專利名稱：一種直接式輝光等效等離子氣相沉積裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
:本實(shí)用新型涉及一種氣相沉積裝置，具體涉及一種直接式輝光等效等離子氣相沉積裝置。
技術(shù)背景:PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)薄膜材料生長(zhǎng)的一種新的制備技術(shù)。通過(guò)反應(yīng)氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征，從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn)，工藝流程簡(jiǎn)單。盡管有許多優(yōu)點(diǎn)，但仍存在不足，一是經(jīng)濟(jì)成本二是技術(shù)成熟度，在技術(shù)上，等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積無(wú)論是反應(yīng)裝置還是工藝都有待改進(jìn)和完善。例如，常見的直流等離子體由于電極燒蝕會(huì)導(dǎo)致連續(xù)工作時(shí)間不長(zhǎng)，而高頻等離子體則熱轉(zhuǎn)化效刻氏，工作狀態(tài)不十分穩(wěn)定。再如，對(duì)于高頻等離子體，反應(yīng)原料的注入方式也是一個(gè)十分棘手的難題，液態(tài)源或多種混合源注入技術(shù)也有待解決
實(shí)用新型內(nèi)容
:本實(shí)用新型的目的是為了彌補(bǔ)已有技術(shù)的不足，提供了一種直接式輝光等效等離子氣相沉積裝置，這樣就解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)、物料注入難的問(wèn)題，同時(shí)可以在各種氣體下實(shí)現(xiàn)自動(dòng)匹配，另外系統(tǒng)的加熱部分可以實(shí)現(xiàn)智能溫度可調(diào)，充分滿足各種實(shí)驗(yàn)需求。本實(shí)用新型解決方案如下:一種直接式輝光等效等離子氣相沉積裝置，包括有設(shè)備主體，所述設(shè)備主體底端設(shè)有電氣控制機(jī)構(gòu)，所述設(shè)備主體上部一端內(nèi)設(shè)有線圈，所述的設(shè)備主體同一端設(shè)有接地極法蘭，所述設(shè)備主體上部另一端內(nèi)設(shè)有實(shí)驗(yàn)腔體，所述實(shí)驗(yàn)腔體外壁為加熱體，所述設(shè)備主體同一端設(shè)有密封法蘭，所述密封法蘭上連有一對(duì)針式氣閥，所述針式氣閥頂端設(shè)有物料噴射器，所述物料噴射器頂端也設(shè)有針式氣閥。所述物料噴射器內(nèi)設(shè)有混料腔。其工作原理是:以混料腔內(nèi)稀薄氣體作為載體發(fā)射，避免離子以混料腔體稀薄氣體為載體對(duì)客體放電的弊端，這樣可以保證整個(gè)實(shí)驗(yàn)腔體都是輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這樣離子化的范圍和強(qiáng)度是傳統(tǒng)PECVD的百倍，整個(gè)腔體都處于直接輝光區(qū)，因此很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，物料噴射器上方設(shè)有針式氣閥，可對(duì)物料噴射器充入氣氛使罐體內(nèi)形成氣壓，將各成分物料在混料腔內(nèi)混合均勻后噴射到設(shè)備主體內(nèi)，可充入合適的氣體使物料噴射器內(nèi)形成一定的壓力，輔助配料，還可以多成分物料配比混合使用，同時(shí)裝置為寬范圍的匹配系統(tǒng)，匹配范圍廣，可以在各種氣體下實(shí)現(xiàn)自動(dòng)匹配，另外系統(tǒng)的加熱部分可以實(shí)現(xiàn)智能溫度可調(diào)，充分滿足各種實(shí)驗(yàn)需求。本實(shí)用新型設(shè)計(jì)合理，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，這樣就解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)、物料注入難的問(wèn)題，同時(shí)可以在各種氣體下實(shí)現(xiàn)自動(dòng)匹配，另外系統(tǒng)的加熱部分可以實(shí)現(xiàn)智能溫度可調(diào)，充分滿足各種實(shí)驗(yàn)需求。

:圖1為本實(shí)用新型的剖視圖。圖2為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為設(shè)備主體的俯視圖。其中:1、設(shè)備主體，2、線圈，3、物料噴射器，4、加熱體，5、實(shí)驗(yàn)腔體，6、接地極法蘭，7、電氣控制機(jī)構(gòu)，8、密封法蘭，9、針式氣閥，10、混料腔。
具體實(shí)施方式
:參見附圖，一種直接式輝光等效等離子氣相沉積裝置，包括有設(shè)備主體，所述設(shè)備主體底端設(shè)有電氣控制機(jī)構(gòu)，所述設(shè)備主體上部一端內(nèi)設(shè)有線圈，所述的設(shè)備主體同一端設(shè)有接地極法蘭，所述設(shè)備主體上部另一端內(nèi)設(shè)有實(shí)驗(yàn)腔體，所述實(shí)驗(yàn)腔體外壁為加熱體，所述設(shè)備主體同一端設(shè)有密封法蘭，所述密封法蘭上連有一對(duì)針式氣閥，所述針式氣閥頂端設(shè)有物料噴射器，所述物料噴射器頂端也設(shè)有針式氣閥。所述物料噴射器內(nèi)設(shè)有混料腔。以混料腔內(nèi)稀薄氣體作為載體發(fā)射,避免離子以混料腔體稀薄氣體為載體對(duì)客體放電的弊端，這樣可以保證整個(gè)實(shí)驗(yàn)腔體都是輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這樣離子化的范圍和強(qiáng)度是傳統(tǒng)PECVD的百倍，整個(gè)腔體都處于直接輝光區(qū)，因此很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，物料噴射器上方設(shè)有針式氣閥，可對(duì)物料噴射器充入氣氛使罐體內(nèi)形成氣壓，將各成分物料在混料腔內(nèi)混合均勻后噴射到設(shè)備主體內(nèi)，可充入合適的氣體使物料噴射器內(nèi)形成一定的壓力，輔助配料，還可以多成分物料配比混合使用，同時(shí)裝置為寬范圍的匹配系統(tǒng)，匹配范圍廣，可以在各種氣體下實(shí)現(xiàn)自動(dòng)匹配，另外系統(tǒng)的加熱部分可以實(shí)現(xiàn)智能溫度可調(diào)，充分滿足各種實(shí)驗(yàn)需求。
權(quán)利要求1.一種直接式輝光等效等離子氣相沉積裝置，包括有設(shè)備主體，其特征在于:所述設(shè)備主體底端設(shè)有電氣控制機(jī)構(gòu)，所述設(shè)備主體上部一端內(nèi)設(shè)有線圈，所述的設(shè)備主體同一端設(shè)有接地極法蘭，所述設(shè)備主體上部另一端內(nèi)設(shè)有實(shí)驗(yàn)腔體，所述實(shí)驗(yàn)腔體外壁為加熱體，所述設(shè)備主體同一端設(shè)有密封法蘭，所述密封法蘭上連有一對(duì)針式氣閥，所述針式氣閥頂端設(shè)有物料噴射器，所述物料噴射器頂端也設(shè)有針式氣閥。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的直接式輝光等效等離子氣相沉積裝置，其特征在于:所述物料噴射器內(nèi)設(shè)有混料腔。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種直接式輝光等效等離子氣相沉積裝置，包括有設(shè)備主體，所述設(shè)備主體底端設(shè)有電氣控制機(jī)構(gòu)，所述設(shè)備主體上部一端內(nèi)設(shè)有線圈；本實(shí)用新型設(shè)計(jì)合理，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，這樣就解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)、物料注入難的問(wèn)題，同時(shí)可以在各種氣體下實(shí)現(xiàn)自動(dòng)匹配，另外系統(tǒng)的加熱部分可以實(shí)現(xiàn)智能溫度可調(diào)，充分滿足各種實(shí)驗(yàn)需求。
文檔編號(hào)C23C16/50GK203034095SQ20132005253
公開日2013年7月3日 申請(qǐng)日期2013年1月30日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月30日
發(fā)明者孔令杰 申請(qǐng)人:安徽貝意克設(shè)備技術(shù)有限公司