專利名稱：高精度基材支架舉升設(shè)備及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明大致上是有關(guān)于半導(dǎo)體制造，且特別是有關(guān)于一種用以達到形成在一基材上的一層次的一所希望厚度均勻性的方法與設(shè)備。
背景技術(shù)：
制造現(xiàn)代半導(dǎo)體元件的主要步驟之一是通過氣體化學(xué)反應(yīng)形成一薄膜在一半導(dǎo)體基材上。這樣的一沉積制程被稱為化學(xué)氣相沉積(CVD)。傳統(tǒng)的熱CVD制程是供應(yīng)反應(yīng)性氣體至基材表面，其中在該基材表面上熱誘發(fā)化學(xué)反應(yīng)會發(fā)生以產(chǎn)生所希望的薄膜。等離子增強CVD制程通過施加射頻(RF)能量至鄰近基材表面的反應(yīng)區(qū)域而促成了反應(yīng)物氣體的激化與/或分解，藉此產(chǎn)生一高反應(yīng)性物種的等離子體。所被釋放物種的高反應(yīng)性降低了一化學(xué)反應(yīng)發(fā)生所需要的能量，且因此記低了這樣的CVD制程的所需要的溫度。
在腔室內(nèi)進行處理的期間，例如形成一層次在基材上，基材停置在一基材支撐件上?；闹渭湫偷貫橐换募訜崞?，該基材加熱器在基材處理期間是支撐住且加熱該基材?；耐Ｖ糜诩訜崞鞅砻嫔戏?，并且熱被供給至基材底部。一些基材加熱器是被電阻式地加熱，例如通過電性加熱構(gòu)件，譬如位于加熱器表面下方或被嵌入在具有加熱表面的一平板內(nèi)的電阻式線圈。來自基材加熱器的熱在熱驅(qū)動制程中為能量的主要來源，其中該熱驅(qū)動制程是例如用以沉積包括有未摻雜硅玻璃(USG)、摻雜硅玻璃(譬如硼磷硅玻璃(BPSG))等等層次的熱CVD。
基材支撐件典型地支撐住基材而相對于一氣體分配面板，其中一反應(yīng)物氣體是被供給通過該面板而至腔室。面板為用以供給一或多種氣體至腔室的氣體分配構(gòu)件的一零件。來自面板至基材的氣體流影響形成在基材上層次的均勻性，例如層次的厚度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例是有關(guān)于調(diào)整介于基材支撐件與氣體分配構(gòu)件的面板之間的間距，以達到形成在基材上的改善的層次的均勻性?；闹渭c面板之間的間距影響了至基材表面的氣體流與形成在基材表面上的層次的均勻性。介于基材與面板之間的間距典型地約為0.2吋。在一些制程中，基材是被置放成非常鄰近于面板(例如距離0.1吋或更少)以增加薄膜沉積速率?？s短間距使得薄膜厚度均勻性對于基材與面板之間的間距均勻性更為敏感。
根據(jù)本發(fā)明一實施例，一種用于調(diào)整介于一腔室體與一升舉板之間的一間距的裝置，至少包含有將被裝設(shè)至該腔室體的一裝設(shè)螺栓的升舉板。該裝設(shè)螺栓包括有一螺栓刻紋表面。一軸襯能夠被固定至該升舉板，并且包括有一軸襯刻紋表面。一調(diào)整螺絲具有第一刻紋表面與第二刻紋表面，其中該第一刻紋表面刻紋地卡合于該裝設(shè)螺栓的該螺栓刻紋表面，該第二刻紋表面刻紋地卡合于該軸襯的該軸襯刻紋表面。當(dāng)該軸襯被固定至該升舉板且該調(diào)整螺絲被旋轉(zhuǎn)時，該些刻紋表面是用以使得該調(diào)整螺絲相對于該裝設(shè)螺栓以第一速率在第一方向移動且該軸襯相對于該調(diào)整螺絲以第二速率在第二方向移動，其中該第二方向是相反于該第一方向且該第二速率是不同于該第一速率。
根據(jù)本發(fā)明另一實施例，一種用于調(diào)整介于一腔室體與一升舉板之間的一間距的方法，該方法至少包含將一裝設(shè)螺栓設(shè)置至該腔室體。該裝設(shè)螺栓包括有一螺栓刻紋表面；該方法更包含提供一調(diào)整螺絲，該調(diào)整螺絲具有第一刻紋表面，其中該第一刻紋表面刻紋地卡合于該裝設(shè)螺栓的該螺栓刻紋表面；提供一軸襯，該軸襯具有一軸襯刻紋表面，其中該軸襯刻紋表面刻紋地卡合于該調(diào)整螺絲的第二刻紋表面；可移動地將該軸襯耦接至該升舉板；以及通過將該調(diào)整螺絲旋轉(zhuǎn)而進行該間距的粗糙調(diào)整，其中該調(diào)整螺絲相對于該裝設(shè)螺栓旋轉(zhuǎn)，而該軸襯是與該調(diào)整螺絲一起旋轉(zhuǎn)。接著，將該軸襯固定至該升舉板。該方法更包含通過將該調(diào)整螺絲旋轉(zhuǎn)而進行該間距的精細調(diào)整，其中該調(diào)整螺絲相對于該裝設(shè)螺栓旋轉(zhuǎn)以將該調(diào)整螺絲相對于該裝設(shè)螺栓以第一速率在第一方向移動，且該調(diào)整螺絲相對于該軸襯旋轉(zhuǎn)以將該軸襯與該升舉板相對于該調(diào)整螺絲以第二速率在第二方向移動，其中該軸襯是固定至該升舉板，而其中該第二方向是相反于該第一方向且該第二速率是不同于該第一速率。


本發(fā)明的前述目的、特征與優(yōu)點將可由前述說明與所伴隨的圖式而更佳了解，其中圖1為根據(jù)本發(fā)明一實施例的一基材支撐件的簡化前視圖，其顯示出一高度調(diào)整機構(gòu)；圖2為圖1的高度調(diào)整機構(gòu)的部分側(cè)視圖，其顯示出用于一測微計的溝槽；圖3為圖1的高度調(diào)整機構(gòu)的部分側(cè)視圖，其顯示出用于量測高度調(diào)整的一測微計的使用；圖4顯示對于一半導(dǎo)體制程中，沉積速率(單位時間的厚度)對基材與面板之間的間距的作圖；圖5顯示對于另一半導(dǎo)體制程中，沉積速率(單位時間的厚度)對基材與面板之間的間距的作圖；圖6為根據(jù)本發(fā)明一實施例的基材支撐件升舉方法的流程圖；圖7為在一實例中形成在基材上的一層次的厚度圖；圖8為根據(jù)本發(fā)明一實施例的一高度調(diào)整裝置的立體圖，其中該高度調(diào)整裝置被裝設(shè)至一升舉板；圖9為圖8的高度調(diào)整裝置的截面圖；圖10為圖8的高度調(diào)整裝置的一調(diào)整螺絲、一軸襯與一裝設(shè)螺栓的截面圖；圖11為圖8的高度調(diào)整裝置以球形墊圈被裝設(shè)至升舉板的立體圖；圖12為圖11所示高度調(diào)整裝置的正視圖；圖13為圖8的高度調(diào)整裝置的立體圖，其顯示出用于將軸襯鎖固至升舉板的一鎖固板；圖14為圖8的高度調(diào)整裝置的立體圖，其顯示出用于將調(diào)整螺絲鎖固至升舉板的一鎖固蓋罩；圖15為圖8的高度調(diào)整裝置的立體圖，其顯示出用于將調(diào)整螺絲鎖固至升舉板的一鎖固蓋罩的另一實施例，其中該鎖固蓋罩具有一鎖固螺帽；以及圖16為一正視圖，其顯示出在圖15的高度調(diào)整裝置中鎖固蓋罩與鎖固螺帽的使用。
主要元件符號說明10基材支撐件12制程腔室13基材14基材支撐件表面16氣體分配構(gòu)件18軸20支撐結(jié)構(gòu)或轂24促動器28托架30升舉板34調(diào)整構(gòu)件36參考表面或底部表面40調(diào)整位置50量測位置54量測裝置58參考表面的末端60鎖固螺帽102形成層次于位于基材支撐件上的基材上104于三量測位置處量測層次厚度106計算三量測位置之間的厚度差異108將兩量測位置與一參考量測位置之間的厚度差異除以沉積時間以獲得沉積速率微分110使用一先前決定的關(guān)聯(lián)因子而將沉積速率微分轉(zhuǎn)換成在兩量測位置處介于基材支撐件與面板之間的間距調(diào)整112對于基材支撐件進行間距調(diào)整以改善將被形成在基材上的層次的均勻性200高度調(diào)整裝置202裝設(shè)螺栓204螺栓刻紋表面206軸襯208軸襯刻紋表面210調(diào)整螺絲212第一刻紋表面214第二刻紋表面222球形墊圈224球形墊圈226開口228放大凹處230固持板或條270鎖固蓋罩272凹槽開口274溝槽280鎖固蓋罩282開口284溝槽286鎖固螺帽具體實施方式
如圖1所示，一基材抓持件或支撐件10是被設(shè)置在一制程腔室12內(nèi)，其中該制程腔室12是用以處理被置放在基材支撐件表面14上的基材13。一氣體分配構(gòu)件16是大致上被設(shè)置成相對于基材支撐表面14，其中該氣體分配構(gòu)件16典型地為具有用以導(dǎo)入氣體的數(shù)個孔洞的一面板?；闹渭?0包括有一軸18，該軸18被支撐在一支撐結(jié)構(gòu)或轂20上且可相對于轂20滑動以調(diào)整基材支撐件表面14與面板16之間的間距。轂20被設(shè)置于腔室12之外。軸18是通過一促動器24而可垂直地移動?；淖コ旨?0的傾斜可以由轂20的傾斜來定義，這是因為其兩者相互連接。轂20連接至一托架28，該托架28是被設(shè)置于一升舉構(gòu)件或升舉板30?；淖コ旨?0的傾斜的調(diào)整是通過調(diào)整升舉板的傾斜來達成。
升舉板30大致上被設(shè)置成平行于基材支撐件表面14。至少兩調(diào)整構(gòu)件34與一連接構(gòu)件(例如一球形軸承)被耦接在介于升舉板30與一參考表面36之間。在所顯示的實施例中，參考表面36為腔室12的底部表面36，但是其可以為相對于面板16被固定住的其他表面。參考表面36可以大致上平行于面板16。調(diào)整構(gòu)件34是在數(shù)個調(diào)整位置40處被連接至升舉板30，其中該些調(diào)整位置40是分布于升舉板30上。調(diào)整構(gòu)件34是可以獨立調(diào)整的以改變在調(diào)整位置40處升舉板30與參考表面36之間的間距。這會接著改變在數(shù)個對應(yīng)調(diào)整位置42處介于基材支撐件表面14與面板16之間的間距，藉此調(diào)整了基材支撐件表面14相對于面板16的傾斜。在圖1實施例中，基材支撐件表面14的對應(yīng)調(diào)整位置42為大致上對齊于升舉板30的調(diào)整位置40，這是因為升舉板30是大致上平行于基材支撐件表面14。在特定實施例中，對應(yīng)調(diào)整位置42相對于基材支撐件表面14中心而均勻地分布于基材支撐件表面14周圍。
如圖2所更詳細顯示者，升舉板30包括有數(shù)個量測位置50以監(jiān)控量測裝置于量測升舉板30與參考表面36之間的間距。如圖2與圖3所示，量測位置50包括有用以裝設(shè)量測裝置54的溝槽，其中該量測裝置54可以為測微計(micrometer)。當(dāng)調(diào)整升舉板30時，測微計54可以暫時地被裝設(shè)在量測位置50，并且在調(diào)整結(jié)束后被移除。典型地，每一量測位置50具有一對應(yīng)量測位置40，并且每一量測位置50被設(shè)置于接近或鄰近于對應(yīng)量測位置40。例如，介于每一量測位置50與對應(yīng)量測位置40之間的距離為實質(zhì)上小于基材13的直徑(例如小于約基材直徑的10％)。在替代實施例中，量測位置50與調(diào)整位置40的數(shù)目與鄰近性可以改變?？梢允褂貌煌牧繙y技術(shù)。
每一調(diào)整構(gòu)件34包括有調(diào)整螺絲，調(diào)整螺絲刻紋地耦接至升舉板30且具有抵頂住制程腔室12的參考表面36的末端58。一突出鎖固螺帽60刻紋地耦接至每一調(diào)整螺絲34，且抵頂住升舉板30的底部表面。另一突出鎖固螺帽62亦可以被提供以刻紋地耦接至調(diào)整螺絲34且抵頂住升舉板30的頂部表面。突出鎖固螺帽較佳地提供了足夠的微調(diào)以達到升舉板30與基材支撐件表面14的傾斜調(diào)整的所希望精確性(例如調(diào)整約4密爾)。一Allren扳手或類似工具可被用以旋轉(zhuǎn)該突出鎖固螺帽以進行調(diào)整。當(dāng)然，其他適當(dāng)?shù)恼{(diào)整機構(gòu)可以被用于替代的實施例中。
實驗已經(jīng)證明層次在一基材13上的沉積速率是與基材13及面板16之間的間距相關(guān)聯(lián)，因此形成在基材13上層次的厚度均勻性可以通過改變基材支撐件表面14的傾斜來調(diào)整，其中基材13停置于該基材支撐件表面14上。圖4與圖5是顯示出兩組試驗的實驗結(jié)果。
在圖4中，改變基材與面板之間的間距而形成BPSG薄膜在基材上。薄膜是使用He、TEOS、TEB、TEPO作為制程氣體于約550℃溫度與約200托耳壓力而被形成。圖4繪制出沉積速率(/min)與間距(mils)的關(guān)系圖。當(dāng)間距增加時，沉積速率降低約27.953/min，其為用以計算出對于特定制程的一關(guān)聯(lián)因子的線的斜率。
在圖5中，改變基材與面板之間的間距而形成BPSG薄膜在基材上。薄膜是使用He、TEOS、TEB、TEPO作為制程氣體于約550℃溫度與約200托耳壓力而被形成。當(dāng)間距增加時，沉積速率降低約23.169/min，其為用以計算出對于特定制程的一關(guān)聯(lián)因子的線的斜率。圖4與圖5的相當(dāng)小差異是歸因于升舉機構(gòu)的可變性、液體流變化、實驗室溫度等等。
根據(jù)沉積速率與基材及面板之間的間距的關(guān)聯(lián)，以下將描述三點計算傾斜程序(three point counter-tilt)以調(diào)成基材支撐件表面的傾斜而改善均勻性，其中該關(guān)聯(lián)是被建立用于牽涉的特定形式制程。如圖6的流程圖100所示，在將基材支撐件定位于距離面板的一所希望間距之后，一層次形成于基材上(步驟102)。在步驟104，量測層次厚度，其可以在原位完成。圖7顯示一厚度圖90的范例，該厚度圖具有49個點以產(chǎn)生在基材上該層次的一厚度曲線?；纳先c92、94、96在位置上對應(yīng)于升舉板30上的三量測位置50以使用圖3中測微計54來量測間距。該三點92、94、96典型地為接近基材邊緣，且角度上相對于基材中心而大致上均勻地相隔開。例如，該三點92、94、96相對于基材中心隔開約120°，且每一者距離基材邊緣有小于基材半徑的10％的距離。
請參閱圖6，下一步驟106是計算該三點間的厚度差異。例如，點92是被選作為一參考位置，且計算參考點92與在剩下位置的其他點94、96之間的厚度差異。在步驟108，厚度差異(點94與92之間及點96與92之間)通過沉積時間被分割以獲得參考點92與剩下點94、96之間的沉積速率微分。一先前決定的關(guān)聯(lián)因子接著被用來將沉積速率微分轉(zhuǎn)換成在剩下點94、96處之間距調(diào)整以改善均勻性(步驟110)。如果在剩下點的厚度大于在參考點92的厚度的話，則間距調(diào)整為正的以增加在剩下點處的基材支撐件與面板之間的間距。相反地，如果在剩下點的厚度小于在參考點92的厚度的話，則間距調(diào)整為負的以減少在剩下點處的基材支撐件與面板之間的間距。在步驟112，進行間距調(diào)整，且校正基材支撐件以對于所選擇特定制程來形成改善均勻性的層次。
關(guān)聯(lián)因子正比于沉積速率對間距作圖(如圖4與圖5)的斜率。亦即，關(guān)聯(lián)因子正比于間距改變除以層次沉積厚度速率的比值。典型地，關(guān)聯(lián)因子將不等于斜率，但是將必須被修正以解釋三點計算傾斜程序與間距調(diào)整之間的差異。為了獲得圖，基材向上或向下移動而不傾斜。然而，在三點計算傾斜程序中，在剩下點的其一者的間距相對于參考點被調(diào)整以將基材傾斜。因此，關(guān)聯(lián)因子將等于一關(guān)聯(lián)因子或常數(shù)乘以圖斜率，其可以通過進行許多實驗而經(jīng)驗性決定以獲得關(guān)聯(lián)因子而達到薄膜厚度均勻性。
不同實驗被進行以確定三點計算傾斜程序的重復(fù)性，以達到改善對于特定半導(dǎo)體制程形成在基材上層次的厚度均勻性。
圖8與圖9顯示出用于在一特定位置處調(diào)整腔室體12與升舉板30之間的間距的一高度調(diào)整裝置200。高度調(diào)整裝置200提供了對于基材支撐件的高解析升舉的粗糙的與精細的調(diào)整。高度調(diào)整裝置200能夠根據(jù)本發(fā)明升舉方案而被使用于任何至少兩高度調(diào)整位置中。在一特定實施例中，兩高度調(diào)整裝置200被用于兩位置處，且具有一連接構(gòu)件(例如一球形耦接件)的一相當(dāng)簡單的附件被提供在第三位置處。
高度調(diào)整裝置200包括有例如通過與腔室體12的一刻紋連接而設(shè)置在腔室體12的一裝設(shè)螺栓202。裝設(shè)螺栓202具有一螺栓刻紋表面204?？杀还潭ㄖ辽e板30的一軸襯206包括有一軸襯刻紋表面208。一調(diào)整螺絲210具有刻紋地與螺栓刻紋表面204卡合的第一刻紋表面212，以及刻紋地與軸襯刻紋表面208卡合的第二刻紋表面214。在第8-10圖所顯示的實施例中，螺栓刻紋表面204為裝設(shè)螺栓202的一外表面，軸襯刻紋表面208為軸襯206的一內(nèi)表面，第一刻紋表面212為調(diào)整螺絲210的一凹處中的一內(nèi)表面，并且第二刻紋表面214為調(diào)整螺絲210的一外表面。一對球形墊圈222、224被設(shè)置在介于軸襯206與升舉板30之間，如第9、11、12圖中所示。
當(dāng)組裝時，調(diào)整螺絲210延伸穿過升舉板30的一開口226，其中該升舉板30包括一放大凹處228以接收軸襯206與球形墊圈222、224，如圖9所示。一鎖固蓋罩270壓迫球形墊圈222、224與軸襯206而抵住升舉板30，并且調(diào)整螺絲刻紋地與軸襯206卡合且相對于軸襯206及升舉板30為可移動的。對于粗糙的調(diào)整，調(diào)整螺絲相對于裝設(shè)螺栓202被旋轉(zhuǎn)，并且軸襯206是與螺絲210移動。移動速率是由螺紋或每吋螺紋的轉(zhuǎn)圈所決定，其中該螺紋是介于調(diào)整螺絲210的第一刻紋表面212與裝設(shè)螺栓202的螺栓刻紋表面204之間的連接。在一實例中，刻紋連接每吋具有24螺紋，且移動速率為調(diào)整螺絲210相對于裝設(shè)螺栓202的每一旋轉(zhuǎn)為1/24吋。
在粗糙調(diào)整使得升舉板能距離腔室體12在一所希望范圍的間距內(nèi)之后，即進行精細調(diào)整。為了預(yù)備調(diào)整裝置以用于精細調(diào)整，軸襯206被鎖固至升舉板30?？梢允褂萌魏芜m當(dāng)?shù)逆i固機構(gòu)。在圖13中，一固持構(gòu)件(例如一固持板或條230)是接附至升舉板30的側(cè)面以在軸襯206內(nèi)鎖固至升舉板30。固持構(gòu)件230抵頂住軸襯206的一平坦表面，用以避免其相對于升舉板30旋轉(zhuǎn)，且避免升舉板30相對于調(diào)整螺絲210的側(cè)至側(cè)移動。固持構(gòu)件230可以通過固定件(例如螺絲)而接附至升舉板30。
由于調(diào)整螺絲210刻紋地耦接至裝設(shè)螺栓202與軸襯206且被裝設(shè)在至升舉板30(如圖9與圖13所示)，則可以達到升舉板30相對于腔室體12的精細調(diào)整(通過利用鎖固蓋罩270或類似構(gòu)件)。當(dāng)調(diào)整螺絲210旋轉(zhuǎn)時(例如順時鐘方向)，調(diào)整螺絲210經(jīng)由介于調(diào)整螺絲210的第一刻紋表面212與裝設(shè)螺栓202的螺栓刻紋表面204之間的刻紋連接，而相對于裝設(shè)螺栓202在第一方向移動(例如圖9中的向上方向)。同時，軸襯206與升舉板30經(jīng)由調(diào)整螺絲210的第二刻紋表面214與軸襯206的軸襯刻紋表面208之間的刻紋連接，而相對于調(diào)整螺絲20在第二方向移動(例如向下方向)，其中第二方向是相反于第一方向。調(diào)整螺絲210相對于裝設(shè)螺栓202以第一速率(例如對于每吋24螺紋的一刻紋連接為每轉(zhuǎn)1/24吋)在第一方向移動。軸襯206與升舉板30相對于調(diào)整螺絲210以第二速率在第二方向移動。在實例中，調(diào)整螺絲210與軸襯206之間的刻紋連接每吋具有28螺紋，使得移動于每轉(zhuǎn)1/28吋的第二速率。移動的凈速率為第一速率與第二速率的差異，即每轉(zhuǎn)1/24-1/28吋，為每轉(zhuǎn)0.006吋在第一方向移動(向上方向)。移動于相反方向可以通過將調(diào)整螺絲210旋轉(zhuǎn)于相反方向(例如逆時鐘方向)來達到。該兩刻紋連接的高解析度移動可以使升舉板30相對于腔室體12精細調(diào)整。球形墊圈222、224補足了升舉板30相對于腔室體12的任何不當(dāng)對準。
在所希望的精細調(diào)整完成后，高度調(diào)整裝置200則被鎖固于固定位置?？梢允褂迷S多適當(dāng)?shù)逆i固機構(gòu)。第8、9、14圖顯示了鎖固蓋罩270的使用，其中該鎖固蓋罩270是耦接于調(diào)整螺絲210與升舉板30。鎖固蓋罩270包括有一凹槽開口272，其中該凹槽開口272是卡合或緊密配合于調(diào)整螺絲210之外表面。鎖固蓋罩270更包括有一對溝槽274，固定件可以被使用而穿過溝槽274以將鎖固蓋罩270固定至升舉板30。這樣的一鎖固機構(gòu)將調(diào)整螺絲210鎖固至升舉板30，且避免了調(diào)整螺絲210相對于升舉板30的旋轉(zhuǎn)。在圖15與圖16所顯示的另一實施例中，鎖固蓋罩280具有一開口282與一對溝槽284，其中該開口282沒有緊密地配合于調(diào)整螺絲210周圍(例如一圓形開口)。鎖固蓋罩280被設(shè)置在軸襯206與升舉板30的一側(cè)上，且一鎖固螺帽286被設(shè)置在軸襯206與升舉板30的另一相反側(cè)上。鎖固蓋罩280自一側(cè)將軸襯206抵頂住升舉板30，且鎖固螺帽286刻紋地耦接于調(diào)整螺絲210以自相反側(cè)刻紋地抵頂住升舉板30，藉此將軸襯206與調(diào)整螺絲210鎖固抵住升舉板30而避免調(diào)整螺絲210旋轉(zhuǎn)。
前述設(shè)備與方法僅是為了說明本發(fā)明原理與其他實施例之用，在不脫離權(quán)利要求所定義的本發(fā)明精神與范圍下是可以進行變更的。例如，調(diào)整螺絲與裝設(shè)螺栓上的刻紋表面可以被建構(gòu)成在不同的內(nèi)表面與外表面為不同的。因此，本發(fā)明范圍不應(yīng)該通過參照前述說明而來決定，而是應(yīng)該參照權(quán)利要求與其均等物范圍而加以決定。
權(quán)利要求
1.一種用于調(diào)整介于一腔室體與一升舉板之間的一間距的裝置，該裝置至少包含一裝設(shè)螺栓，被建構(gòu)以被裝設(shè)至該腔室體，該裝設(shè)螺栓包括有一螺栓刻紋表面；一軸襯，能夠被固定至該升舉板，該軸襯包括有一軸襯刻紋表面；一調(diào)整螺絲，具有第一刻紋表面與第二刻紋表面，其中該第一刻紋表面刻紋地卡合于該裝設(shè)螺栓的該螺栓刻紋表面，該第二刻紋表面刻紋地卡合于該軸襯的該軸襯刻紋表面；其中當(dāng)該軸襯被固定至該升舉板且該調(diào)整螺絲被旋轉(zhuǎn)時，該些刻紋表面是用以使得該調(diào)整螺絲相對于該裝設(shè)螺栓以第一速率在第一方向移動且該軸襯相對于該調(diào)整螺絲以第二速率在第二方向移動，其中該第二方向是相反于該第一方向且該第二速率是不同于該第一速率。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該螺栓刻紋表面為該裝設(shè)螺栓的一外表面。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其中該第一刻紋表面為該調(diào)整螺絲的一凹處內(nèi)的一內(nèi)表面。
4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其中該第二刻紋表面為該調(diào)整螺絲的一外表面。
5.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該調(diào)整螺絲的該第一刻紋表面與該裝設(shè)螺栓的該螺栓刻紋表面是在該調(diào)整螺絲的每轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)時的第一速率下而互相相對地移動，其中該調(diào)整螺絲的該第二刻紋表面與該軸襯的該軸襯刻紋表面是在該調(diào)整螺絲的每轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)時的第二速率下而互相相對地移動，且其中該第一速率是高于該第二速率。
6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該調(diào)整螺絲是延伸穿越該升舉板中的一開口，且其中該軸襯能夠通過裝設(shè)至該升舉板的一固持構(gòu)件而被固定至該升舉板且將該軸襯抵頂住該升舉板以避免該軸襯相對于該升舉板旋轉(zhuǎn)。
7.如權(quán)利要求6所述的裝置，該裝置更包含球形墊圈，該些球形墊圈設(shè)置在介于該軸襯與該升舉板之間。
8.如權(quán)利要求1所述的裝置，該裝置更包含一鎖固機構(gòu)，該鎖固機構(gòu)是用以將該調(diào)整螺絲鎖固至該升舉板，用以避免該調(diào)整螺絲相對于該升舉板旋轉(zhuǎn)。
9.如權(quán)利要求8所述的裝置，其中該鎖固機構(gòu)至少包含一鎖固蓋罩，該鎖固蓋罩是緊密地配置在該調(diào)整螺絲的一外表面上且接附至該升舉板，用以避免該調(diào)整螺絲相對于該升舉板旋轉(zhuǎn)。
10.如權(quán)利要求8所述的裝置，其中該鎖固機構(gòu)至少包含一鎖固板與一鎖固螺帽，其中該鎖固板是位于該軸襯與該升舉板的一側(cè)上且該鎖固螺帽是位于該軸襯與該升舉板的一相反側(cè)上，該鎖固板自該一側(cè)接附至該升舉板且將該軸襯抵頂住該升舉板，并且該鎖固螺帽刻紋地耦接于該調(diào)整螺絲以自該相反側(cè)刻紋地抵頂住該升舉板藉此將該軸襯與該調(diào)整螺絲鎖固抵頂住該升舉板。
11.一種用于調(diào)整介于一腔室體與一升舉板之間的一間距的裝置，該裝置至少包含一裝設(shè)螺栓，被建構(gòu)以被裝設(shè)至該腔室體，該裝設(shè)螺栓包括有一螺栓刻紋表面；一軸襯，包括有一軸襯刻紋表面；用以可釋放地將該軸襯固定至該升舉板的機制一調(diào)整螺絲，具有第一刻紋表面與第二刻紋表面，其中該第一刻紋表面刻紋地卡合于該裝設(shè)螺栓的該螺栓刻紋表面，該第二刻紋表面刻紋地卡合于該軸襯的該軸襯刻紋表面；其中當(dāng)該軸襯被固定至該升舉板且該調(diào)整螺絲被旋轉(zhuǎn)時，該些刻紋表面是用以使得該調(diào)整螺絲相對于該裝設(shè)螺栓以第一速率在第一方向移動且該軸襯相對于該調(diào)整螺絲以第二速率在第二方向移動，其中該第二方向是相反于該第一方向且該第二速率是不同于該第一速率。
12.如權(quán)利要求10所述的裝置，該裝置更包含用以將該調(diào)整螺絲鎖固至該升舉板以避免該調(diào)整螺絲相對于該升舉板旋轉(zhuǎn)的機制。
13.一種用于調(diào)整介于一升舉板與一腔室體之間的一間距的方法，該方法至少包含將一裝設(shè)螺栓設(shè)置至該腔室體，該裝設(shè)螺栓包括有一螺栓刻紋表面；提供一調(diào)整螺絲，該調(diào)整螺絲具有第一刻紋表面，其中該第一刻紋表面刻紋地卡合于該裝設(shè)螺栓的該螺栓刻紋表面；提供一軸襯，該軸襯具有一軸襯刻紋表面，其中該軸襯刻紋表面刻紋地卡合于該調(diào)整螺絲的第二刻紋表面；可移動地將該軸襯耦接至該升舉板；通過將該調(diào)整螺絲旋轉(zhuǎn)而進行該升舉板與該腔室體之間的該間距的粗糙調(diào)整，其中該調(diào)整螺絲相對于該裝設(shè)螺栓旋轉(zhuǎn)，而該軸襯是與該調(diào)整螺絲一起旋轉(zhuǎn)；將該軸襯固定至該升舉板；以及通過將該調(diào)整螺絲旋轉(zhuǎn)而進行該升舉板與該腔室體之間的該間距的精細調(diào)整，其中該調(diào)整螺絲相對于該裝設(shè)螺栓旋轉(zhuǎn)以將該調(diào)整螺絲相對于該裝設(shè)螺栓以第一速率在第一方向移動，且該調(diào)整螺絲相對于該軸襯旋轉(zhuǎn)以將該軸襯與該升舉板相對于該調(diào)整螺絲以第二速率在第二方向移動，其中該軸襯是固定至該升舉板，而其中該第二方向是相反于該第一方向且該第二速率是不同于該第一速率。
14.如權(quán)利要求13所述的方法，其中該調(diào)整螺絲的該第一刻紋表面為該調(diào)整螺絲的一凹處內(nèi)的一內(nèi)表面，該螺栓刻紋表面為該裝設(shè)螺栓的一外表面，其中該第一刻紋表面刻紋地卡合于該該螺栓刻紋表面。
15.如權(quán)利要求13所述的方法，其中該調(diào)整螺絲的該第二刻紋表面為一外表面，該軸襯刻紋表面為該軸襯的一內(nèi)表面，其中該第二刻紋表面刻紋地卡合于該軸襯刻紋表面。
16.如權(quán)利要求13所述的方法，其中該調(diào)整螺絲的該第一刻紋表面為與該裝設(shè)螺栓的該螺栓刻紋表面是在該調(diào)整螺絲的每轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)時的第一速率下而互相相對地移動，其中該調(diào)整螺絲的該第二刻紋表面與該軸襯的該軸襯刻紋表面是在該調(diào)整螺絲的每轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)時的第二速率下而互相相對地移動，且其中該第一速率是高于該第二速率。
17.如權(quán)利要求13所述的方法，其中將該軸襯固定至該升舉板至少包含將一固持構(gòu)件接附至該升舉板，以將該軸襯抵頂住該升舉板，用以避免該軸襯相對于該升舉板旋轉(zhuǎn)。
18.如權(quán)利要求13所述的方法，其中可移動地將該軸襯耦接至該升舉板至少包含置放球形墊圈于介于該軸襯與該升舉板之間。
19.如權(quán)利要求13所述的方法，該方法更包含將該調(diào)整螺絲鎖固至該升舉板，以在進行該升舉板與該腔室體之間的間距的精細調(diào)整之后避免該調(diào)整螺絲相對于該升舉板旋轉(zhuǎn)。
20.如權(quán)利要求19所述的方法，其中將該調(diào)整螺絲鎖固至該升舉板至少包含將一鎖固蓋罩接附至該升舉板與自該升舉板的一側(cè)將該軸襯抵頂住該升舉板，以及將該鎖固螺帽刻紋地耦接于該調(diào)整螺絲以自該升舉板的一相反側(cè)刻紋地抵頂住該升舉板藉此將該軸襯與該調(diào)整螺絲鎖固抵頂住該升舉板。
全文摘要
一種用于調(diào)整介于一腔室體與一升舉板之間的一間距的裝置，至少包含有將被裝設(shè)至該腔室體的一裝設(shè)螺栓的升舉板。該裝設(shè)螺栓包括有一螺栓刻紋表面。一軸襯能夠被固定至該升舉板，并且包括有一軸襯刻紋表面。一調(diào)整螺絲具有第一刻紋表面與第二刻紋表面，其中該第一刻紋表面刻紋地卡合于該裝設(shè)螺栓的該螺栓刻紋表面，該第二刻紋表面刻紋地卡合于該軸襯的該軸襯刻紋表面。當(dāng)該軸襯被固定至該升舉板且該調(diào)整螺絲被旋轉(zhuǎn)時，該些刻紋表面是用以使得該調(diào)整螺絲相對于該裝設(shè)螺栓以第一速率在第一方向移動且該軸襯相對于該調(diào)整螺絲以第二速率在第二方向移動，其中該第二方向是相反于該第一方向且該第二速率是不同于該第一速率。
文檔編號C23C16/458GK101065512SQ200580040817
公開日2007年10月31日 申請日期2005年11月18日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月29日
發(fā)明者基比·弗勞德 申請人:應(yīng)用材料股份有限公司