專利名稱：水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種濺鍍設(shè)備，特別是涉及一種水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有一種定點(diǎn)式厚膜真空濺鍍設(shè)備(臺(tái)灣新型專利第M346604號(hào))，利用一個(gè)內(nèi)部 傳動(dòng)裝置配合一個(gè)感應(yīng)裝置讓一個(gè)承載有多數(shù)個(gè)工件的工件載具在一個(gè)制程室內(nèi)進(jìn)行定 點(diǎn)濺鍍作業(yè)，然而，由于所述制程室上方的多數(shù)個(gè)濺鍍靶材是呈間隔設(shè)置，因此，所述工件 在定點(diǎn)上進(jìn)行濺鍍作業(yè)時(shí)，往往會(huì)因相對于所述濺鍍靶材的相對位置關(guān)系，而產(chǎn)生膜厚不 均的問題，特別是大尺寸的工件(例如NB的外殼)其膜厚不均的問題會(huì)更明顯。此外，現(xiàn)有一種真空濺鍍設(shè)備的傳動(dòng)裝置(臺(tái)灣新型專利第M351441號(hào))與一種 用于真空濺鍍設(shè)備的傳動(dòng)裝置(臺(tái)灣新型專利第M329125號(hào))，分別利用多數(shù)個(gè)正齒輪與多 數(shù)個(gè)螺旋齒輪來驅(qū)動(dòng)帶動(dòng)所述工件載具的滾輪，然而，由于所述正齒輪之間或所述螺旋齒 輪之間均存在有一定的背隙(Backlash)，因此，這些傳動(dòng)裝置只適用于單向輸送所述工件 載具，且無法對所述工件載具進(jìn)行精確的位置控制。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種可改善濺鍍膜厚均勻性的水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備。本實(shí)用新型的水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備，包含一個(gè)濺鍍站、一個(gè)閥門單元、一個(gè)抽真空 單元、至少一個(gè)驅(qū)動(dòng)單元，及一個(gè)控制單元。所述濺鍍站具有一個(gè)入口、一個(gè)出口、至少一個(gè) 介于所述入口、出口之間的濺鍍腔室，及至少一個(gè)設(shè)置于所述濺鍍腔室內(nèi)的陰極濺鍍靶，所 述陰極濺鍍靶定義出一配置總長。所述閥門單元具有一個(gè)設(shè)置于所述入口的入口閥門，及 一個(gè)設(shè)置于所述出口的出口閥門。所述抽真空單元與所述濺鍍腔室相通。所述驅(qū)動(dòng)單元具 有一個(gè)位于所述濺鍍腔室外的伺服馬達(dá)，及多數(shù)個(gè)間隔地設(shè)置于所述濺鍍腔室內(nèi)并被所述 伺服馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的輸送滾輪。所述控制單元與所述伺服馬達(dá)電連接，所述控制單元具有一個(gè) 往復(fù)控制模式，控制所述伺服馬達(dá)連續(xù)且周期性地正、逆往復(fù)運(yùn)轉(zhuǎn)，驅(qū)使所述輸送滾輪往復(fù) 轉(zhuǎn)動(dòng)，所述輸送滾輪的往、復(fù)行程分別小于所述配置總長。本實(shí)用新型的有益效果在于所述控制單元的往復(fù)控制模式可控制所述伺服馬達(dá) 驅(qū)使所述輸送滾輪帶動(dòng)一工件托盤往復(fù)移動(dòng)，使所述工件托盤上的工件在進(jìn)行濺鍍作業(yè)時(shí) 可形成均勻的濺鍍膜厚。

圖1是本實(shí)用新型的水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備一較佳實(shí)施例的俯視示意圖；圖2是所述較佳實(shí)施例的前視示意圖；圖3是沿圖1中III-III剖面線的剖視示意圖；圖4是所述較佳實(shí)施例的一個(gè)濺鍍站的局部側(cè)視示意圖；圖5是所述濺鍍站的局部立體示意4[0012]圖6是沿圖4中VI-VI剖面線的剖視示意圖，說明所述較佳實(shí)施例帶動(dòng)一個(gè)工件
托盤往復(fù)移動(dòng)。圖中10.濺鍍站；100.工件托盤；11.入口；12.出口；13.濺鍍腔室；131.上濺 鍍區(qū)；132.下遮蔽區(qū)；14.防著板；141.連通孔；15.陰極濺鍍靶；20.載入腔；21.卸載腔; 22.搬入腔；23.搬出腔；30.閥門單元；31.入口閥門；32.出口閥門；33.前閥門；34.后 閥門；40.抽真空單元；41.第一真空泵；42.第二真空泵；43.第三真空泵；50.驅(qū)動(dòng)單元； 51.伺服馬達(dá)；52.輸送滾輪；53.時(shí)規(guī)皮帶輪；54.時(shí)規(guī)皮帶；55.側(cè)向滾輪；60.感測單元； 61.第一光發(fā)射器；62.第一光接收器；63.第二光發(fā)射器；64.第二光接收器；70.控制單 元；I.第一基準(zhǔn)點(diǎn)；II.第二基準(zhǔn)點(diǎn)；L.配置總長；Li.行程；L2.行程。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。有關(guān)本實(shí)用新型的前述及其它技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)與功效，在以下配合附圖所示的一 較佳實(shí)施例的詳細(xì)說明中，將可清楚的明白。參閱圖1、圖2、圖3，為本實(shí)用新型水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備的較佳實(shí)施例，可配合至 少一個(gè)承載多數(shù)個(gè)工件(圖未示)的工件托盤100進(jìn)行濺鍍作業(yè)，所述水平步進(jìn)式濺鍍設(shè) 備包含一個(gè)濺鍍站10、一個(gè)載入腔20、一個(gè)卸載腔21、一個(gè)搬入腔22、一個(gè)搬出腔23、一 個(gè)閥門單元30、一個(gè)抽真空單元40、二個(gè)驅(qū)動(dòng)單元50、二個(gè)感測單元60，及一個(gè)控制單元 70。如圖2、圖3、圖4所示，所述濺鍍站10具有一個(gè)入口 11、一個(gè)出口 12、二個(gè)介于所 述入口 11、出口 12之間且彼此相通的濺鍍腔室13、二塊分別可拆卸地設(shè)置于所述濺鍍腔室 13內(nèi)的防著板(ShieldingPlate) 14，及二個(gè)分別設(shè)置于所述濺鍍腔室13內(nèi)的陰極濺鍍靶 15。每一個(gè)陰極濺鍍靶15定義出一配置總長L。在本實(shí)施例中，這兩個(gè)濺鍍腔室13可分 別進(jìn)行不同材料(例如Cu/SUS)的濺鍍作業(yè)，因?yàn)檫@兩個(gè)濺鍍腔室13結(jié)構(gòu)相同，圖3 圖 6只表現(xiàn)其中一個(gè)濺鍍腔室13，此外，要說明的是，每一個(gè)陰極濺鍍靶15也可改由多數(shù)個(gè)小 尺寸的陰極濺鍍靶來組成。在本實(shí)施例中，每一個(gè)濺鍍腔室13定義出一個(gè)對應(yīng)于每一個(gè)陰極濺鍍靶15的后 端緣的第一基準(zhǔn)點(diǎn)I，及一個(gè)對應(yīng)于每一個(gè)陰極濺鍍靶15的前端緣的第二基準(zhǔn)點(diǎn)II。在本實(shí)施例中，每一塊防著板14將每一個(gè)濺鍍腔室13區(qū)分為一個(gè)上濺鍍區(qū)131， 及一個(gè)下遮蔽區(qū)132，每一塊防著板14具有多數(shù)個(gè)連通所述上濺鍍區(qū)131與所述下遮蔽區(qū) 132的連通孔141 (見圖6)。如圖1、圖2所示，所述載入腔20鄰近于所述濺鍍站10的入口 11，所述卸載腔21 鄰近于所述濺鍍站10的出口 12，所述搬入腔22鄰近于所述載入腔20，所述搬出腔2 3鄰 近于所述卸載腔21。在本實(shí)施例中，所述工件托盤100可經(jīng)所述搬入腔22與所述載入腔 20輸送入所述濺鍍站10進(jìn)行濺鍍作業(yè)，再經(jīng)所述卸載腔21與所述搬出腔23輸送出所述濺 鍍站10。要說明的是，所述載入腔20、所述卸載腔21、所述搬入腔22與所述搬出腔23內(nèi) 均設(shè)置有可輸送所述工件托盤100的輸送機(jī)構(gòu)，此部分因?qū)儆诂F(xiàn)有技術(shù)且非本實(shí)用新型重 點(diǎn)，所以不再詳細(xì)地說明。如圖1、圖2所示，所述閥門單元30具有一個(gè)設(shè)置于所述入口 11并介于所述載入腔20與所述濺鍍站10之間的入口閥門31、一個(gè)設(shè)置于所述出口 12并介于所述卸載腔21 與所述濺鍍站10之間的出口閥門32、一個(gè)介于所述搬入腔22與所述載入腔20之間的前閥 門33，及一個(gè)介于所述卸載腔21與所述搬出腔23之間的后閥門34。所述入口閥門31、出 口閥門32與所述前閥門33、后閥門34可啟閉所述濺鍍站10、所述載入腔20與所述卸載腔 21。如圖1所示，所述抽真空單元40具有一個(gè)第一真空泵41、一個(gè)第二真空泵42，及 一個(gè)第三真空泵43，所述第一真空泵41與所述濺鍍站10的濺鍍腔室13相通，所述第二真 空泵42、第三真空泵43分別與所述載入腔20及所述卸載腔21相通。如圖4、圖5所示，所述驅(qū)動(dòng)單元50分別對應(yīng)所述濺鍍腔室13設(shè)置，每一個(gè)驅(qū)動(dòng)單 元50具有一個(gè)位于每一個(gè)濺鍍腔室13外的伺服馬達(dá)51、多數(shù)個(gè)間隔地設(shè)置于每一個(gè)濺鍍 腔室13內(nèi)并被所述伺服馬達(dá)51驅(qū)動(dòng)的輸送滾輪52、多數(shù)個(gè)分別同軸連接于所述伺服馬達(dá) 51與所述輸送滾輪52的時(shí)規(guī)皮帶輪53、多數(shù)條連接于兩兩相鄰的時(shí)規(guī)皮帶輪53之間的時(shí) 規(guī)皮帶54，及多數(shù)個(gè)間隔地設(shè)置于每一個(gè)濺鍍腔室13內(nèi)并位于所述輸送滾輪52兩側(cè)的側(cè) 向滾輪55。在本實(shí)施例中，所述輸送滾輪52、所述時(shí)規(guī)皮帶輪53與所述時(shí)規(guī)皮帶54位于每一 個(gè)濺鍍腔室13的下遮蔽區(qū)132，且所述輸送滾輪52經(jīng)所述連通孔141 (見圖6)延伸入每一 個(gè)濺鍍腔室13的上濺鍍區(qū)131，所述側(cè)向滾輪55位于每一個(gè)濺鍍腔室13的上濺鍍區(qū)131， 所述輸送滾輪52可與所述工件托盤100底面抵接，所述側(cè)向滾輪55可導(dǎo)引所述工件托盤 100兩側(cè)。如圖5、圖6所示，所述感測單元60分別對應(yīng)所述濺鍍腔室13設(shè)置，每一個(gè)感測單 元60具有一個(gè)設(shè)置于每一個(gè)濺鍍腔室13的第一基準(zhǔn)點(diǎn)I的第一光發(fā)射器61、一個(gè)相向于 所述第一光發(fā)射器61設(shè)置的第一光接收器62、一個(gè)設(shè)置于每一個(gè)濺鍍腔室13的第二基準(zhǔn) 點(diǎn)II的第二光發(fā)射器63，及一個(gè)相向于所述第二光發(fā)射器63設(shè)置的第二光接收器64。所 述第一光發(fā)射器61與所述第一光接收器62可偵測所述工件托盤100抵達(dá)所述第一基準(zhǔn)點(diǎn) I，所述第二光發(fā)射器63與所述第二光接收器64可偵測所述工件托盤100抵達(dá)所述第二基 準(zhǔn)點(diǎn)II。在本實(shí)施例中，所述感測單元60是一種紅外線感測單元。如圖1、圖6所示，所述控制單元70與每一個(gè)驅(qū)動(dòng)單元50的伺服馬達(dá)51及每一個(gè) 感測單元60電連接，所述控制單元70具有一個(gè)往復(fù)控制模式，控制所述伺服馬達(dá)51連續(xù) 且周期性地正、逆往復(fù)運(yùn)轉(zhuǎn)，驅(qū)使所述輸送滾輪52往復(fù)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述輸送滾輪52帶動(dòng)所述工 件托盤100的往、復(fù)行程L1、L2分別小于所述配置總長L(見圖3)。在本實(shí)施例中，所述控 制單元70是一種工業(yè)計(jì)算機(jī)。借此，如圖3、圖6所示，當(dāng)所述驅(qū)動(dòng)單元50的伺服馬達(dá)51驅(qū)動(dòng)所述輸送滾輪52 帶動(dòng)所述工件托盤100朝前移動(dòng)至所述第一基準(zhǔn)點(diǎn)I，而阻斷所述第一光發(fā)射器61與所述 第一光接收器62時(shí)，所述控制單元70 (見圖1)會(huì)控制所述伺服馬達(dá)51使所述輸送滾輪52 帶動(dòng)所述工件托盤100從所述第一基準(zhǔn)點(diǎn)I再朝前移動(dòng)所述行程Li，然后再帶動(dòng)所述工件 托盤100朝后移動(dòng)至所述第二基準(zhǔn)點(diǎn)II，則當(dāng)所述工件托盤100阻斷所述第二光發(fā)射器63 與所述第二光接收器64時(shí)，所述控制單元70 (見圖1)會(huì)控制所述伺服馬達(dá)51使所述輸送 滾輪52帶動(dòng)所述工件托盤100從所述第二基準(zhǔn)點(diǎn)II再朝后移動(dòng)所述行程L2，然后再帶動(dòng) 所述工件托盤100朝前移動(dòng)至所述第一基準(zhǔn)點(diǎn)I，如此，所述控制單元70 (見圖1)的往復(fù)控制模式即可控制所述伺服馬達(dá)51驅(qū)使所述輸送滾輪52帶動(dòng)所述工件托盤100連續(xù)且周期 性地往復(fù)移動(dòng)，使所述工件托盤100上的工件(圖未示)在進(jìn)行濺鍍作業(yè)時(shí)，可不斷改變其 相對于所述陰極濺鍍靶15的相對位置關(guān)系，使所述陰極濺鍍靶15激發(fā)出來的粒子均勻地 濺射于所述工件上，而于所述工件上形成均勻的濺鍍膜厚。要說明的是，所述行程Li、L2可設(shè)定成等長或不等長，在本實(shí)施例中，是以等長的 行程Li、L2作說明。經(jīng)由以上的說明，可再將本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)歸納如下一、本實(shí)用新型控制單元70的往復(fù)控制模式可控制所述伺服馬達(dá)51驅(qū)使所述輸 送滾輪52帶動(dòng)所述工件托盤100往復(fù)移動(dòng)，使所述工件托盤100上的工件在進(jìn)行濺鍍作業(yè) 時(shí)可形成均勻的濺鍍膜厚，有效改善現(xiàn)有技術(shù)濺鍍膜厚不均的問題。二、本實(shí)用新型驅(qū)動(dòng)單元50的伺服馬達(dá)51經(jīng)所述時(shí)規(guī)皮帶輪53、所述時(shí)規(guī)皮帶 54驅(qū)動(dòng)所述輸送滾輪52，相較于現(xiàn)有技術(shù)的正齒輪或斜齒輪傳動(dòng)，本實(shí)用新型不會(huì)產(chǎn)生背 隙問題，因此，所述驅(qū)動(dòng)單元50可連續(xù)且周期性地往復(fù)帶動(dòng)所述工件托盤100，并對所述工 件托盤100進(jìn)行精確的位置控制。三、本實(shí)用新型濺鍍站10的濺鍍腔室13內(nèi)設(shè)置有所述防著板14，所述防著板14 可防止所述陰極濺鍍靶15激發(fā)出來的粒子濺射于所述濺鍍腔室13內(nèi)的非工件處，而且當(dāng) 所述防著板14上形成一定的濺鍍膜厚后，使用者可方便地將所述防著板14拆下進(jìn)行更換 或噴砂處理。四、本實(shí)用新型濺鍍站10的防著板14將每一個(gè)濺鍍腔室13區(qū)分為所述上濺鍍區(qū) 131與所述下遮蔽區(qū)132，使所述輸送滾輪52、所述時(shí)規(guī)皮帶輪53與所述時(shí)規(guī)皮帶54可容 置于所述濺鍍腔室13的下遮蔽區(qū)132，而可被所述防著板14遮蔽保護(hù)，并用以阻隔每一個(gè) 濺鍍腔室13內(nèi)的高溫。值得一提的是，本實(shí)用新型尚有下列可行的變化例1.若只以所述第一光發(fā)射器61與所述第一光接收器62作位置控制，也可使所述 工件托盤100以所述第一基準(zhǔn)點(diǎn)I為原點(diǎn)而往復(fù)移動(dòng)。2.取消所述載入腔20、所述卸載腔21、所述搬入腔22與所述搬出腔23，以機(jī)械手 臂(圖未示)或人工將所述工件托盤100置入且定位于所述濺鍍站10內(nèi)。3.承前述變化例2，也可不設(shè)置所述感測單元60，直接經(jīng)所述控制單元70控制所 述伺服馬達(dá)51作預(yù)設(shè)行程的往復(fù)運(yùn)轉(zhuǎn)。綜上所述，本實(shí)用新型的水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備，不但可有效改善工件濺鍍膜厚的 均勻性，且可防止濺鍍腔室內(nèi)的非工件處被濺鍍增厚，并可遮蔽保護(hù)驅(qū)動(dòng)單元，所以確實(shí)能 達(dá)成本實(shí)用新型的目的。
權(quán)利要求一種水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備，包含一個(gè)濺鍍站、一個(gè)閥門單元、一個(gè)抽真空單元、至少一個(gè)驅(qū)動(dòng)單元，及一個(gè)控制單元，其特征在于所述濺鍍站，具有一個(gè)入口、一個(gè)出口、至少一個(gè)介于所述入口、出口之間的濺鍍腔室，及至少一個(gè)設(shè)置于所述濺鍍腔室內(nèi)的陰極濺鍍靶，所述陰極濺鍍靶定義出一配置總長；所述閥門單元，具有一個(gè)設(shè)置于所述入口的入口閥門，及一個(gè)設(shè)置于所述出口的出口閥門；所述抽真空單元，與所述濺鍍腔室相通；所述驅(qū)動(dòng)單元，具有一個(gè)位于所述濺鍍腔室外的伺服馬達(dá)，及多數(shù)個(gè)間隔地設(shè)置于所述濺鍍腔室內(nèi)并被所述伺服馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的輸送滾輪；所述控制單元，與所述伺服馬達(dá)電連接，所述控制單元具有一個(gè)往復(fù)控制模式，控制所述伺服馬達(dá)連續(xù)且周期性地正、逆往復(fù)運(yùn)轉(zhuǎn)，驅(qū)使所述輸送滾輪往復(fù)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述輸送滾輪的往、復(fù)行程分別小于所述配置總長。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備，其特征在于所述驅(qū)動(dòng)單元還具有多 數(shù)個(gè)分別連接于所述伺服馬達(dá)與所述輸送滾輪的時(shí)規(guī)皮帶輪，及多數(shù)條連接于兩兩相鄰的 時(shí)規(guī)皮帶輪之間的時(shí)規(guī)皮帶。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備，其特征在于所述濺鍍站還具有至少 一塊可拆卸地設(shè)置于所述濺鍍腔室內(nèi)的防著板，所述防著板將所述濺鍍腔室區(qū)分為一個(gè)上 濺鍍區(qū)，及一個(gè)下遮蔽區(qū)，所述防著板具有多數(shù)個(gè)連通所述上濺鍍區(qū)與所述下遮蔽區(qū)的連 通孔，所述輸送滾輪、所述時(shí)規(guī)皮帶輪與所述時(shí)規(guī)皮帶位于所述下遮蔽區(qū)，且所述輸送滾輪 經(jīng)所述連通孔延伸入所述上濺鍍區(qū)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備，其特征在于所述驅(qū)動(dòng)單元還具有多 數(shù)個(gè)間隔地設(shè)置于所述濺鍍腔室的上濺鍍區(qū)內(nèi)并位于所述輸送滾輪兩側(cè)的側(cè)向滾輪。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備，其特征在于所述水平步進(jìn)式濺鍍設(shè) 備包含二個(gè)驅(qū)動(dòng)單元，所述濺鍍站具有二個(gè)相通的濺鍍腔室，所述驅(qū)動(dòng)單元分別對應(yīng)所述 濺鍍腔室設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備，其特征在于所述水平步進(jìn)式濺鍍設(shè) 備還包含一個(gè)鄰近于所述濺鍍站的入口的載入腔、一個(gè)鄰近于所述濺鍍站的出口的卸載 腔、一個(gè)鄰近于所述載入腔的搬入腔，及一個(gè)鄰近于所述卸載腔的搬出腔，所述閥門單元還 具有一個(gè)前閥門，及一個(gè)后閥門，所述入口閥門介于所述載入腔與所述濺鍍站之間，所述出 口閥門介于所述卸載腔與所述濺鍍站之間，所述前閥門介于所述搬入腔與所述載入腔之 間，所述后閥門介于所述卸載腔與所述搬出腔之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備，其特征在于所述抽真空單元具有一 個(gè)第一真空泵、一個(gè)第二真空泵，及一個(gè)第三真空泵，所述第一真空泵與所述濺鍍站的濺鍍 腔室相通，所述第二、三真空泵分別與所述載入腔及所述卸載腔相通。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備，其特征在于所述水平步進(jìn)式濺鍍設(shè) 備還包含一個(gè)對應(yīng)所述濺鍍腔室設(shè)置并與所述控制單元電連接的感測單元，所述濺鍍腔室 定義出至少一個(gè)基準(zhǔn)點(diǎn)，所述感測單元設(shè)置于所述濺鍍腔室的基準(zhǔn)點(diǎn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備，其特征在于所述濺鍍腔室定義出一 個(gè)對應(yīng)于所述陰極濺鍍靶的后端緣的第一基準(zhǔn)點(diǎn)，所述感測單元具有一個(gè)設(shè)置于所述濺鍍腔室的第一基準(zhǔn)點(diǎn)的第一光發(fā)射器，及一個(gè)相向于所述第一光發(fā)射器設(shè)置的第一光接收器。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備，其特征在于所述濺鍍腔室更定義出 一個(gè)對應(yīng)于所述陰極濺鍍靶的前端緣的第二基準(zhǔn)點(diǎn)，所述感測單元還具有一個(gè)設(shè)置于所述 濺鍍腔室的第二基準(zhǔn)點(diǎn)的第二光發(fā)射器，及一個(gè)相向于所述第二光發(fā)射器設(shè)置的第二光接 收器。
專利摘要一種水平步進(jìn)式濺鍍設(shè)備，包含一個(gè)具有一個(gè)入口、一個(gè)出口、至少一個(gè)濺鍍腔室與至少一個(gè)設(shè)置于所述濺鍍腔室內(nèi)并定義出一配置總長的陰極濺鍍靶的濺鍍站、一個(gè)具有一個(gè)設(shè)置于所述入口的入口閥門與一個(gè)設(shè)置于所述出口的出口閥門的閥門單元、一個(gè)與所述濺鍍腔室相通的抽真空單元、至少一個(gè)具有一個(gè)位于所述濺鍍腔室外的伺服馬達(dá)與多數(shù)個(gè)設(shè)置于所述濺鍍腔室內(nèi)并被所述伺服馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的輸送滾輪的驅(qū)動(dòng)單元，及一個(gè)與所述伺服馬達(dá)電連接的控制單元，所述控制單元具有一個(gè)往復(fù)控制模式，控制所述伺服馬達(dá)連續(xù)且周期性地正、逆往復(fù)運(yùn)轉(zhuǎn)，驅(qū)使所述輸送滾輪往復(fù)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述輸送滾輪的往、復(fù)行程分別小于所述配置總長。因此可有效改善工件濺鍍膜厚的均勻性。
文檔編號(hào)C23C14/34GK201648508SQ20102012367
公開日2010年11月24日 申請日期2010年3月5日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月5日
發(fā)明者盧木森, 李福元, 陳紹偉, 黃一原 申請人:凌嘉科技股份有限公司