專利名稱：真空輻射式加熱器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型是一種可用于真空蒸發(fā)、濺射鍍膜的加熱器。
背景技術(shù)：
在真空鍍膜過程中，對粉末狀有機物及有機金屬鰲合物(如Znq2)等材料蒸發(fā)時，目前通常是將鎢絲纏繞在燒杯上做蒸發(fā)加熱源或者用鉬舟做蒸發(fā)加熱源容器。在實際操作中，以上兩種方法遇到了這樣的困難前者由于燒杯的導熱性差，用鎢絲直接纏繞加熱時燒杯容易破碎，同時燒杯口徑大，每次蒸發(fā)到樣片上的材料不到30％；后者由于鉬舟直接接觸粉末狀材料，在高真空下材料會進濺出鉬舟，附著在樣片表面，不能形成理想的薄膜。
此外，傳統(tǒng)的真空鍍膜設備，在進行濺射后需要將樣片取出放入擴散爐再進行炭化、退火、氧化等處理，有很大的局限性。為解決這個問題，近年來生產(chǎn)的多功能真空鍍膜機，在濺射時用電爐絲繞組在爐盤上對樣片進行處理，但陶瓷爐盤中的微孔會釋放出雜質(zhì)，使樣片受到污染，而且溫度升高慢。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型提供了一種真空輻射式加熱器，它能有效地防止真空蒸發(fā)鍍膜時，被加熱粉末狀材料的進濺，用口徑小且不易碎的坩堝代替燒杯做源容器，提高了材料的利用率；而且可在真空濺射的同時對樣片進行炭化、退火、氧化等處理。
本實用新型是這樣實現(xiàn)的它由托盤、加熱管和蓋板三部分組成，托盤呈圓柱形，由厚度為2.5mm的不銹鋼板車削制成，在托盤下底中心鉆有測溫孔，托盤內(nèi)置加熱管，上置蓋板；加熱管是提供輻射式加熱的熱源，呈環(huán)形，外殼為石英制品，內(nèi)置鎢絲；蓋板中心開一圓孔，其直徑不大于環(huán)形加熱管的直徑，在蒸發(fā)時用來放置源容器，圓孔四周固定有四只鋼夾，在濺射時用來固定樣片。
本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，易于操作，不僅改進了真空鍍膜設備蒸發(fā)濺射的功能，而且能耐高溫，不變形，不釋放氣體雜質(zhì)分子，溫度可在室溫至950℃之間任意調(diào)節(jié)控制，能夠廣泛應用于高真空下蒸發(fā)、濺射等薄膜的制備。


圖1是該真空輻射式加熱器的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是該真空輻射式加熱器用于真空蒸發(fā)時的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是該真空輻射式加熱器用于真空濺射時的結(jié)構(gòu)示意圖。
各組件與其編號的對應是托盤-(1)，支腳-(10)，測溫孔-(11)，電源接頭架-(12)，定位槽-(14)；加熱管-(2)，鎢絲-(21)，鋼絲-(22)，電源接頭-(23)；蓋板-(3)，圓孔-(3 1)，鋼夾-(32)，定位桿-(33)；源容器-(4)；樣片-(5)。
具體實施方式

以下結(jié)合附圖對本實用新型的實施方式給予詳細說明。
該真空輻射式加熱器的主體包括托盤(1)、加熱管(2)和蓋板(3)三部分，托盤(1)由三個支腳(10)支撐，內(nèi)置加熱管(2)，上置蓋板(3)，其三支定位桿(33)分別嵌入對應的三個定位槽(14)中，與加熱管相連的電源接頭(23)正放于電源接頭架(12)上。
托盤(1)可視為本真空輻射式加熱器的外罩，當加熱器工作時，在高真空環(huán)境中處于高溫(從測溫孔(11)可測得其溫度)狀態(tài)，要求外罩在此環(huán)境中保持結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定，同時要對溫度有良好的性質(zhì)。在本實施例中，它用厚度為2.5mm的不銹鋼板車削制成，不僅能耐高溫，不變形，適合于高真空高溫的環(huán)境，而且溫度均勻，升溫降溫快，有利于對溫度的控制。
置于托盤(1)內(nèi)部的加熱管(2)作為發(fā)熱源，內(nèi)置鎢絲(21)，由電源接頭(23)和加熱電源相連通。為了防止在通電加熱時，鎢絲(21)因發(fā)熱而變軟在重力的作用下會附著在加熱管(2)內(nèi)壁，造成加熱管(2)破裂，在本實施例中采用四個呈螺旋狀的鋼絲(22)固定支撐鎢絲(21)，由于鋼絲(22)細且高溫下有很強的硬度和韌性，因此是支撐固定鎢絲(21)的理想選擇。加熱管(2)制成環(huán)形，其外殼材料選用石英，這是因為環(huán)形輻射式加熱溫度均勻，石英能耐高溫，這樣溫度不僅可以在室溫至950℃之間任意調(diào)節(jié)而且達到所需溫度后容易保持恒溫。這在薄膜的生長和樣片的處理過程中是非常關(guān)鍵的。
蓋板(3)置于托盤(1)的上方，在它的中心開有直徑不大于環(huán)形加熱管(2)直徑的圓孔(31)，其功能是在蒸發(fā)時用來放置源容器(4)；在圓孔(31)的四周固定有四只鋼夾(32)，功能是在濺射時用來固定樣片(5)。在本實施例中，蓋板(3)用不銹鋼材料制成，因為其導熱性好，有利于提高溫度；在蓋板(3)下表面有三支定位桿(33)，其置于托盤(1)上時每支定位桿(33)嵌入對應的定位槽(14)中而被其卡住，這樣，蓋板(3)和托盤(1)成為一個牢固的整體，利用托盤(1)底部的三個支腳(10)可將該真空輻射式加熱器平放于支撐面上。
權(quán)利要求1.一種真空輻射式加熱器，包括托盤、加熱管和蓋板，其特征在于托盤底面中心鉆有測溫孔，托盤內(nèi)置加熱管，上置蓋板；加熱管呈環(huán)形，內(nèi)置鎢絲；蓋板中心開有圓孔，在圓孔四周固定有四只鋼夾。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空輻射式加熱器，其特征是托盤(1)和蓋板(3)為不銹鋼制品，加熱管(2)外殼為石英制品。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空輻射式加熱器，其特征是蓋板中心的圓孔(31)直徑不大于環(huán)形加熱管(2)的直徑。
專利摘要本實用新型是一種可用于真空蒸發(fā)、濺射鍍膜的加熱器。本實用新型能有效地防止真空蒸發(fā)鍍膜時被加熱粉末狀材料的進濺，提高了材料的利用率，且可以在真空濺射的同時對樣片進行炭化、退火、氧化等處理，溫度可在室溫至950℃之間任意調(diào)節(jié)控制。它由托盤、加熱管和蓋板三部分組成托盤呈圓柱形，在其下底中心鉆有測溫孔，托盤內(nèi)置加熱管，上置蓋板；加熱管是提供輻射式加熱的熱源，呈環(huán)形，外殼為石英制品，內(nèi)置鎢絲；蓋板中心開一圓孔，在蒸發(fā)時用來放置源容器，圓孔四周固定四只鋼夾，在濺射時用來固定樣片。本實用新型能夠廣泛應用于高真空下蒸發(fā)、濺射等薄膜的制備。
文檔編號C23C14/22GK2695449SQ200420051279
公開日2005年4月27日 申請日期2004年5月22日 優(yōu)先權(quán)日2004年5月22日
發(fā)明者宋長安, 溫振超, 孫志文, 時軍朋 申請人:溫振超, 孫志文, 時軍朋