專利名稱：一種雙線圈成形機的成形機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及印刷裝訂機械領(lǐng)域，特別是一種雙線圏全自動高 速成形纟幾的成形才幾構(gòu)。
背景技術(shù)：
臺歷、掛歷、書本等活頁多通過雙線圏進行裝訂，這種雙線圏主 視方向為梳齒形狀，大齒和小齒對稱分布于左右兩側(cè)，雙線圖的截面為c形狀，裝配上活頁裝訂好之后雙線圏的截面受壓變成大致的o形狀，雙線圏上的活頁可360。自如翻轉(zhuǎn)，也可180°平鋪在桌面上觀 看和寫作，相當(dāng)實用?，F(xiàn)有的一種雙線圈成形機，由依次固定在機架上的導(dǎo)線機構(gòu)、繞 線才幾構(gòu)、整直^/L構(gòu)、送線機構(gòu)和成形才幾構(gòu)組成，實際生產(chǎn)中，冷4立絲 先經(jīng)過導(dǎo)線機構(gòu)整形，然后被繞線機構(gòu)和整直機構(gòu)加工成梳齒狀的線 排，再送至成形模加工成C形雙線圏，最終得到雙線圏成品。這種成型模包括上下設(shè)置的凸模和凹模，凸模上設(shè)有C形圓弧面， 凹模上對應(yīng)設(shè)置有C形模腔，線排置于凸模和凹模之間，凹模和凸模 合攏時對線排施力使之成為大致的C形，當(dāng)凹模和凸模施力過小時， 線排不能充分成形，凹模和凸模施力過大則容易損傷絲線，導(dǎo)致成品 率降低，因而實用性有待提高。實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種能充分成形且不易傷線的雙線圏 成形機的成形機構(gòu)。本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是 一種雙線圏成 形機的成形機構(gòu)，包括大致成C形截面的下模、設(shè)置在下模正上方的 上模、以及分別設(shè)置在上模左右兩側(cè)可上下移動的成型模塊，所述的 兩成型模塊之間的距離與下模的寬度匹配，成型模塊底部朝向下模一側(cè)為圓弧形。作為改進，所述下模中間設(shè)置有穿透槽，穿透槽內(nèi)置送線齒輪， 傳送齒輪頂端高于下模上端面。作為更進一步的改進，所述穿透槽有兩個，分別設(shè)置在下模的頭 部和尾部。本實用新型的有益效果是當(dāng)線排位于下模上時，上模下降將其 固定住，兩側(cè)的成型模塊向下行走，對線排施力，成型模塊行走到最 底端時線排被折彎，相較凹凸模能充分成形，由于成型模塊底部為圓 弧形，下模左右兩側(cè)也為圓弧形，線排兩端延伸出下模的部分受到的 是其法線方向的力，施力過大時也不易傷線，實用性大大增強。


圖l是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是應(yīng)用本實用新型的雙線圏成型機的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式

以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進一步描述參照圖1和圖2, —種雙線圏成形才幾的成形機構(gòu)，包括大致成C形截面的下模6、設(shè)置在下模6正上方的上模9、以及分別設(shè)置在上模9左右兩側(cè)可上下移動的成型模塊8，所述的兩成型模塊8之間的距離與下模6的寬度匹配，成型模塊8底部朝向下模一側(cè)為圓弧形。實際生產(chǎn)中，絲線依次繞過軸向分別為X、 Y和Z方向的多個導(dǎo) 一侖，然后進入垂直布置的兩組整直系統(tǒng)，然后進入繞線整直^U勾加工 成梳齒狀線排，再進行成形。當(dāng)線排位于下模6上時，上模9下降將其固定住，兩側(cè)的成型模塊8向下行走，對線排施力，成型模塊8行走到最底端時線排被折彎， 相較凹凸模能充分成形，由于成型模塊8底部為圓弧形，下模6左右兩側(cè)也為圓弧形，線排兩端延伸出下模6的部分受到的是其法線方向的力，施力過大時也不易傷線，實用性大大增強。作為本實用新型的一種改進，下模9中間設(shè)置有穿透槽，穿透槽 內(nèi)置送線齒輪7，傳送齒輪7頂端高于下模上端面，線排置于下模9 上時，傳送齒輪7轉(zhuǎn)動時其條齒便可帶動線排行走。作為本實用新型更進一步的改進，所述穿透槽有兩個，分別設(shè)置在下模9的頭部和尾部，頭部傳送齒輪7轉(zhuǎn)動時將線排送到上模6下方成形，成形完畢后尾部的傳送齒輪7轉(zhuǎn)動將線排送走。上述只是本實用新型優(yōu)選的實施方式，但不應(yīng)構(gòu)成對本實用新型 的限制，只要是采用與本實用新型等同的技術(shù)方案，也應(yīng)當(dāng)在本發(fā)明 創(chuàng)造的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1. 一種雙線圏成形機的成形機構(gòu)，其特征在于包括大致成C形截 面的下模、設(shè)置在下模正上方的上模、以及分別設(shè)置在上模左右兩側(cè)可 上下移動的成型模塊，所述的兩成型模塊之間的距離與下模的截面寬度 匹配，成型模塊底部朝向下模一側(cè)為圓弧形。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的成形機構(gòu)，其特征在于，所述下模中間設(shè) 置有穿透槽，穿透槽內(nèi)置送線齒輪，傳送齒輪頂端高于下模上端面。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的成形機構(gòu)，其特征在于，所述穿透槽有兩 個，分別設(shè)置在下模的頭部和尾部。
專利摘要本實用新型公開了一種雙線圈成形機的成形機構(gòu)，包括大致成C形截面的下模、設(shè)置在下模正上方的上模、以及分別設(shè)置在上模左右兩側(cè)可上下移動的成型模塊，所述的兩成型模塊之間的距離與下模的寬度匹配，成型模塊底部朝向下模一側(cè)為圓弧形；當(dāng)線排位于下模上時，上模下降將其固定住，兩側(cè)的成型模塊向下行走，對線排施力，成型模塊行走到最底端時線排被折彎，相較凹凸模能充分成形，由于成型模塊底部為圓弧形，下模左右兩側(cè)也為圓弧形，線排兩端延伸出下模的部分受到的是其法線方向的力，施力過大時也不易傷線，實用性大大增強。
文檔編號B21F45/00GK201154381SQ20082004326
公開日2008年11月26日 申請日期2008年1月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月25日
發(fā)明者晏良鋒 申請人:晏良鋒