本發(fā)明屬于真空鍍鋁薄膜制備的
技術(shù)領(lǐng)域：
，具體地說是涉及一種高鍍鋁層附著力的真空鍍鋁薄膜的制備方法。
背景技術(shù)：
：真空鍍鋁薄膜是在真空狀態(tài)(4*10-4mbar以下)下將高純度的鋁線在陶瓷蒸發(fā)舟上加熱氣化后附著在基材薄膜表面所制成的薄膜。真空鍍鋁薄膜具有氧氣、水蒸氣阻隔性能高、光澤度高、遮光等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于食品、藥品、日用品等包裝領(lǐng)域。真空鍍鋁薄膜常用的基材薄膜有BOPET薄膜、CPP薄膜、BOPP薄膜等，由于現(xiàn)有技術(shù)所生產(chǎn)的鍍鋁薄膜鍍鋁層與基材薄膜之間只是簡單的物理附著，所以鍍鋁層在基材薄膜表面的附著力較低。這樣會(huì)導(dǎo)致鍍鋁薄膜與其它薄膜進(jìn)行干式復(fù)合時(shí)鍍鋁層容易發(fā)生轉(zhuǎn)移，剝離強(qiáng)度低，從而導(dǎo)致包裝制袋后發(fā)生分層或封口強(qiáng)度差等不良。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明的目的是提供一種高鍍鋁層附著力的真空鍍鋁薄膜的制備方法，其能提高鍍鋁層與BOPET薄膜之間的附著力。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的：一種高鍍鋁層附著力的真空鍍鋁薄膜的制備方法：包括按以下依次進(jìn)行的工序：將基材卷材放入真空鍍鋁機(jī)的真空室內(nèi)的步驟、對真空鍍鋁機(jī)進(jìn)行抽真空的步驟、對蒸發(fā)舟加熱以達(dá)到設(shè)定的溫度的步驟、控制基材卷材以設(shè)定速度放卷、對基材進(jìn)行蒸鍍的步驟、蒸鍍后冷卻的步驟、對鍍鋁層測厚的步驟、展平步驟、鍍鋁膜收卷步驟，所述的基材為BOPET薄膜，在對基材進(jìn)行蒸鍍的步驟之前還有將基材展開并從等離子體中通過而進(jìn)行的等離子處理步驟。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案：用于對基材進(jìn)行等離子處理的等離子發(fā)生器設(shè)在基材卷材的放置區(qū)與蒸鍍區(qū)之間。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案：等離子處理步驟所采用的氣體為氬氣和氧氣，氬氣和氧氣混合的質(zhì)量比例為1:1——6:1。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案：氬氣和氧氣混合的質(zhì)量比例為3：1。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案：等離子處理步驟所采用的氣體為氮?dú)夂脱鯕?，氬氣和氧氣混合的質(zhì)量比例為1:1——6:1。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案：氮?dú)夂脱鯕饣旌系馁|(zhì)量比例為3：1。在上述方案的基礎(chǔ)上并作為上述方案的優(yōu)選方案：基材通過等離子體的速度為500m/min。本發(fā)明相比現(xiàn)有技術(shù)突出且有益的技術(shù)效果是：等離子處理的原理是等離子體是低氣壓或常壓放電產(chǎn)生的電離氣體(等離子體)，在電場作用下，氣體中的自由電子從電場獲得能量成為高能量電子，這些高能量電子與氣體中的分子、原子碰撞，如果電子的能量大于分子或原子的激發(fā)能就會(huì)產(chǎn)生激發(fā)分子或激發(fā)原子自由基、離子和具有不同能量的輻射線，低溫等離子體中的活性粒子具有的能量一般都接近或超過碳—碳或其它碳鍵的鍵能，因此能與導(dǎo)入系統(tǒng)的氣體或固體表面發(fā)生化學(xué)或物理的相互作用。如果采用反應(yīng)型的氧等離子體，可能與高分子表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而引入大量的氧基團(tuán)，使其表面分子鏈上產(chǎn)生極性，表面張力明顯提高，即使是采用非反應(yīng)型的氬等離子體，也能通過表面的交聯(lián)和蝕刻作用引起的表面物理變化而明顯地改善聚合物表面的接觸角和表面能，這種表面處理法的優(yōu)點(diǎn)是處理時(shí)間短、速度快、操作簡單、控制容易。本發(fā)明的高鍍鋁層附著力的真空鍍鋁薄膜的制備方法，在對鍍鋁前的基材采用了等離子處理步驟，利用等離子體中的高能電子和離子對薄膜表面進(jìn)行刻蝕，同時(shí)，發(fā)生化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生極性基團(tuán)，從而提高薄膜表面的表面張力。薄膜表面的表面張力的提高不僅會(huì)增加對鋁原子的吸附能力，同時(shí)薄膜表面的極性基團(tuán)與鋁原子產(chǎn)生化學(xué)結(jié)合，提高鋁層在薄膜表面的附著力。本發(fā)明技術(shù)方案中的等離子處理所使用的氣體介質(zhì)為氬氣和氧氣的混合氣體，同時(shí)產(chǎn)生反應(yīng)型的氧等離子體和非反應(yīng)型的氬等離子體，既能夠使基材薄膜表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而產(chǎn)生極性，表面張力提高，又能夠使基材薄膜表面發(fā)生交聯(lián)和刻蝕作用改善表面的接觸角和表面能。具體實(shí)施方式為使本申請的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將對實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本申請一部分實(shí)施例，而不是全部實(shí)施例?；谝呀o出的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在未做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本申請保護(hù)的范圍。本實(shí)施例給出了一種高鍍鋁層附著力的真空鍍鋁薄膜的制備方法：包括按以下依次進(jìn)行的工序：將基材卷材放入真空鍍鋁機(jī)的真空室內(nèi)的步驟、對真空鍍鋁機(jī)進(jìn)行抽真空的步驟、對蒸發(fā)舟加熱以達(dá)到設(shè)定的溫度的步驟、控制基材卷材以設(shè)定速度放卷、對基材進(jìn)行蒸鍍的步驟、蒸鍍后冷卻的步驟、對鍍鋁層測厚的步驟、展平步驟、鍍鋁膜收卷步驟，在對基材進(jìn)行蒸鍍的步驟之前還有將基材展開并從等離子體中通過而進(jìn)行的等離子處理步驟。通常，等離子處理步驟中采用等離子發(fā)生器以產(chǎn)生離子體。在本實(shí)施例中，所述的基材為BOPET薄膜。等離子處理步驟所采用的氣體為氬氣和氧氣，氬氣和氧氣混合的質(zhì)量比例為1:1，等離子發(fā)生器的功率為6KW，基材通過的等離子體的速度為500m/min。作為另一實(shí)施例，氬氣和氧氣混合的質(zhì)量比例分別為：2：1，3：1，4：1、5：1、6：1。在本實(shí)施例中，等離子發(fā)生器設(shè)在基材卷材的放置區(qū)與蒸鍍區(qū)之間。鍍鋁層與基材薄膜之間的附著牢度通過EAA熱封的方法來進(jìn)行檢測，具體見專利號(hào)為200610039678.6的專利-利用EAA薄膜測試真空鍍鋁薄膜鋁層附著力的方法。經(jīng)實(shí)驗(yàn)證明，BOPET薄膜在鍍鋁前經(jīng)過等離子處理可明顯提高鍍鋁層與BOPET薄膜之間的附著牢度。實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下：不同氣體配比下鍍鋁層附著力的比較：采用其它材料的薄膜即便經(jīng)過等離子處理，鍍鋁層與基材薄膜的附著牢度的影響較小。實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下：基材薄膜處理功率氣體類型比例生產(chǎn)速度鍍鋁層附著力12umBOPET6KWN2+O23：1500m/min1.5N/15mm12umBOPET6KWAr+O23：1500m/min2.7N/15mm25umCPP8KWN2+O23：1500m/min0.3N/15mm25umCPP8KWAr+O23：1500m/min0.5N/15mm上述實(shí)施例僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并非依此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍，故：凡依本發(fā)明的結(jié)構(gòu)、形狀、原理所做的等效變化，均應(yīng)涵蓋于本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。當(dāng)前第1頁1 2 3