技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種曝光裝置，包括曝光單元，用于對(duì)晶圓進(jìn)行曝光；所述曝光單元包括照明系統(tǒng)和掩模，所述照明系統(tǒng)包括勻光單元，其特征在于，所述勻光單元包括正六邊形的勻光石英棒，所述掩模的形狀為與所述勻光石英棒相匹配的正六邊形。本發(fā)明在相同曝光視場(chǎng)的情況下能夠有效降低物鏡場(chǎng)曲對(duì)焦深的影響，提高實(shí)際可使用的焦深；在投影物鏡相同的焦深的情況下，擴(kuò)大了曝光視場(chǎng)的曝光面積。

技術(shù)研發(fā)人員：謝仁飚;楊志勇;白昂力;王健
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海微電子裝備有限公司
文檔號(hào)碼：201510416093
技術(shù)研發(fā)日：2015.07.15
技術(shù)公布日：2017.05.24