專利名稱:清理顆粒表面的裝置的制作方法
本發(fā)明涉及一種清理顆粒，如鑄沙表面的裝置。
鑄造工業(yè)所用的各種鑄沙和混凝土工業(yè)所用的石沙常帶有不需要的物質(zhì)附著在其表面，因此就造成了下文所述的許多困難。
鑄造用的原沙常在其表面粘有粘土，這在使用中會妨礙氣體的排出。海沙的表面常附著鹽粒，給灌注好的混凝土帶來有害影響。表面帶有棱邊的原沙在沙模成型中成型性能較差。此外，這類顆粒一般同一種有粘性的化合物一同使用，用后的原沙如再次使用會損害被鑄產(chǎn)品。因此，現(xiàn)已有多種用以清理顆粒，如原沙和使用過的沙的表面的裝置。
例如，日本實用新型SHOWA50-50808披露一種裝置，它通過一空氣噴咀將鑄沙噴出，使之猛列碰撞在一撞板上，以此來清理沙表面。另一日本專利SHOWA57-109540披露一種帶有旋轉(zhuǎn)葉片的裝置，將沙輸入旋轉(zhuǎn)葉片間，利用葉片的離心力使沙粒互相猛烈碰撞以達(dá)到清理表面的目的。該專利還披露一種帶有旋轉(zhuǎn)箱的裝置，將砂裝入箱中使之互相摩擦。另一種清理沙粒表面的常用裝置是利用揮發(fā)的方法，即燃燒表面附著的樹脂和其他物質(zhì)。還有一種常用裝置是通過水洗將沙粒表面附著物洗去。
然而，上述幾種裝置都有如下缺陷。通過空氣噴咀噴沙使之碰撞在一個碰撞體的裝置，其碰撞體磨損很快因而縮短了裝置的壽命。帶有旋轉(zhuǎn)葉片的裝置，由于沙子的碰撞速度太快會引起很多沙塵。將沙裝入旋轉(zhuǎn)箱使之互相摩擦的裝置很難除去沙粒棱邊，因此經(jīng)過如此處理的沙粒在做沙模時成模性能不佳。通過燃燒將沙表面樹脂和其他類似物揮發(fā)的裝置一般不能除去沙粒棱邊，同時在燃燒過程中有時還會出現(xiàn)沙粒燃燒。利用水洗除去沙表面附著物的裝置對非水化物質(zhì)作用不大，也不能除去沙粒棱邊。
因此，本發(fā)明的目的就是要提供一種能克服現(xiàn)有裝置缺點的裝置，它可以有效地清除顆粒即沙粒表面的多余附著物和棱邊。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明所述的清理顆粒表面的裝置包含有一個用來裝入顆粒的容箱，箱內(nèi)裝有一個葉片和一個研磨石。本發(fā)明所述裝置的特征在于葉片和研磨石可以相對(即互相獨立地)運動并互相鄰接。
本裝置的性能和效果如下所述。
將諸如沙粒的顆粒裝入箱內(nèi)并置其于相鄰的葉片和研磨石之間。由于葉片和研磨石可以互相獨立地旋轉(zhuǎn)，顆?？杀恍D(zhuǎn)的葉片分成許多小的部分并不斷地重復(fù)碰撞研磨石。
憑借上述功能，裝入箱體內(nèi)的顆粒可以有效地碰撞研磨石，顆粒表面的多余附著物質(zhì)和棱邊便可以被清除。同時，通過調(diào)整葉片和研磨石的相對速度，或通過方便地控制裝置的工作時間，顆粒表面不同類的附著物都可以達(dá)到上述效果。清除下的物質(zhì)和棱邊可通過在裝置上連接一個普通的吸塵器很容易地從裝置中取出。
本發(fā)明所述的清理顆粒表面的裝置的最佳實施例將參照附圖在此說明。
圖1是裝置的部分正面剖視圖，體現(xiàn)了本發(fā)明所述的清理顆粒表面裝置的一個實施例。
圖2是圖1所示分離室中的分離裝置的透視圖。
圖3是圖1所示清理顆粒表面裝置的部分側(cè)面剖視圖。
圖4表明顆粒正同研磨石表面進(jìn)行研磨的情況。
圖5是表明本發(fā)明所述的清理顆粒表面裝置的另一實施例的局部圖。
附圖1和3說明本裝置的整個結(jié)構(gòu)，該清理顆粒表面的裝置基本上包含有一個裝置體A，一個吸塵器9用來將研磨下的表面附著物和碰撞下的顆粒棱邊從裝置體A中取出。在裝置體A的最上部有一個出口10與吸塵器9連接，在出口下有一個分離室11，用來將細(xì)小的雜物同顆粒分開。從附圖2的放大圖中看到，在分離室11中可以安裝分離裝置。該分離裝置包含有兩對與分離室的內(nèi)壁相接并互相對置的平板21，22，以及兩根支撐平板21，22的圓棍23，23。平板21、22相互垂直對置，其間形成一空間，以便雜物由此從下部移向出口。安裝該分離裝置的優(yōu)點是，可將進(jìn)入吸塵器9的顆粒和塵埃旋轉(zhuǎn)升高，使較重的顆粒落下而使輕而小的雜物以高速繼續(xù)上升進(jìn)入吸塵器9。這里須注意本發(fā)明所述的清理顆粒表面裝置所用的吸塵器可以是任何一種集中式吸塵器。
分離室11的下部有一個研磨石3，它由嵌入旋轉(zhuǎn)軸4的許多研磨石片3a，3a……組成，此外還安裝有許多葉片2，2……與研磨石3鄰接并呈放射狀。研磨石3不一定由許多環(huán)狀的研磨石片組成，一個單個圓柱體即可，葉片2也不必按圖3所示的那樣與研磨石3外表面垂直裝入。具體說就是葉片2不必與研磨石3外表面構(gòu)成直角，而可以構(gòu)成銳角或鈍角。
葉片2的底端指向其旋轉(zhuǎn)軸，與研磨石3相連并通過諸如插銷件(圖中未示)的緊固裝置將一個研磨助板29安裝在緊靠研磨石3的地方，而不是葉片2的上部。在運行中，當(dāng)顆粒被葉片2分成許多小的部分并隨之旋轉(zhuǎn)時，顆粒在葉片之間移動并同研磨石3的表面碰撞，研磨助板29的作用是通過控制移動速度增加顆粒和研磨石表面的有效碰撞率以加強研磨效果。此外，該研磨助板29還有助于穩(wěn)定葉片2的旋轉(zhuǎn)。也就是說，當(dāng)葉片2高速旋轉(zhuǎn)時，會出現(xiàn)所謂的部分研磨現(xiàn)象，即葉片的不規(guī)則旋轉(zhuǎn)阻礙了顆粒同研磨石表面的正常碰撞，從而造成顆粒的部分研磨。研磨助板29可有效地防止這種現(xiàn)象。同時，該研磨助板29可通過調(diào)整緊固裝置的不同部位調(diào)節(jié)與研磨石3的遠(yuǎn)近距離。
如圖3所示，在葉片2的外端部可以連接一個由橡膠或類似物制成的彈性件24。該彈性件24填充了葉片2的外端與箱體1內(nèi)壁間的空間。其優(yōu)點是防止了該空間的研磨。從圖3可看到葉片2的外端頭按一預(yù)定的角度彎曲。但這并不是必須的，也就是說，外端頭也可以是直的，從而簡化了葉片的加工。
葉片2的側(cè)邊(圖1中的右邊和左邊)上有環(huán)形板6，6，其整體構(gòu)成一個旋轉(zhuǎn)鼓形體。因此，在每個葉片2間形成一個與研磨石3表面相連的空間。研磨石3和葉片2是同軸的，以便有一個相同的旋轉(zhuǎn)軸心。研磨石3由安裝在裝置體下部的電動機12起動，而葉片2由安裝在裝置體下部的另一電動機(圖中未示)起動。旋轉(zhuǎn)鼓形體下面有許多葉片2，2……，兩個鼓形體由滾柱19，19，19，19分別支撐，滾柱分別安裝在鼓形體前后(圖1中的左、右方向)。
(圖1中只標(biāo)有安裝在前后的兩個滾柱，為了清楚起見，圖3未示)。
如上所述，由于兩個不同電動機分別帶動研磨石3和葉片2，可以方便地使研磨石和葉片相對旋轉(zhuǎn)或以不同的速度旋轉(zhuǎn)，因而可以根據(jù)所處理的顆粒種類加強研磨效果。
總而言之，研磨石3的研磨部分最好由碳化硅，鋁及比所處理的顆粒硬度高的物質(zhì)構(gòu)成。
旋轉(zhuǎn)軸4的兩端各有一個平衡調(diào)節(jié)板5，可通過一平衡塊加以調(diào)整的平衡板還可作為緊固螺絲。旋轉(zhuǎn)軸4的兩端通過支承座18與支承裝置體A的箱體1的工作架17相連。
參照圖3，分離室11下箱體1的一個側(cè)面有一個顆粒入口8，在另一面有一個用來觀察顆粒研磨情況及研磨石表面損耗的觀察口。顆粒由入口8裝入后由各個葉片2將其分成小的部分，然后進(jìn)入箱體1集聚起來并落下至研磨石3的表面。由于研磨石以恒速旋轉(zhuǎn)，一組組的顆粒便不斷落下，研磨石3的表面便進(jìn)入有效的研磨，從而使顆粒得以清理。
圖4表明在上述條件下裝入的顆粒14表面通過碰撞研磨石表面13正進(jìn)行清理。經(jīng)過同研磨石表面13的碰撞，顆粒14基本成為球形，除去了雜物16。
經(jīng)過一定時間的研磨，顆粒14經(jīng)一個由氣缸26控制的蓋25及箱體1底部的出口15取出。實驗證明經(jīng)過如此處理的顆粒表面上，基本無多余附著物并可形成無棱邊的球體。
上述實施例中的裝置是按一個批量工作設(shè)計的。但本發(fā)明并不僅限于此。例如，該裝置也可做成連續(xù)工作的裝置，即不斷從研磨石3的一面裝入顆粒，而從位于研磨石另一面稍低的出口取出顆粒。這里只需將裝在觀察口7下的護(hù)板27移開并將連接箱體1的蓋28打開。這時護(hù)板27再次合上，裝置就可以連續(xù)工作。此外，為了更有效地不斷填入顆粒，還可以將圓柱外表面做成螺旋形的凹凸面。
同時也可以在入口8前安裝一個構(gòu)造簡單的顆粒表面研磨附加裝置對顆粒進(jìn)行預(yù)處理。這個附加裝置可以是內(nèi)部只有旋轉(zhuǎn)葉片的箱體，使顆粒在箱內(nèi)互相摩擦?；蛘?，是內(nèi)部只有旋轉(zhuǎn)研磨石的箱體，使顆粒在箱內(nèi)碰撞研磨石的表面。如顆粒按上述方法進(jìn)行兩步處理，即使多余附加物粘著很緊，也可在短期內(nèi)有效地將顆粒表面清理干凈。
其他實施例研磨石3可不與葉片2同軸安裝，以共同形成旋轉(zhuǎn)的鼓狀體，而可以順著箱體1的下部內(nèi)壁安裝。這樣，或只有研磨石3旋轉(zhuǎn)，或只有葉片2旋轉(zhuǎn)，或兩者都旋轉(zhuǎn)。也就是說，關(guān)鍵在于研磨石和葉片可作相對運動。
此外，可以通過兩個研磨石之間裝入顆粒并在其間進(jìn)行研磨。更具體一點，參照圖5，在每一葉片2的外端附近可安裝另一研磨石片3b。在運行時，顆粒表面在旋轉(zhuǎn)的研磨石片3b和在箱體下部的研磨石片3c間進(jìn)行研磨，從而更加強了研磨效果。這里，葉片2的數(shù)目可以是一個，也可以是兩個或更多。
權(quán)利要求
1.一種清理顆粒表面的裝置，它包含有一個容納顆粒的箱體(1)，箱體內(nèi)裝有葉片(2)和研磨石(3)，上述葉片和研磨石可作相對運動并互相鄰接。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的清理顆粒表面的裝置，所述的研磨石(3)安裝在所述箱體(1)內(nèi)的下部。所述的葉片(2)同所述的研磨石(3)可作相對旋轉(zhuǎn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求
2所述的清理顆粒表面的裝置，它還可包含一個與所述葉片(2)相鄰接并指向箱體(1)的另一個研磨石(3b)。
4.根據(jù)權(quán)利要求
3所述的清理顆粒表面的裝置，箱體(1)可以旋轉(zhuǎn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的清理顆粒表面的裝置，其葉片(2)為兩個以上且可以旋轉(zhuǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求
5所述的清理顆粒表面的裝置，其研磨石(3)和葉片(2)同軸安裝且每個葉片(2)之間由一個研磨石(3)的表面聯(lián)接。
7.根據(jù)權(quán)利要求
6所述的清理顆粒表面的裝置，其研磨石(3)可以旋轉(zhuǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求
7所述的清理顆粒表面的裝置，其研磨石(3)和葉片(2)可一同作同向旋轉(zhuǎn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求
7所述的清理顆粒表面的裝置，其研磨石(3)和葉片(2)可作反向旋轉(zhuǎn)。
10.根據(jù)權(quán)利要求
8或9所述的清理顆粒表面的裝置，其研磨石(3)和葉片(2)的旋轉(zhuǎn)速度可以不一致。
11.根據(jù)權(quán)利要求
1至10的任何一項所述的清理顆粒表面的裝置，它還可包含有一個研磨助板(29)，與軸心上的葉片(2)的一端相鄰接。
12.根據(jù)權(quán)利要求
1至11的任何一項所述的清理顆粒表面的裝置，它還可包含有裝在箱體(1)上部的分離室(11)中的分離裝置，可將雜物同顆粒分離開。
13.根據(jù)權(quán)利要求
12所述的清理顆粒表面的裝置，其分離裝置包括有兩對互相垂直并對置的平板(21)，(21)，(22)，(22)。
專利摘要
本發(fā)明為一種清理顆粒表面的裝置，比如清理鑄沙表面的裝置，它包含有一個容納顆粒的箱體(1)，箱體內(nèi)裝有葉片(2)和研磨石(3)，上述葉片和研磨石可作相對運動并互相鄰接。
文檔編號B24C3/26GK87103452SQ87103452
公開日1988年3月23日 申請日期1987年5月12日
發(fā)明者豬野富夫 申請人:久保田鐵工株式會社導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan