新型真空鍍膜裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種新型真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜倉，真空鍍膜倉內(nèi)具有干鍋放置架，真空鍍膜倉內(nèi)的底面上具有水平方向延伸的滑槽，滑槽的底部鋪設(shè)導(dǎo)電金屬片；真空鍍膜倉底部緊靠滑槽一側(cè)處均布多個齒槽，齒槽沿滑槽的延伸方向間隔排部，干鍋放置架的底部具有電刷體，電刷體限位于滑槽中，且與導(dǎo)電金屬片接觸，導(dǎo)電金屬片與外部電源電連接，干鍋放置架上具有加熱電阻，加熱電阻與電刷體之間電連接，干鍋放置架的側(cè)面具有輪體，輪體中心具有轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸與電機連接，輪體的外沿具有與齒槽嚙合的齒。本實用新型的有益效果是能同時對兩個以上的基片進行鍍膜，離子蒸汽流在鍍膜腔中的分布更加均勻，鍍膜效果好。
【專利說明】
新型真空鍍膜裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實用新型涉及一種新型真空鍍膜裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有的技術(shù)中真空鍍膜腔的底部設(shè)置一個點位的靶材，對其加熱后產(chǎn)生離子或原子蒸汽流，由于靠近靶材的位置蒸汽流中的離子密度較大，遠離靶材的位置蒸汽流中離子的密度較小，因此在整個鍍膜腔中造成離子分布不均勻，極大的影響了對應(yīng)基片的鍍膜均勻度，因此針對于大片的基片而言，為了保證鍍膜的均勻，一次只能對一個基片進行鍍膜。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實用新型要解決的問題是提供一種新型真空鍍膜裝置，克服了現(xiàn)有技術(shù)中的不足。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用的技術(shù)方案是:新型真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜倉，所述真空鍍膜倉內(nèi)具有干鍋放置架，所述真空鍍膜倉內(nèi)的底面上具有水平方向延伸的滑槽，所述滑槽的底部鋪設(shè)導(dǎo)電金屬片;所述真空鍍膜倉底部緊靠所述滑槽一側(cè)處均布多個齒槽，所述齒槽沿所述滑槽的延伸方向間隔排部，所述干鍋放置架的底部具有電刷體，所述電刷體限位于所述滑槽中，且與所述導(dǎo)電金屬片接觸，所述導(dǎo)電金屬片與外部電源電連接，所述干鍋放置架上具有加熱電阻，所述加熱電阻與所述電刷體之間電連接，所述干鍋放置架的側(cè)面具有輪體，所述輪體中心具有轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸與電機連接，所述輪體的外沿具有與所述齒槽嚙合的齒。
[0005]進一步，所述真空鍍膜倉底部具有抽氣口，所述抽氣口位于遠離所述滑槽的位置。
[0006]本實用新型具有的優(yōu)點和積極效果是:由于采用上述技術(shù)方案，能同時對兩個以上的基片進行鍍膜，離子蒸汽流在鍍膜腔中的的分布更加均勻，鍍膜效果好。
【附圖說明】
[0007]圖1是本實用新型的真空鍍膜倉內(nèi)部示意圖；
[0008]圖中:1-真空鍍膜倉;2-滑槽;3-齒槽;4-干鍋放置架;5-輪體;6_轉(zhuǎn)軸。
【具體實施方式】
[0009]如圖1所示，本實用新型提供一種新型真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜倉I，真空鍍膜倉I內(nèi)具有干鍋放置架4，真空鍍膜倉I內(nèi)的底面上具有水平方向延伸的滑槽2，滑槽2的底部鋪設(shè)導(dǎo)電金屬片(圖中未示)；真空鍍膜倉I底部緊靠滑槽2—側(cè)處均布多個齒槽3，齒槽3沿滑槽2的延伸方向間隔排部，干鍋放置架4的底部具有電刷體(圖中未示)，電刷體限位于滑槽2中，且與導(dǎo)電金屬片接觸，導(dǎo)電金屬片與外部電源電連接，干鍋放置架4上具有加熱電阻(圖中未示)，加熱電阻與電刷體之間電連接，干鍋放置架4的側(cè)面具有輪體5，輪體5中心具有轉(zhuǎn)軸6，轉(zhuǎn)軸6與電機連接，輪體5的外沿具有與齒槽3嚙合的齒。
[0010]使用時，干鍋固定于干鍋放置架4上，電機帶動輪體5轉(zhuǎn)動，由于輪體5與齒槽3嚙合，干鍋放置架4在輪體5的帶動下沿滑槽2方向往返運動，導(dǎo)電金屬片與外部電源通電后使加熱電阻對干鍋內(nèi)的靶材加熱，由于靶材在干鍋放置架4上在真空鍍膜倉I內(nèi)往復(fù)移動，因此蒸發(fā)出的離子流將更加均勻的分布于倉室中，當倉室中放置一塊基片時，其鍍膜時間可大大縮短，當倉室中放置多塊基片時也可保證對每塊基片的均勻鍍膜。
[0011]真空鍍膜倉I底部具有抽氣口，抽氣口位于遠離滑槽2的位置。
[0012]以上對本實用新型的實施例進行了詳細說明，但所述內(nèi)容僅為本實用新型的較佳實施例，不能被認為用于限定本實用新型的實施范圍。凡依本實用新型申請范圍所作的均等變化與改進等，均應(yīng)仍歸屬于本實用新型的專利涵蓋范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.新型真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜倉，所述真空鍍膜倉內(nèi)具有干鍋放置架，其特征在于:所述真空鍍膜倉內(nèi)的底面上具有水平方向延伸的滑槽，所述滑槽的底部鋪設(shè)導(dǎo)電金屬片;所述真空鍍膜倉底部緊靠所述滑槽一側(cè)處均布多個齒槽，所述齒槽沿所述滑槽的延伸方向間隔排部，所述干鍋放置架的底部具有電刷體，所述電刷體限位于所述滑槽中，且與所述導(dǎo)電金屬片接觸，所述導(dǎo)電金屬片與外部電源電連接，所述干鍋放置架上具有加熱電阻，所述加熱電阻與所述電刷體之間電連接，所述干鍋放置架的側(cè)面具有輪體，所述輪體中心具有轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸與電機連接，所述輪體的外沿具有與所述齒槽嚙合的齒。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型真空鍍膜裝置，其特征在于:所述真空鍍膜倉底部具有抽氣口，所述抽氣口位于遠離所述滑槽的位置。
【文檔編號】C23C14/26GK205473957SQ201620076775
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年1月27日
【發(fā)明人】孫婧, 李衛(wèi)東, 同建輝
【申請人】天津眾偉科技有限公司