本發(fā)明涉及包覆切削工具。本申請(qǐng)基于2022年6月27日在日本申請(qǐng)的專利申請(qǐng)2022-102962號(hào)要求優(yōu)先權(quán)，并將其內(nèi)容援用于此。

背景技術(shù)：

1、以往，作為提高切削工具的壽命的技術(shù)，采用將由各種陶瓷構(gòu)成的硬質(zhì)皮膜包覆在切削工具的表面上的表面處理技術(shù)。在硬質(zhì)皮膜中，鋁(al)和鈦(ti)的氮化物皮膜由于耐磨損性和耐熱性優(yōu)異而被廣泛應(yīng)用。另外，還提出了以al和ti為主體含有其他金屬元素的氮化物皮膜。例如，在引用文獻(xiàn)1中公開了設(shè)置有含鎢(w)元素的altiw氮化物皮膜的包覆切削工具。

2、專利文獻(xiàn)1：國(guó)際公開第2014/157688號(hào)

3、根據(jù)本發(fā)明人的研究，對(duì)于以往提出的設(shè)置有以al和ti為主體的氮化物皮膜的包覆切削工具，確認(rèn)了耐久性有改善的余地。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的一方案為一種包覆切削工具，具備基材和形成在所述基材上的硬質(zhì)皮膜，

2、所述硬質(zhì)皮膜為氮化物，在所述氮化物中，相對(duì)于金屬(包括半金屬)元素的總量，含有60原子％以上且70原子％以下的al、20原子％以上且40原子％以下的ti、1原子％以上且10原子％以下的選自w、cr、ta、nb、zr、mo和v中的一種以上，并且相對(duì)于金屬(包括半金屬)元素、氮元素和ar元素的總量，含有0.01原子％以上且0.15原子％以下的ar，

3、所述硬質(zhì)皮膜的晶體結(jié)構(gòu)為面心立方晶格結(jié)構(gòu)，所述硬質(zhì)皮膜的(111)面的x射線衍射峰的半峰寬為0.75°以上且0.95°以下。

4、所述硬質(zhì)皮膜的(111)面的x射線衍射峰的半峰寬優(yōu)選為0.78°以上且0.95°以下。

5、所述硬質(zhì)皮膜優(yōu)選在使用透射型電子顯微鏡的選區(qū)電子衍射圖案的強(qiáng)度分布中，不具有與密排六方填充結(jié)構(gòu)的aln對(duì)應(yīng)的衍射峰強(qiáng)度。

6、根據(jù)本發(fā)明，可提供耐久性優(yōu)異的包覆切削工具。

技術(shù)特征：

1.一種包覆切削工具，其特征在于，具備基材和形成在所述基材上的硬質(zhì)皮膜，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的包覆切削工具，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的包覆切削工具，其特征在于，

技術(shù)總結(jié)
實(shí)施方式的包覆切削工具具備基材和形成在基材上的硬質(zhì)皮膜。硬質(zhì)皮膜為氮化物，在該氮化物中，相對(duì)于金屬(包括半金屬)元素的總量，含有60原子％以上且70原子％以下的Al、20原子％以上且40原子％以下的Ti、1原子％以上且10原子％以下的選自W、Cr、Ta、Nb、Zr、Mo和V中的一種以上，并且相對(duì)于金屬(包括半金屬)元素、氮元素和Ar元素的總量，含有0.01原子％以上且0.15原子％以下的Ar。硬質(zhì)皮膜的晶體結(jié)構(gòu)為面心立方晶格結(jié)構(gòu)，硬質(zhì)皮膜的(111)面的X射線衍射峰的半峰寬為0.75°以上且0.95°以下。

技術(shù)研發(fā)人員：伊坂正和,佐佐木智也,府玻亮太郎
受保護(hù)的技術(shù)使用者：株式會(huì)社MOLDINO
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9