶瓷燒結(jié)體,優(yōu)選在氮化硅的結(jié)晶的晶界相(以下,僅稱為晶 界相)含有鈣鎂橄欖石(CaMgSi04)和鎂硅鈣石(Ca3MgSi20s)中的至少任意一種。還有,晶 界相也可以含有鈣鎂橄欖石和鎂硅鈣石以外的結(jié)晶相和非晶質(zhì)相。
[0030] 這樣的陶瓷燒結(jié)體,與在晶界相不含鈣鎂橄欖石和鎂硅鈣石的陶瓷燒結(jié)體相比, 晶界相所含的非晶質(zhì)相相對性地變少。因此,在本實(shí)施方式的陶瓷燒結(jié)體中,若曝露在酸和 堿成分中則容易腐蝕的非晶質(zhì)相相對來說少,因此即使曝露在酸和堿成分中,也能夠?qū)C(jī) 械的強(qiáng)度維持得很高,除此以外,由于高溫時(shí)特別容易溶出的非晶質(zhì)相相對地少,所以即使 曝露在高溫下也難以變形。此外,因?yàn)殁}鎂橄欖石和鎂硅鈣石的結(jié)晶相比非晶質(zhì)相導(dǎo)熱率 高,所以本實(shí)施方式的陶瓷燒結(jié)體有放熱特性高的傾向。
[0031] 另外,本實(shí)施方式的陶瓷燒結(jié)體,鈣鎂橄欖石和鎂硅鈣石的各含量的合計(jì),優(yōu)選表 層的一方比內(nèi)部多。根據(jù)這樣的構(gòu)成,相比內(nèi)部,晶界相的非晶質(zhì)相在表層相對地少,因此 特別是針對表層,除了耐腐蝕性以外,還能夠使耐磨耗性提高。在此,含量的合計(jì)的比較,例 如,以如下方式進(jìn)行即可。在陶瓷燒結(jié)體的表層和內(nèi)部,使用X射線衍射法,分別測量鈣鎂 橄欖石和鎂硅鈣石的各峰值強(qiáng)度,分別合計(jì)強(qiáng)度最高的峰值強(qiáng)度,對其結(jié)果進(jìn)行比較即可。
[0032] 另外,本實(shí)施方式的陶瓷燒結(jié)體中,優(yōu)選在表層,衍射角34°~35°下的鈣鎂橄 欖石和鎂硅鈣石的各自的峰值強(qiáng)度^和I2的合計(jì),相對于由X射線衍射法求得的衍射角 27°~28°下的氮化硅的峰值強(qiáng)度I。的比率{(IfU/^XlOO}為4%以上。如果是這樣 的范圍,則在表層,能夠?qū)⒕Ы缦嗟姆蔷з|(zhì)相控制得很少,因此除了耐腐蝕性以外,還能夠 提尚耐磨耗性。
[0033] 另外,本實(shí)施方式的陶瓷燒結(jié)體,也可以在晶界相中含有鋁和鈣。
[0034] 若晶界相中含有鋁和鈣,則其氧化
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