技術編號：3369608
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及一種濺鍍設備，特別是涉及一種水平步進式濺鍍設備。 背景技術現(xiàn)有一種定點式厚膜真空濺鍍設備(臺灣新型專利第M346604號)，利用一個內部 傳動裝置配合一個感應裝置讓一個承載有多數(shù)個工件的工件載具在一個制程室內進行定 點濺鍍作業(yè)，然而，由于所述制程室上方的多數(shù)個濺鍍靶材是呈間隔設置，因此，所述工件 在定點上進行濺鍍作業(yè)時，往往會因相對于所述濺鍍靶材的相對位置關系，而產生膜厚不 均的問題，特別是大尺寸的工件(例如NB的外殼)其膜厚不均的問題會更明...
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