載臺(tái)升降裝置、反應(yīng)腔室及等離子體加工設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供的載臺(tái)升降裝置、反應(yīng)腔室及等離子體加工設(shè)備，其中：托架驅(qū)動(dòng)源用于驅(qū)動(dòng)軸提升托架作升降運(yùn)動(dòng)；波紋管軸穿過軸提升托架與其固定連接；軸提升托架具有安裝通孔；波紋管軸上端與載臺(tái)連接，波紋管軸下端沿豎直方向貫穿腔室壁，且依次穿過直線軸承和安裝通孔，并且波紋管軸與直線軸承在豎直方向上滾動(dòng)配合，波紋管軸與安裝通孔間隙配合；在托架驅(qū)動(dòng)源的驅(qū)動(dòng)下，軸提升托架帶動(dòng)波紋管軸在直線軸承內(nèi)作升降運(yùn)動(dòng)，繼而實(shí)現(xiàn)固定于波紋管軸上的載臺(tái)的升降運(yùn)動(dòng)；軸向定位件用于阻擋軸提升托架與波紋管軸在豎直方向上的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。本發(fā)明提供的載臺(tái)升降裝置無需對(duì)相應(yīng)部件的加工精度和裝配精度提出較高的要求就可以保證載臺(tái)的上表面的水平度。
【專利說明】載臺(tái)升降裝置、反應(yīng)腔室及等離子體加工設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及微電子加工【技術(shù)領(lǐng)域】，具體地，涉及一種載臺(tái)升降裝置、反應(yīng)腔室及等尚子體加工設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002]在制造集成電路(10和微機(jī)電系統(tǒng)(1213)的工藝過程中，特別是在實(shí)施等離子刻蝕(￡10?)、物理氣相沉積()、化學(xué)氣相沉積()等的工藝過程中，常使用加熱器來加熱晶片等被加工工件。而且，通常借助載臺(tái)升降裝置驅(qū)動(dòng)加熱器作升降直線運(yùn)動(dòng)，以配合機(jī)械手實(shí)現(xiàn)被加工工件的取放，以及調(diào)整被加工工件與靶材之間的距離等。而為了保證工藝均勻性，就需要保證加熱器表面的水平度。
[0003]圖1為現(xiàn)有的一種等離子體加工設(shè)備的剖視圖。如圖1所示，等離子體加工設(shè)備包括反應(yīng)腔室10，在反應(yīng)腔室10內(nèi)設(shè)置有加熱器11，用以在工藝時(shí)承載并加熱置于其上的被加工工件12 ；而且，在加熱器的底部設(shè)置有載臺(tái)升降裝置，其包括波紋管軸13、波紋管14、導(dǎo)軌支架15、直線導(dǎo)軌16、導(dǎo)軌滑塊17、軸提升托架18、抱塊19和托架驅(qū)動(dòng)源(圖中未示出其中，導(dǎo)軌支架15固定在反應(yīng)腔室10的底部，用以支撐直線導(dǎo)軌16 ；導(dǎo)軌滑塊17與直線導(dǎo)軌16滑動(dòng)連接；托架驅(qū)動(dòng)源用于驅(qū)動(dòng)導(dǎo)軌滑塊17沿直線導(dǎo)軌16在豎直方向上滑動(dòng)；波紋管軸13的上端與加熱器11的底部固定連接，波紋管軸13的下端朝下伸出反應(yīng)腔室10，并通過軸提升托架18和抱塊19與導(dǎo)軌滑塊17固定在一起；波紋管14套制在波紋管軸13上，且其下端與反應(yīng)腔室10的腔室壁密封連接，上端與波紋管軸13密封連接。在托架驅(qū)動(dòng)源的驅(qū)動(dòng)下，導(dǎo)軌滑塊17沿直線導(dǎo)軌16在豎直方向上滑動(dòng)，并帶動(dòng)波紋管軸13和與之連接的加熱器11作升降直線運(yùn)動(dòng)。
[0004]上述等離子體加工設(shè)備在實(shí)際應(yīng)用中不可避免地存在以下問題，即:
[0005]其一，由于波紋管軸13的升降直線運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)受到導(dǎo)軌支架15、直線導(dǎo)軌16、軸提升托架18、抱塊19以及導(dǎo)軌滑塊17等部件的加工精度及彼此之間的裝配精度的影響，為了保證加熱器11表面的水平度，就對(duì)上述部件的加工精度和裝配精度提出了較高的要求，從而增加了等離子體加工設(shè)備的加工成本。
[0006]其二，由于波紋管軸13、軸提升托架18、抱塊19以及導(dǎo)軌滑塊17彼此之間的連接均是剛性連接，且存在冗余約束，這不僅很難保證每次裝配的一致性，而且還會(huì)導(dǎo)致載臺(tái)升降裝置在裝配過程中產(chǎn)生累積誤差，造成裝配精度較低，從而很難保證加熱器11表面的水平度，進(jìn)而降低了工藝均勻性。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一，提出了一種載臺(tái)升降裝置、反應(yīng)腔室及等離子體加工設(shè)備，其無需對(duì)相應(yīng)部件的加工精度和裝配精度提出較高的要求就可以保證載臺(tái)的上表面的水平度，從而不僅可以降低加工成本，而且可以提高工藝均勻性。
[0008]為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的而提供一種載臺(tái)升降裝置，包括:波紋管軸、軸提升托架以及托架驅(qū)動(dòng)源，其中:所述托架驅(qū)動(dòng)源用于驅(qū)動(dòng)軸提升托架作升降運(yùn)動(dòng)；所述波紋管軸穿過所述軸提升托架，并與其固定連接，以隨所述軸提升托架作升降運(yùn)動(dòng)，繼而實(shí)現(xiàn)固定于所述波紋管軸上的載臺(tái)的升降運(yùn)動(dòng)；其特征在于，所述載臺(tái)升降裝置，還包括:軸向定位件和直線軸承，其中:所述直線軸承的上端固定在反應(yīng)腔室的腔室壁上；所述軸提升托架具有安裝通孔；所述波紋管軸的上端與所述載臺(tái)連接，所述波紋管軸的下端沿豎直方向貫穿所述腔室壁，且依次穿過所述直線軸承的軸承孔和所述安裝通孔，并且所述波紋管軸與所述直線軸承的軸承孔在豎直方向上滾動(dòng)配合，所述波紋管軸與所述安裝通孔間隙配合；所述軸向定位件用于阻擋所述軸提升托架與波紋管軸在豎直方向上的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。
[0009]其中，所述載臺(tái)升降裝置還包括上絕緣套和下絕緣套，其中所述上絕緣套和下絕緣套分別安裝于所述軸提升托架上，用以使所述軸提升托架與所述波紋管軸彼此絕緣，并且，所述上絕緣套和下絕緣套與所述波紋管軸在徑向上具有間隙。
[0010]其中，在所述波紋管軸的外周壁上的對(duì)應(yīng)于所述安裝通孔的位置處設(shè)置有環(huán)形凹槽，并且所述軸向定位件包括上擋塊，所述上擋塊與所述環(huán)形凹槽的下側(cè)壁將所述軸提升托架固定在二者之間；所述軸提升托架包括沿所述安裝通孔的軸線分割，且彼此獨(dú)立的兩個(gè)分體，所述兩個(gè)分體采用可拆卸的方式對(duì)接在一起。
[0011]其中，所述上絕緣套套制在所述波紋管軸上，且位于所述上擋塊與所述軸提升托架之間；所述下絕緣套套制在所述波紋管軸上，且位于所述環(huán)形凹槽的下側(cè)壁與所述軸提升托架之間；所述上絕緣套和下絕緣套均與所述環(huán)形凹槽在徑向上具有間隙。
[0012]其中，在所述波紋管軸的外周壁上的對(duì)應(yīng)于所述安裝通孔的位置處設(shè)置有環(huán)形凹槽，并且所述軸向定位件包括下?lián)鯄K，所述下?lián)鯄K與所述環(huán)形凹槽的上側(cè)壁將所述軸提升托架固定在二者之間；所述軸提升托架包括沿所述安裝通孔的軸線分割，且彼此獨(dú)立的兩個(gè)分體，所述兩個(gè)分體采用可拆卸的方式對(duì)接在一起。
[0013]其中，所述上絕緣套套制在所述波紋管軸上，且位于所述環(huán)形凹槽的上側(cè)壁與所述軸提升托架之間；所述下絕緣套套制在所述波紋管軸上，且位于所述下?lián)鯄K與所述軸提升托架之間；所述上絕緣套和下絕緣套均與所述環(huán)形凹槽在徑向上具有間隙。
[0014]其中，在所述波紋管軸的外周壁上的對(duì)應(yīng)于所述安裝通孔的位置處設(shè)置有環(huán)形凹槽，并且所述軸向定位件包括上擋塊和下?lián)鯄K，所述上擋塊和下?lián)鯄K設(shè)置在所述環(huán)形凹槽內(nèi)，且將所述軸提升托架固定在二者之間；所述軸提升托架包括沿所述安裝通孔的軸線分害II，且彼此獨(dú)立的兩個(gè)分體，所述兩個(gè)分體采用可拆卸的方式對(duì)接在一起。
[0015]其中，所述上絕緣套套制在所述波紋管軸上，且位于所述軸提升托架與所述上擋塊之間；所述下絕緣套套制在所述波紋管軸上，且位于所述軸提升托架與所述下?lián)鯄K之間；所述上絕緣套和下絕緣套均與所述環(huán)形凹槽在徑向上具有間隙。
[0016]作為另一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明還提供一種反應(yīng)腔室，其采用了本發(fā)明提供的上述載臺(tái)升降裝置。
[0017]作為另一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明還提供一種等離子體加工設(shè)備，包括反應(yīng)腔室，所述反應(yīng)腔室采用了本發(fā)明提供的上述反應(yīng)腔室。
[0018]本發(fā)明具有以下有益效果:
[0019]本發(fā)明提供的載臺(tái)升降裝置，其托架驅(qū)動(dòng)源用于驅(qū)動(dòng)軸提升托架作升降運(yùn)動(dòng)，波紋管軸穿過軸提升托架，并與其固定連接，以隨軸提升托架在直線軸承內(nèi)作升降運(yùn)動(dòng)，繼而實(shí)現(xiàn)固定于波紋管軸上的載臺(tái)的升降運(yùn)動(dòng)，由于直線軸承的軸承孔與波紋管軸在豎直方向上滾動(dòng)配合，且軸提升托架的安裝通孔與波紋管軸間隙配合，波紋管軸在其軸向上由軸向定位件進(jìn)行約束，且在其徑向上僅單獨(dú)由直線軸承進(jìn)行約束，即，在托架驅(qū)動(dòng)源的驅(qū)動(dòng)下，軸提升托架帶動(dòng)波紋管軸作升降運(yùn)動(dòng)時(shí)，波紋管軸在豎直方向上的運(yùn)動(dòng)軌跡完全由直線軸承獨(dú)立約束，這與現(xiàn)有技術(shù)相比，可以消除冗余約束，從而不僅可以保證每次裝配的一致性，而且還會(huì)避免在裝配載臺(tái)升降裝置的過程中產(chǎn)生累積誤差，且無需對(duì)軸提升托架、托架驅(qū)動(dòng)源等的相應(yīng)部件的加工精度和裝配精度提出較高的要求就可以保證載臺(tái)的上表面的水平度，進(jìn)而不僅可以降低加工成本，而且可以提高工藝均勻性。
[0020]本發(fā)明提供的反應(yīng)腔室，其通過采用本發(fā)明提供的上述載臺(tái)升降裝置，不僅可以降低加工成本，而且可以提高工藝均勻性。
[0021]本發(fā)明提供的等離子體加工設(shè)備，其通過采用本發(fā)明提供的上述反應(yīng)腔室，不僅可以降低加工成本，而且可以提高工藝均勻性。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0022]圖1為現(xiàn)有的一種等離子體加工設(shè)備的剖視圖；
[0023]圖2八為本發(fā)明實(shí)施例提供的載臺(tái)升降裝置的剖視圖；
[0024]圖28為圖2八中I區(qū)域的局部放大圖；
[0025]圖2(:為圖2八中軸提升托架沿“線的剖視圖；
[0026]圖3為波紋管軸與軸提升托架的一種連接方式的示意圖；以及
[0027]圖4為波紋管軸與軸提升托架的另一種連接方式的示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0028]為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖來對(duì)本發(fā)明提供的載臺(tái)升降裝置、反應(yīng)腔室及等離子體加工設(shè)備進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0029]圖2八為本發(fā)明實(shí)施例提供的載臺(tái)升降裝置的剖視圖。圖28為圖2八中I區(qū)域的局部放大圖。圖2(:為圖2八中軸提升托架沿八-八線的剖視圖。請(qǐng)一并參閱圖2八、圖28和圖20，載臺(tái)升降裝置包括波紋管軸23、軸提升托架24、直線軸承25和托架驅(qū)動(dòng)源。其中，托架驅(qū)動(dòng)源用于驅(qū)動(dòng)軸提升托架24作升降運(yùn)動(dòng)；波紋管軸23穿過軸提升托架24，并與其固定連接，以隨軸提升托架24作升降運(yùn)動(dòng)，繼而實(shí)現(xiàn)固定于波紋管軸23上的載臺(tái)21的升降運(yùn)動(dòng)；直線軸承25的上端固定在反應(yīng)腔室20的腔室壁201上；軸提升托架24具有安裝通孔243，如圖2(:所示，且軸提升托架24與托架驅(qū)動(dòng)源連接；波紋管軸23的上端與載臺(tái)21連接，波紋管軸23的下端沿豎直方向貫穿腔室壁201(即，在腔室壁201的相應(yīng)位置處設(shè)置有可供波紋管軸23穿過的通孔),且依次穿過直線軸承25的軸承孔和安裝通孔243，并且波紋管軸23與直線軸承25的軸承孔在豎直方向上滾動(dòng)配合，波紋管軸23與安裝通孔243間隙配合。在托架驅(qū)動(dòng)源的驅(qū)動(dòng)下，軸提升托架24帶動(dòng)波紋管軸23在直線軸承25內(nèi)作升降運(yùn)動(dòng)。
[0030]由于直線軸承25的軸承孔與波紋管軸23在豎直方向上滾動(dòng)配合，且軸提升托架24的安裝通孔243與波紋管軸23間隙配合，波紋管軸23在其徑向上僅單獨(dú)由直線軸承25進(jìn)行約束，即，在托架驅(qū)動(dòng)源的驅(qū)動(dòng)下，軸提升托架24帶動(dòng)波紋管軸23作升降運(yùn)動(dòng)時(shí)，波紋管軸23在豎直方向上的運(yùn)動(dòng)軌跡完全由直線軸承25獨(dú)立約束，這與現(xiàn)有技術(shù)相比，可以消除冗余約束，從而不僅可以保證每次裝配的一致性，而且還會(huì)避免在裝配載臺(tái)升降裝置過程中產(chǎn)生累積誤差，且無需對(duì)軸提升托架、托架驅(qū)動(dòng)源等的相應(yīng)部件的加工精度和裝配精度提出較高的要求就可以保證載臺(tái)的上表面的水平度，進(jìn)而不僅可以降低加工成本，而且可以提高工藝均勻性。容易理解，直線軸承25的軸承孔的軸向長度應(yīng)能夠保證波紋管軸23在豎直方向上的安裝精度。
[0031]在本實(shí)施例中，波紋管軸23與軸提升托架24的連接方式具體為:在波紋管軸23的外周壁上的對(duì)應(yīng)于安裝通孔243的位置處設(shè)置有環(huán)形凹槽；軸提升托架24包括沿安裝通孔243的軸線分割，且彼此獨(dú)立的兩個(gè)分體(241, 242),兩個(gè)分體(241, 242)采用螺栓連接等的可拆卸的方式對(duì)接在一起，從而在裝配過程中，通過使兩個(gè)分體(241，242)在環(huán)形凹槽處對(duì)接而形成套在波紋管軸23上的安裝通孔243，并將兩個(gè)分體(241, 242)彼此固定，從而完成波紋管軸23與軸提升托架24之間的裝配。
[0032]而且，載臺(tái)升降裝置還包括軸向定位件、上絕緣套32和下絕緣套33。其中，軸向定位件用于約束波紋管軸23在其軸向上的自由度，上絕緣套32和下絕緣套33分別安裝于軸提升托架24上，用以使軸提升托架24與波紋管軸23彼此絕緣，并且，上絕緣套32和下絕緣套33與波紋管軸23在徑向上具有間隙，以使上絕緣套32和下絕緣套33不會(huì)約束波紋管軸23在徑向上的自由度。
[0033]在本實(shí)施例中，波紋管軸23與軸提升托架24的連接方式為:具體地，軸向定位件包括下?lián)鯄K31，下?lián)鯄K31與環(huán)形凹槽的上側(cè)壁將軸提升托架24固定在二者之間；上絕緣套32套制在波紋管軸23上，且位于環(huán)形凹槽的上側(cè)壁與軸提升托架24之間；下絕緣套33套制在波紋管軸23上，且位于下?lián)鯄K31與軸提升托架24之間；換言之，在環(huán)形凹槽內(nèi)由上至下依次設(shè)置有上絕緣套32、軸提升托架24、下絕緣套33和下?lián)鯄K31，以實(shí)現(xiàn)對(duì)波紋管軸23的軸向自由度進(jìn)行約束，且借助上絕緣套32和下絕緣套33使軸提升托架24與波紋管軸23彼此絕緣。此外，上絕緣套32和下絕緣套33均與環(huán)形凹槽在徑向上具有間隙，從而不會(huì)約束波紋管軸23的徑向自由度。
[0034]當(dāng)然，在實(shí)際應(yīng)用中，波紋管軸23與軸提升托架24的連接方式也可以為:如圖3所示，軸向定位件包括上擋塊34，上擋塊34與環(huán)形凹槽的下側(cè)壁將軸提升托架24固定在二者之間；上絕緣套32套制在波紋管軸23上，且位于上擋塊34與軸提升托架24之間；下絕緣套33套制在波紋管軸23上，且位于環(huán)形凹槽的下側(cè)壁與軸提升托架24之間，即，在環(huán)形凹槽內(nèi)由上至下依次設(shè)置有上擋塊34、上絕緣套32、軸提升托架24和下絕緣套33，以實(shí)現(xiàn)對(duì)波紋管軸23的軸向自由度進(jìn)行約束，且借助上絕緣套32和下絕緣套33使軸提升托架24與波紋管軸23彼此絕緣。此外，上絕緣套32和下絕緣套33與波紋管軸23在徑向上具有間隙，以使上絕緣套32和下絕緣套33不會(huì)約束波紋管軸23在徑向上的自由度。
[0035]或者，波紋管軸23與軸提升托架24的連接方式還可以為:如圖4所示，軸向定位件包括上擋塊34和下?lián)鯄K31，上擋塊34和下?lián)鯄K31設(shè)置在環(huán)形凹槽內(nèi)，且將軸提升托架24固定在二者之間；上絕緣套32套制在波紋管軸23上，且位于軸提升托架24與上擋塊34之間；下絕緣套33套制在波紋管軸23上，且位于軸提升托架24與下?lián)鯄K31之間，即，在環(huán)形凹槽內(nèi)由上至下依次設(shè)置有上擋塊34、上絕緣套32、軸提升托架24、下絕緣套33和下?lián)鯄K31，以實(shí)現(xiàn)對(duì)波紋管軸23的軸向自由度進(jìn)行約束，且借助上絕緣套32和下絕緣套33使軸提升托架24與波紋管軸23彼此絕緣。此外，上絕緣套32和下絕緣套33與波紋管軸23在徑向上具有間隙，以使上絕緣套32和下絕緣套33不會(huì)約束波紋管軸23在徑向上的自由度。
[0036]托架驅(qū)動(dòng)源包括支架27、旋轉(zhuǎn)電機(jī)30、直線導(dǎo)軌28和導(dǎo)軌滑塊29，其中，支架27固定在腔室壁201上，用以支撐直線導(dǎo)軌28 ；導(dǎo)軌滑塊29與直線導(dǎo)軌28滑動(dòng)連接，且與軸提升托架24固定連接；旋轉(zhuǎn)電機(jī)30用于提供旋轉(zhuǎn)動(dòng)力；直線導(dǎo)軌28用于將由旋轉(zhuǎn)電機(jī)30提供的旋轉(zhuǎn)動(dòng)力轉(zhuǎn)換為升降運(yùn)動(dòng)，并傳遞至導(dǎo)軌滑塊29，以使其帶動(dòng)軸提升托架24沿直線導(dǎo)軌作升降運(yùn)動(dòng)。
[0037]在實(shí)際應(yīng)用中，托架驅(qū)動(dòng)源還可以采用直線電機(jī)來代替直線導(dǎo)軌28、導(dǎo)軌滑塊29和旋轉(zhuǎn)電機(jī)30，即:借助支架27支撐直線電機(jī)，直線電機(jī)用于直接驅(qū)動(dòng)軸提升托架24作升降直線運(yùn)動(dòng)，從而帶動(dòng)波紋管軸23和載臺(tái)21同步作升降直線運(yùn)動(dòng)。
[0038]在本實(shí)施例中，為了對(duì)波紋管軸23與腔室壁201之間的間隙進(jìn)行密封，以保證反應(yīng)腔室20的工藝環(huán)境，載臺(tái)升降裝置還包括波紋管26和絕緣環(huán)35，其中，絕緣環(huán)35的下表面與腔室壁201的上表面密封連接；波紋管26位于反應(yīng)腔室20內(nèi)，且套制在波紋管軸23上，并且波紋管26的上端與波紋管軸23密封連接，波紋管26的下端與絕緣環(huán)35的上表面密封連接。在本實(shí)施例中，絕緣環(huán)35的下表面與腔室壁201的上表面，以及波紋管26的下端與絕緣環(huán)35的上表面均借助密封圈等密封件36進(jìn)行密封。容易理解，腔室壁201的用于供波紋管軸23穿過的通孔直徑應(yīng)不大于絕緣環(huán)35的外徑。
[0039]需要說明的是，波紋管軸與軸提升托架的連接方式并不局限于本實(shí)施例中所述的上述幾種方式，在實(shí)際應(yīng)用中，可以采用任意方式對(duì)波紋管軸與軸提升托架進(jìn)行連接，只要該方式不會(huì)約束波紋管軸的徑向自由度即可。
[0040]作為另一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明實(shí)施例還提供一種反應(yīng)腔室，如圖2八所示，反應(yīng)腔室20包括腔室壁201、載臺(tái)21及載臺(tái)升降裝置。其中，載臺(tái)21設(shè)置在反應(yīng)腔室20內(nèi)部，用以承載被加工工件22，載臺(tái)21可以為加熱器、基座或靜電卡盤等。載臺(tái)升降裝置用于驅(qū)動(dòng)載臺(tái)作升降運(yùn)動(dòng)，其采用了本發(fā)明實(shí)施例提供的上述載臺(tái)升降裝置。
[0041]本發(fā)明實(shí)施例提供的反應(yīng)腔室，其通過采用本發(fā)明實(shí)施例提供的上述載臺(tái)升降裝置，不僅可以降低加工成本，而且可以提高工藝均勻性。
[0042]作為另一個(gè)技術(shù)方案，本發(fā)明實(shí)施例還提供一種等離子體加工設(shè)備，其包括反應(yīng)腔室，該反應(yīng)腔室采用了本發(fā)明實(shí)施例提供的上述反應(yīng)腔室。
[0043]本發(fā)明實(shí)施例提供的等離子體加工設(shè)備，其通過采用本發(fā)明實(shí)施例提供的上述反應(yīng)腔室，不僅可以降低加工成本，而且可以提高工藝均勻性。
[0044]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種載臺(tái)升降裝置，包括:波紋管軸、軸提升托架以及托架驅(qū)動(dòng)源，其中:所述托架驅(qū)動(dòng)源用于驅(qū)動(dòng)軸提升托架作升降運(yùn)動(dòng)；所述波紋管軸穿過所述軸提升托架，并與其固定連接，以隨所述軸提升托架作升降運(yùn)動(dòng)，繼而實(shí)現(xiàn)固定于所述波紋管軸上的載臺(tái)的升降運(yùn)動(dòng)；其特征在于，所述載臺(tái)升降裝置，還包括:軸向定位件和直線軸承，其中: 所述直線軸承的上端固定在反應(yīng)腔室的腔室壁上； 所述軸提升托架具有安裝通孔； 所述波紋管軸的上端與所述載臺(tái)連接，所述波紋管軸的下端沿豎直方向貫穿所述腔室壁，且依次穿過所述直線軸承的軸承孔和所述安裝通孔，并且所述波紋管軸與所述直線軸承的軸承孔在豎直方向上滾動(dòng)配合，所述波紋管軸與所述安裝通孔間隙配合； 所述軸向定位件用于阻擋所述軸提升托架與波紋管軸在豎直方向上的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的載臺(tái)升降裝置，其特征在于，所述載臺(tái)升降裝置還包括上絕緣套和下絕緣套，其中 所述上絕緣套和下絕緣套分別安裝于所述軸提升托架上，用以使所述軸提升托架與所述波紋管軸彼此絕緣，并且，所述上絕緣套和下絕緣套與所述波紋管軸在徑向上具有間隙。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的載臺(tái)升降裝置，其特征在于，在所述波紋管軸的外周壁上的對(duì)應(yīng)于所述安裝通孔的位置處設(shè)置有環(huán)形凹槽，并且 所述軸向定位件包括上擋塊，所述上擋塊與所述環(huán)形凹槽的下側(cè)壁將所述軸提升托架固定在二者之間； 所述軸提升托架包括沿所述安裝通孔的軸線分割，且彼此獨(dú)立的兩個(gè)分體，所述兩個(gè)分體采用可拆卸的方式對(duì)接在一起。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的載臺(tái)升降裝置，其特征在于，所述上絕緣套套制在所述波紋管軸上，且位于所述上擋塊與所述軸提升托架之間； 所述下絕緣套套制在所述波紋管軸上，且位于所述環(huán)形凹槽的下側(cè)壁與所述軸提升托架之間； 所述上絕緣套和下絕緣套均與所述環(huán)形凹槽在徑向上具有間隙。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的載臺(tái)升降裝置，其特征在于，在所述波紋管軸的外周壁上的對(duì)應(yīng)于所述安裝通孔的位置處設(shè)置有環(huán)形凹槽，并且 所述軸向定位件包括下?lián)鯄K，所述下?lián)鯄K與所述環(huán)形凹槽的上側(cè)壁將所述軸提升托架固定在二者之間； 所述軸提升托架包括沿所述安裝通孔的軸線分割，且彼此獨(dú)立的兩個(gè)分體，所述兩個(gè)分體采用可拆卸的方式對(duì)接在一起。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的載臺(tái)升降裝置，其特征在于，所述上絕緣套套制在所述波紋管軸上，且位于所述環(huán)形凹槽的上側(cè)壁與所述軸提升托架之間； 所述下絕緣套套制在所述波紋管軸上，且位于所述下?lián)鯄K與所述軸提升托架之間； 所述上絕緣套和下絕緣套均與所述環(huán)形凹槽在徑向上具有間隙。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的載臺(tái)升降裝置，其特征在于，在所述波紋管軸的外周壁上的對(duì)應(yīng)于所述安裝通孔的位置處設(shè)置有環(huán)形凹槽，并且 所述軸向定位件包括上擋塊和下?lián)鯄K，所述上擋塊和下?lián)鯄K設(shè)置在所述環(huán)形凹槽內(nèi)，且將所述軸提升托架固定在二者之間； 所述軸提升托架包括沿所述安裝通孔的軸線分割，且彼此獨(dú)立的兩個(gè)分體，所述兩個(gè)分體采用可拆卸的方式對(duì)接在一起。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的載臺(tái)升降裝置，其特征在于，所述上絕緣套套制在所述波紋管軸上，且位于所述軸提升托架與所述上擋塊之間； 所述下絕緣套套制在所述波紋管軸上，且位于所述軸提升托架與所述下?lián)鯄K之間； 所述上絕緣套和下絕緣套均與所述環(huán)形凹槽在徑向上具有間隙。
9.一種反應(yīng)腔室，其特征在于，包括權(quán)利要求1-8任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的載臺(tái)升降>j-U ρ?α裝直。
10.一種等離子體加工設(shè)備，包括反應(yīng)腔室，其特征在于，所述反應(yīng)腔室采用了權(quán)利要求9所述的反應(yīng)腔室。
【文檔編號(hào)】C23F4/00GK104451586SQ201310431952
【公開日】2015年3月25日 申請(qǐng)日期:2013年9月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月18日
【發(fā)明者】呂峰 申請(qǐng)人:北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司