技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種多層設(shè)備，其包括第一襯底以及在所述第一襯底的表面上的第一導(dǎo)電層，所述第一導(dǎo)電層具有作為位置函數(shù)而變化的使電流流過(guò)所述第一導(dǎo)電層的薄層電阻Rs。

技術(shù)研發(fā)人員：H·S·伯格;J·巴斯;J·齊巴斯;N·蒂莫曼;Z·霍甘;K·亞卡托;H·特納
受保護(hù)的技術(shù)使用者：基內(nèi)斯托技術(shù)公司
文檔號(hào)碼：201280008082
技術(shù)研發(fā)日：2012.02.09
技術(shù)公布日：2017.08.29