專利名稱：浮動式雙軸同動機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及激光修補機，特別是有關(guān)于一種用于激光修補機的浮動式 雙軸同動機構(gòu)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)的用于激光修補機的輸送機構(gòu)，其具有一平臺、 一承臺以及 二位移裝置；該等位移裝置分別位于該承臺兩端底側(cè)且設(shè)于該平臺與該承 臺之間；通過此，該承臺透過該等位移裝置同步帶動，以達(dá)到沿一X軸方 向位移的目的。然而，由于該承臺可能因重量分布不平均而有重心偏移的現(xiàn)象，該二 位移裝置實際上無法真正完全同步起動；當(dāng)該二位移裝置起步時間的時間 差距較大時，該承臺會因為受到該二位移裝置的先后帶動而對該承臺形成 拉扯作用；如此一來，該承臺兩端將會因起步瞬間的受力不平均而可能造 成卡死的情形，致使該承臺無法沿軌道正常位移。綜上所陳，現(xiàn)有技術(shù)用于激光修補機的輸送機構(gòu)具有上述的缺失而有 待改進(jìn)。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的主要目的在于提供一種浮動式雙軸同動機構(gòu)，其能夠克服因 起步時間不同步而可能造成卡死的情形，具有確保位移裝置正常位移的特 色。為達(dá)成上述目的，本發(fā)明所提供一種浮動式雙軸同動機構(gòu)，包含有 一工作平臺；二位移裝置分別設(shè)于該工作平臺兩側(cè)，該二位移裝置可沿一 X軸方向同步位移，各該位移裝置具有一凹部，該凹部沿該X軸方向定義 出一承載區(qū)以及二限位區(qū)，該承載區(qū)提供至少一垂直氣流，該二限位區(qū)位 于該承載區(qū)兩側(cè)，各該限位區(qū)提供至少一水平氣流； 一承臺具有二端部且分別置于該二位移裝置的凹部，該端部可受該承載區(qū)的垂直氣流推移而漂 浮于該承載區(qū)頂側(cè)，各該端部可受該限位區(qū)的水平氣流推移而可沿該x軸 方向位移。通過此，本發(fā)明的浮動式雙軸同動機構(gòu)透過上述結(jié)構(gòu)，其能夠運用氣體靜壓軸承(aerostatic bearing)的原理使該二位移裝置的凹部與該承臺 的端部保持間隙而形成緩沖距離，用以容許該二位移裝置因起步時間不同 步而造成的誤差；其相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明能夠克服該二位移裝置因起 步時間不同步而造成卡死的問題，具有確保該二位移裝置正常位移的特 色。為了詳細(xì)說明本發(fā)明的結(jié)構(gòu)、特征及功效所在，茲舉以下較佳實施例并配合圖式說明如后，其中


圖1為本發(fā)明一較佳實施例的立體圖；圖2為本發(fā)明一較佳實施例的組件分解圖；圖3為本發(fā)明一較佳實施例的頂側(cè)視圖，主要揭示位移裝置及承臺之 間的結(jié)構(gòu)；圖4為本發(fā)明一較佳實施例的前側(cè)視圖，主要揭示位移裝置及承臺之 間的結(jié)構(gòu)；圖5為本發(fā)明一較佳實施例的右側(cè)視圖，主要揭示位移裝置及承臺之 間的結(jié)構(gòu)；圖6為本發(fā)明一較佳實施例的動作示意圖，主要揭示位移裝置及承臺 的位移情形。主要組件符號說明10浮動式雙軸同動機構(gòu) 20工作平臺 22 軌道 30位移裝置 32凹部 321 承載區(qū)322 限位區(qū) 323 擋止區(qū)40 承臺52 Y軸P1第一位置P2第二位置具體實施方式
請參閱圖1至圖5，本發(fā)明一較佳實施例所提供浮動式雙軸同動機構(gòu) 10，其包含有一工作平臺20、 一位移裝置30以及一承臺40。該工作平臺20具有二軌道22且分別沿一 X軸50方向延伸，該二位 移裝置30可滑移地分別裝設(shè)于該二軌道22。該二位移裝置30分別設(shè)于該工作平臺20兩側(cè)，該等位移裝置30可 沿該X軸50方向同步位移；各該位移裝置30具有一凹部32，該凹部32 沿該X軸50方向定義出一承載區(qū)321以及二限位區(qū)322;該承載區(qū)321 提供一垂直氣流；該二限位區(qū)322位于該承載區(qū)321兩側(cè)，各該限位區(qū)322 提供二水平氣流；該二位移裝置30的凹部32分別于一 Y軸52方向具有 一擋止區(qū)323，該二擋止區(qū)323分別位于該承臺40的兩側(cè)，各該擋止區(qū) 323提供二水平氣流，以限制該承臺40可沿該Y軸52方向微幅位移。該承臺40具有二端部42且分別置于該二位移裝置30的凹部32，該 二端部42沿該Y軸52方向分別對應(yīng)該二位移裝置30的凹部32的擋止區(qū) 323;該二端部42分別與該二凹部32的限位區(qū)322以及擋止區(qū)323之間 具有間隙；該二端部42分別受該二承載區(qū)321所提供的垂直氣流推移而 漂浮于該承載區(qū)321頂側(cè)，各該端部42可受該限位區(qū)322所提供的水平 氣流推移而沿該X軸50方向位移，各該端部42可受該擋止區(qū)323所提供 的水平氣流推移而沿該Y軸52方向位移。另外，該承臺40更可裝設(shè)一視覺裝置(圖中未示)以及一激光裝置(圖 中未示)，該視覺裝置設(shè)于該承臺40底部且可沿該位移裝置30位移，用 以檢測一基板(圖中未示)上的瑕疵點；該激光裝置設(shè)于該承臺40底部且 可沿該位移裝置30位移，用以除去該基板上的瑕疵點。其中，該視覺裝 置以及該激光裝置并非本發(fā)明的構(gòu)成要件，僅供說明該承臺40的功能， 在此容不贅述。再請配合參閱圖6，其為該位移裝置30及該承臺40由一第一位置P1移動到一第二位置P2的動作示意圖，其動作步驟如下一. 當(dāng)該位移裝置30自該第一位置Pl位移前，該二位移裝置30的 凹部32的承載區(qū)321會先以垂直氣流承載該承臺40，使該承臺40漂浮于 該位移裝置30的承載區(qū)321頂側(cè)同時，該位移裝置30的凹部32的限 位區(qū)322及擋止區(qū)323會以水平氣流推移該承臺40的端部42，使該承臺 40漂浮于該二位移裝置30的凹部32所限制的范圍內(nèi)。二. 當(dāng)該二位移裝置30分別沿該二軌道22開始位移，如果該二位移 裝置30因起步時間不同步而形成先后啟動，該承臺40的端部42會因為 分別與該二凹部32的限位區(qū)322以及擋止區(qū)323之間之間隙而提供緩沖 距離，用以克服該二位移裝置30因起步時間不同步而經(jīng)由該承臺40造成 拉扯；換言之，該二位移裝置30不會受到該承臺40的牽制而能夠防止該 二位移裝置30彼此形成拉扯作用，進(jìn)而使該承臺40與該二位移裝置30 可以順利位移。三. 位移期間，該位移裝置30的凹部32的承載區(qū)321都會以垂直氣 流承載該承臺40，使該承臺40漂浮于該位移裝置30的承載區(qū)321頂側(cè) 同時，該位移裝置30的凹部32的限位區(qū)322及擋止區(qū)323會以水平氣流 推移該承臺40;當(dāng)該二位移裝置30位移時，該承臺40同樣會受到該位移 裝置30的限位區(qū)322及擋止區(qū)323的水平氣流作用而以漂浮的狀態(tài)同步 位移。四. 當(dāng)該位移裝置30位移至該第二位置P2而停止，該位移裝置30 的凹部32的限位區(qū)322及擋止區(qū)323會以水平氣流推移該承臺40的端部 42，以校正該承臺40;最后，該二位移裝置30的凹部32的承載區(qū)321 會逐漸減弱垂直氣流，使該承臺40緩緩降下而落于該位移裝置30的凹部 32的承載區(qū)321。通過此，本發(fā)明的浮動式雙軸同動機構(gòu)透過上述結(jié)構(gòu)，其能夠運用氣 體靜壓軸承(aerostatic bearing)的原理使該二位移裝置30的凹部32與 該承臺40的端部42保持間隙而形成緩沖距離，用以容許該二位移裝置30 因起步時間不同步而造成的誤差；其相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明能夠克服該 二位移裝置30因起步時間不同步而造成卡死的問題，具有確保該二位移裝置30正常位移的特色。本發(fā)明于前揭實施例中所揭露的構(gòu)成組件，僅為舉例說明，并非用來 限制本案的范圍，其它等效組件的替代或變化，亦應(yīng)為本案的申請專利范 圍所涵蓋。
權(quán)利要求
1.一種浮動式雙軸同動機構(gòu)，其特征在于有一工作平臺；二位移裝置，分別設(shè)于該工作平臺兩側(cè)，該二位移裝置可沿一X軸方向同步位移，各該位移裝置具有一凹部，該凹部沿該X軸方向定義出一承載區(qū)以及二限位區(qū)，該承載區(qū)提供至少一垂直氣流，該二限位區(qū)位于該承載區(qū)兩側(cè)，各該限位區(qū)提供至少一水平氣流；以及一承臺，具有二端部且分別置于該二位移裝置的凹部，該端部可受該承載區(qū)的垂直氣流推移而漂浮于該承載區(qū)頂側(cè)，各該端部受該限位區(qū)的水平氣流推移而沿該X軸方向位移。
2. 依據(jù)權(quán)利要求1所述的浮動式雙軸同動機構(gòu)，其特征在于，各該 位移裝置的凹部包含有一擋止區(qū)，該二擋止區(qū)分別位于該承臺的端部方向 且提供至少一水平氣流，以限制該承臺的端部沿一Y軸方向微幅位移。
3. 依據(jù)權(quán)利要求1所述的浮動式雙軸同動機構(gòu)，其特征在于，該工 作平臺具有二軌道是分別沿該X軸方向延伸，該二位移裝置可滑移地分別 裝設(shè)于該二軌道。
全文摘要
本發(fā)明一種浮動式雙軸同動機構(gòu)，包含有一工作平臺；二位移裝置分別設(shè)于該工作平臺兩側(cè)，該二位移裝置可沿一X軸方向同步位移，各該位移裝置具有一凹部，該凹部沿該X軸方向定義出一承載區(qū)以及二限位區(qū)，該承載區(qū)提供至少一垂直氣流，該二限位區(qū)位于該承載區(qū)兩側(cè)，各該限位區(qū)提供至少一水平氣流；一承臺具有二端部且分別置于該二位移裝置的凹部，該端部可受該承載區(qū)的垂直氣流推移而漂浮于該承載區(qū)頂側(cè)，各該端部可受該限位區(qū)的水平氣流推移而可沿該X軸方向位移。
文檔編號B23K37/02GK101607351SQ20081013022
公開日2009年12月23日 申請日期2008年6月16日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月16日
發(fā)明者葉公旭, 蘇紀(jì)為 申請人:東捷科技股份有限公司