光致抗蝕劑組合物的制作方法
【專利摘要】一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含：樹脂，所述樹脂顯示通過酸的作用在堿性水溶液中的溶解度增加；酸生成劑；由式(I)表示的化合物；和溶劑，所述溶劑的量為所述光致抗蝕劑組合物的總量的40至75質(zhì)量％：其中所述環(huán)W1是含氮雜環(huán)，或具有取代或未取代的氨基的苯環(huán)，A1表示苯基或萘基，并且n表示2或3的整數(shù)。
【專利說明】光致抗蝕劑組合物
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及光致抗蝕劑組合物和用于制備光致抗蝕劑圖案的方法。
【背景技術】
[0002]在通過半導體芯片用薄膜安裝插腳的過程中，在基板上配置作為具有4至150 μ m高度的突起的電極。
[0003]對于用于制備突起的光致抗蝕劑組合物，JP2008-249993A1提到一種正性型化學放大光致抗蝕劑組合物，該光致抗蝕劑組合物任選地包含胺化合物作為猝滅劑。JP2007-272087A1提到一種正性型光敏樹脂組合物，該正性型光敏樹脂組合物任選地包含氮有機化合物作為酸擴散控制劑。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本申請給出如下方面的發(fā)明。
[0005][I] 一種 光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含:
[0006]樹脂，所述樹脂顯示通過酸的作用在堿性水溶液中的溶解度增加；
[0007]酸生成劑；
[0008]由式⑴表示的化合物；和
[0009]溶劑,所述溶劑的量為所述光致抗蝕劑組合物的總量的40至75質(zhì)量％:
[
【權利要求】
1.一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含: 樹脂，所述樹脂顯示通過酸的作用在堿性水溶液中的溶解度增加； 酸生成劑； 由式⑴表不的化合物；和 溶劑，所述溶劑的量為所述光致抗蝕劑組合物的總量的40至75質(zhì)量％:
2.根據(jù)權利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述環(huán)W1是含氮雜環(huán)。
3.根據(jù)權利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述樹脂包含由式(al-Ι)或式(al-2)表示的結構單元:
4.根據(jù)權利要求1所述的光致抗蝕劑組合物， 其中所述酸生成劑是由式(bl)或式(b3)表示的化合物，
5.根據(jù)權利要求4所述的光致抗蝕劑組合物， 其中所述酸生成劑是由式(bl)表示的化合物。
6.根據(jù)權利要求4或5所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述環(huán)Wbl表示萘環(huán)。
7.一種用于制備光致抗蝕劑膜的光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑膜的厚度為3 μ m至150 μ m，所述光致抗蝕劑組合物包含: 樹脂，所述樹脂顯示通過酸的作用在堿性水溶液中的溶解度增加； 酸生成劑； 由式⑴表不的化合物；和 溶劑；
8.一種用于制備光致抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括: (1)將根據(jù)權利要求1或2所述的光致抗蝕劑組合物涂敷在基板上的步驟， (2)通過干燥所述光致抗蝕劑組合物而形成光致抗蝕劑組合物膜的步驟， (3)將所述光致抗蝕劑組合物膜曝光的步驟，以及 (4)將所曝光的光致抗蝕劑組合物膜顯影的步驟。
【文檔編號】G03F7/004GK103454857SQ201310198534
【公開日】2013年12月18日 申請日期:2013年5月24日 優(yōu)先權日:2012年5月31日
【發(fā)明者】杉原昌子, 河村麻貴 申請人:住友化學株式會社