本申請涉及光刻機，具體涉及一種光刻機及光源陣列化調節(jié)方法。

背景技術：

1、傳統(tǒng)光刻機復眼透鏡分為單體式復眼透鏡和雙排分離式復眼透鏡兩種類型，根據光學擴展量守恒，單體式復眼陣列準直后的光路具有一定的發(fā)散角，使得從復眼透鏡射出的發(fā)散角遠遠大于聚焦鏡的理論設計視場需求，相當于是多出來的視場光是雜散光的問題。雙排分離式復眼透鏡具有裝配工藝要求前后排復眼對準精度高，易產生缺色缺邊等問題。此外，傳統(tǒng)的復眼透鏡大部分采用單透鏡粘合而成整個復眼的方式，透鏡單元間隙大，光源通過前復眼透鏡后部分光被損失，且降低了光的均勻性，無法精確輸出目的光的分布形狀。

技術實現(xiàn)思路

1、本申請實施例提供一種光刻機及光源陣列化調節(jié)方法、裝置、存儲介質及電子設備，能夠使光刻機精確輸出目的光的分布形狀。

2、第一方面，本申請實施例提供一種光刻機，包括：

3、uv平行光源，所述uv平行光源用于產生uv平行光；

4、陣列化空間光調制器，所述陣列化空間光調制器用于對射入的所述uv平行光的分布形狀進行整形，形成初步整形光束；

5、掩膜板，所述掩膜板用于對射入的所述初步整形光束的分布形狀進行整形，形成二次整形光束；

6、聚焦鏡，所述聚焦鏡用于對所述二次整形光束進行聚焦，形成曝光光束；

7、處理器，所述處理器分別與所述uv平行光源、所述陣列化空間光調制器以及所述聚焦鏡連接，所述處理器用于：

8、獲取待光刻的目標光刻圖案；

9、根據所述目標光刻圖案確定平行光分布形狀控制算法；

10、控制所述uv平行光源產生目標uv平行光；

11、根據所述平行光分布形狀控制算法控制所述陣列化空間光調制器對射入的所述目標uv平行光的分布形狀進行整形形成目標初步整形光束；

12、根據所述掩膜板對射入的所述目標初步整形光束進行整形，形成目標二次整形光束；

13、控制所述聚焦鏡對射入的所述目標二次整形光束進行聚焦，形成所述目標光刻圖案對應的目標曝光光束。

14、第二方面，本申請實施例還提供一種光刻機光源陣列化調節(jié)方法，應用于光刻機，所述光刻機包括用于產生uv平行光的uv平行光源、用于對射入的所述uv平行光的分布形狀進行整形形成初步整形光束的陣列化空間光調制器、用于對射入的所述初步整形光束的分布形狀進行整形形成二次整形光束的掩膜板、、用于對所述二次整形光束進行聚焦形成曝光光束的聚焦鏡，所述方法包括：

15、獲取待光刻的目標光刻圖案；

16、根據所述目標光刻圖案確定平行光分布形狀控制算法；

17、控制所述uv平行光源產生目標uv平行光；

18、根據所述平行光分布形狀控制算法控制所述陣列化空間光調制器對射入的所述目標uv平行光的分布形狀進行整形形成目標初步整形光束；

19、根據所述掩膜板對射入的所述目標初步整形光束進行整形，形成目標二次整形光束；

20、控制所述聚焦鏡對射入的所述目標二次整形光束進行聚焦，形成所述目標光刻圖案對應的目標曝光光束。

21、本申請實施例提供一種由陣列化空間光調制器組成的陣列化復眼透鏡，通過將陣列化空間光調制器替換傳統(tǒng)的復眼透鏡，并通過根據待光刻的目標光刻圖案確定的平行光分布形狀控制算法控制射入的uv平行光的分布形狀，能使光刻機精確輸出目的光，目的光也即目標曝光光束，從而能精確生成該目標光刻圖案對應的目標曝光圖案。

技術特征：

1.一種光刻機，其特征在于，包括：

2.根據權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述陣列化空間光調制器為陣列化透射式液晶空間光調制器，所述陣列化透射式液晶空間光調制器設置在所述uv平行光源與所述掩膜板之間，所述的uv平行光源、所述陣列化透射式液晶空間光調制器與所述掩膜板平行放置，所述處理器控制所述陣列化透射式液晶空間光調制器將射入的所述目標初步整形光束直接射入所述掩膜板。

3.根據權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述陣列化空間光調制器為陣列化反射式液晶空間光調制器，所述uv平行光源與所述掩膜板呈90度角放置，所述陣列化反射式液晶空間光調制器設置在所述uv平行光源和所述掩膜板之間呈45度角放置，所述處理器控制所述陣列化反射式液晶空間光調制器將射入的所述目標初步整形光束旋轉90度反射入所述掩膜板內。

4.根據權利要求3所述的光刻機，其特征在于，所述光刻機還包括第一散熱板，所述第一散熱板設置在所述陣列化反射式液晶空間光調制器背面，所述第一散熱板將未經過所述陣列化反射式液晶空間光調制器反射的所述目標初步整形光束轉變?yōu)闊崮苄问缴l(fā)。

5.根據權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述陣列化空間光調制器為陣列化數字微鏡器件空間光調制器，所述uv平行光源與所述掩膜板呈90度角放置，所述陣列化數字微鏡器件空間光調制器設置在所述uv平行光源和所述掩膜板之間呈45度角放置，所述陣列化數字微鏡器件空間光調制器將射入的所述目標初步整形光束旋轉90度反射入所述掩膜板內。

6.根據權利要求5所述的光刻機，其特征在于，所述光刻機還包括第二散熱板，所述第二散熱板設置在所述陣列化數字微鏡器件空間光調制器對面，所述第二散熱板將未射入所述掩膜板的所述目標初步整形光束轉變?yōu)闊崮苄问缴l(fā)。

7.根據權利要求1至6任一項所述的光刻機，其特征在于，所述處理器還用于：

8.根據權利要求7任一項所述的光刻機，其特征在于，所述處理器還用于：

9.一種光刻機光源陣列化調節(jié)方法，其特征在于，所述光刻機包括用于產生uv平行光的uv平行光源、用于對射入的所述uv平行光的分布形狀進行整形形成初步整形光束的陣列化空間光調制器、用于對射入的所述初步整形光束的分布形狀進行整形形成二次整形光束的掩膜板、用于對所述二次整形光束進行聚焦形成曝光光束的聚焦鏡，所述方法包括：

10.如權利要求9所述的光刻機光源陣列化調節(jié)方法，其特征在于，所述根據所述平行光分布形狀控制算法控制所述陣列化空間光調制器對射入的所述目標uv平行光進行整形，形成目標初步整形光束，包括：

技術總結
本申請公開了一種光刻機及光源陣列化調節(jié)方法，其中，該方法用于獲取待光刻的目標光刻圖案，根據目標光刻圖案確定平行光分布形狀控制算法，控制UV平行光源產生UV平行光，根據平行光分布形狀控制算法控制陣列化空間光調制器對射入的UV平行光的分布形狀進行整形形成目標初步整形光束，根據掩膜板對射入的目標初步整形光束進行整形，形成目標二次整形光束，控制聚焦鏡對射入的目標二次整形光束進行聚焦，形成目標光刻圖案對應的目標曝光光束。本申請能夠使光刻機精確輸出目的光的分布形狀。

技術研發(fā)人員：陸磊,韓子娟,尹建剛,王云萍,王帆帆,張盛東
受保護的技術使用者：北京大學深圳研究生院
技術研發(fā)日：
技術公布日：2025/1/6