專利名稱：鹽以及含有該鹽的光致抗蝕劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種適用于酸生成劑的鹽和一種含有該鹽的光致抗蝕劑組合物。
背景技術(shù)：
用于采用光刻法的半導(dǎo)體微型制造的化學(xué)放大型正性抗蝕劑組合物含有酸生成 劑，該酸生成劑包含通過輻照產(chǎn)生酸的化合物。US 2006/0194982A1公開了一種光致抗蝕劑組合物，該組合物包含作為酸生成劑 的1-[(3_羥基金剛烷基)甲氧羰基]二氟甲磺酸三苯基锍。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種新的適用于酸生成劑的鹽和包含該鹽的光致抗蝕劑組 合物。本發(fā)明涉及下列內(nèi)容<1> 一種以式(I-CC)表示的鹽 其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或C1-C4全氟烷基，X1表示單鍵或-(CH2) k_，并且-(CH2) k-中的一個或多個-CH2-可以被_0_或-CO-代 替，并且-(CH2)k-中的一個或多個氫原子可以被C1-C4脂族烴基取代，并且k表示1至17 的整數(shù)，Y1表示C1-C36脂族烴基，C3-C36脂環(huán)族烴基或C6-C36芳族烴基，并且所述脂族 烴基，所述脂環(huán)族烴基和所述芳族烴基可以具有一個或多個不含氟原子的取代基，并且所 述脂族烴基和所述脂環(huán)族烴基中的一個或多個-CH2-可以被-0-或-CO-代替，A1和A2各自獨立地表示C1-C20脂族烴基，C3-C20脂環(huán)族烴基或C6-C20芳族烴 基，或A1和A2彼此結(jié)合以形成C3-C20環(huán)，并且所述脂族烴基，所述脂環(huán)族烴基，所述芳族烴 基和所述環(huán)中的一個或多個氫原子可以被羥基，C1-C12烷基，C1-C12烷氧基或C3-C36脂環(huán) 族烴基取代，Ar1表示可以具有一個或多個取代基的(m4+l)價C6-C20芳族烴基，B1表示單鍵或C1-C6亞烷基，并且所述亞烷基中的一個或多個-CH2-可以 被-0-或-co-代替，B2表示能夠通過酸的作用消除的基團(tuán)，Hi1和m2各自獨立地表示0至2的整數(shù)，m3表示1至3的整數(shù)，條件是π^+π^+π^ =3，并且m4表示1至3的整數(shù)；<2>根據(jù)<1>所述的鹽，其中Y1表示C1-C36脂族烴基，C3-C36脂環(huán)族烴基或 C6-C36芳族烴基，并且所述脂族烴基，所述脂環(huán)族烴基和所述芳族烴基中的一個或多個氫 原子可以被氯原子，溴原子，羥基，氰基，C2-C7?；?，C2-C18酰氧基，C1-C6烷氧基，C2-C7 烷氧羰基，C1-C12脂族烴基，C3-C10脂環(huán)族烴基或C6-C20芳族烴基取代，并且所述脂族烴 基和所述脂環(huán)族烴基中的一個或多個-CH2-可以被-0-或-CO-代替，并且所述C6-C20芳 族烴基中的一個或多個氫原子可以被C1-C12脂族烴基，C3-C10脂環(huán)族烴基或C1-C6烷氧 基取代，并且Ar1表示(m4+l)價C6-C20芳族烴基，并且所述芳族烴基中的一個或多個氫原子可 以被鹵素原子，羥基，C1-C12脂族烴基，C3-C10脂環(huán)族烴基，C2-C4?；駽1-C6烷氧基取 代；<3>根據(jù)<1>或<2>所述的鹽，其中B2是以式(B2-1)表示的基團(tuán) 其中R。1，Re2和Re3各自獨立地表示C1-C18直鏈、支鏈或環(huán)狀烴基，并且Rel和Re2可 以相互結(jié)合以形成C3-C36環(huán)，并且所述環(huán)中的一個或多個氫原子可以被鹵素原子，羥基， C1-C12脂族烴基，C1-C12烷氧基，C1-C12烷氧羰基，C2-C7?；駽2-C7酰氧基取代，并且 所述環(huán)狀烴基和所述環(huán)中的一個或多個-CH2-可以被-0-或-CO-代替；<4>根據(jù)<1>至<3>中任何一項所述的鹽，其中Ar1是亞苯基并且m4為1 ；<5>根據(jù)<1>至<4>中任何一項所述的鹽，其中Hi1, m2和m3為1 ；<6>根據(jù)<1>至<5>中任何一項所述的鹽，其中B1是(R)2-,其中R在每次出 現(xiàn)時均獨立地為氫原子或甲基，并且*表示與Ar1結(jié)合的位置；<7>根據(jù)<1>至<6>中任何一項所述的鹽，其中Ar1是對亞苯基；<8> 一種光致抗蝕劑組合物，其包含根據(jù)<1>至<7>中任何一項所述的鹽以及樹 脂，所述樹脂包含具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元，并且不溶或難溶于堿水溶液，但通過酸的 作用變得可溶于堿水溶液；<9>根據(jù)<8>所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述光致抗蝕劑組合物還包含堿性 化合物；<10> 一種用于制造光致抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括以下步驟(1)_(5)(1)將根據(jù)<8>或<9>所述的光致抗蝕劑組合物涂覆在襯底上的步驟，(2)通過進(jìn)行干燥形成光致抗蝕劑膜的步驟，(3)使所述光致抗蝕劑膜對輻射曝光的步驟，(4)烘焙已曝光的光致抗蝕劑膜的步驟，和(5)用堿性顯影劑使已烘焙的光致抗蝕劑膜顯影，從而形成光致抗蝕劑圖案的步驟。
具體實施例方式本發(fā)明的鹽是以式(I-CC)表示的鹽
5
其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或C1-C4全氟烷基，X1表示單鍵或-(CH2) k_，并且-(CH2) k-中的一個或多個-CH2-可以被_0_或-CO-代 替，并且-(CH2)k-中的一個或多個氫原子可以被C1-C4脂族烴基取代，并且k表示1至17 的整數(shù)，Y1表示C1-C36脂族烴基，C3-C36脂環(huán)族烴基或C6-C36芳族烴基，并且所述脂族 烴基，所述脂環(huán)族烴基和所述芳族烴基可以具有一個或多個不含氟原子的取代基，并且所 述脂族烴基和所述脂環(huán)族烴基中的一個或多個-CH2-可以被-0-或-CO-代替，A1和A2各自獨立地表示C1-C20脂族烴基，C3-C20脂環(huán)族烴基或C6-C20芳族烴 基，或A1和A2彼此結(jié)合以形成C3-C20環(huán)，并且所述脂族烴基，所述脂環(huán)族烴基，所述芳族烴 基和所述環(huán)中的一個或多個氫原子可以被羥基，C1-C12烷基，C1-C12烷氧基或C3-C36脂環(huán) 族烴基取代，Ar1表示可以具有一個或多個取代基的(m4+l)價C6-C20芳族烴基，B1表示單鍵或C1-C6亞烷基，并且所述亞烷基中的一個或多個-CH2-可以 被-0-或-co-代替，B2表示能夠通過酸的作用消除的基團(tuán)，Hi1和m2各自獨立地表示0至2的整數(shù)，m3表示1至3的整數(shù)，條件是π^+π^+π^ = 3，并且m4表示1至3的整數(shù)。本發(fā)明的鹽優(yōu)選是以式(I-CC)表示的鹽，其中QSQ^X^A^A^B^B^ivivmdn m4具有如上定義的相同含義，并且Y1表示C1-C36脂族烴基，C3-C36脂環(huán)族烴基或C6-C36 芳族烴基，并且脂族烴基，脂環(huán)族烴基和芳族烴基中的一個或多個氫原子可以被氯原子，溴 原子，羥基，氰基，C2-C7?；珻2-C18酰氧基，C1-C6烷氧基，C2-C7烷氧羰基，C1-C12脂族 烴基，C3-C10脂環(huán)族烴基或C6-C20芳族烴基取代，并且脂族烴基和脂環(huán)族烴基中的一個或 多個-CH2-可以被-0-或-CO-取代，以及C6-C20芳族烴基中的一個或多個氫原子可以被 C1-C12脂族烴基，C3-C10脂環(huán)族烴基或C1-C6烷氧基取代，并且Ar1表示(m4+l)價C6-C20 芳族烴基并且芳族烴基中的一個或多個氫原子可以被鹵素原子，羥基，C1-C12脂族烴基， C3-C10脂環(huán)族烴基，C2-C4?；駽1-C6烷氧基取代。C1-C6全氟烷基的實例包括三氟甲基，五氟乙基，七氟丙基，九氟丁基，十一氟戊基 和十三氟己基，并且優(yōu)選三氟甲基。Q1和Q2各自獨立地優(yōu)選表示氟原子或三氟甲基，并且 Q1和Q2更優(yōu)選為氟原子。X1中-(CH2) k-的實例包括C1-C17亞烷基，如亞甲基，亞乙基，三亞甲基，四亞甲基， 五亞甲基，六亞甲基，七亞甲基，八亞甲基，九亞甲基，十亞甲基，^^一亞甲基，十二亞甲基， 十三亞甲基，十四亞甲基，十五亞甲基，十六亞甲基，十七亞甲基，異亞丙基，仲亞丁基和叔
6亞丁基。其中-(CH2)k-中的一個或多個-CH2-被-0-或-CO-代替的-(CH2)k_的實例包括 *-co-o-x10-, *-co-o-xn-co-o-, *-x10-o-co-, *-x13-o-x14-，*-x15-o-和 *-x10-co-o-，其中 * 是 與-CQ1Q2結(jié)合的位置，X10是單鍵或C1-C15亞烷基，X11是單鍵或C1-C13亞烷基，X13是單鍵 或C1-C16亞烷基，X14是單鍵或C1-C16亞烷基，條件是X13和X14的總碳數(shù)為0至16，并且 X15 是單鍵或 C1-C16 亞烷基。在它們中，優(yōu)選 *-co-o-x1Q-，*-co-o-xn-co-o-, *-x10-o-co-和 *-x13-o-x14-,更優(yōu)選 *-co-o-x1(l-。脂族烴基的實例包括烷基例如甲基，乙基，丙基，異丙基，丁基，仲丁基，叔丁基，戊 基，己基，庚基，2-乙基己基，辛基，壬基，癸基，十一烷基和十二烷基。脂環(huán)族烴基的實例包括飽和的脂環(huán)族烴基例如環(huán)丙基，環(huán)丁基，環(huán)戊基，環(huán)己基， 環(huán)庚基，環(huán)辛基，環(huán)壬基，環(huán)癸基，降冰片基，1-金剛烷基，2-金剛烷基和異冰片基。芳族烴基的實例包括芳基如苯基，萘基，蒽基，對甲基苯基，對_叔丁基苯基，對金 剛烷基苯基，二甲苯基，qumyl，萊基，聯(lián)苯基，菲基(phenathryl)，2，6-二乙基苯基和2_甲 基-6-乙基苯基。通過A1和A2相互結(jié)合形成C3-C20環(huán)而形成的以-S+A1A2表示的基團(tuán)的實例包括
如下 其中Rsl，Rs2, Rs3和Rs4在每次出現(xiàn)時獨立地為羥基或C1-C12烷基，tl表示0至4 的整數(shù)，t2表示0至5的整數(shù)，t3表示0至8的整數(shù)，以及t4表示0至8的整數(shù)。表示為Y1的C1-C36脂族烴基，C3-C36脂環(huán)族烴基以及C6-C36芳族烴基的取代基 的實例包括氯原子，溴原子，羥基，氰基，C2-C7?；?，C2-C 18酰氧基，C1-C6烷氧基，C2-C7 烷氧羰基，C1-C12脂族烴基，C3-C10脂環(huán)族烴基和C6-C20芳族烴基。表示為Ar1的(m4+l)價C6-C20芳族烴基的取代基的實例包括鹵素原子，羥基， CI-C12脂族烴基，C3-C10脂環(huán)族烴基，C2-C4?；虲1-C6烷氧基。鹵素原子的實例包括氟原子，氯原子，溴原子和碘原子。酰基的實例包括乙?；?丙?；投□；?。酰氧基的實例包括乙酰氧基，丙酰氧基和丁酰氧基。烷氧基的實例包括 甲氧基，乙氧基，丙氧基，異丙氧基，丁氧基，仲丁氧基，叔丁氧基，戊氧基，己氧基，庚氧基， 辛氧基，2-乙基己氧基，壬氧基，癸氧基，十一烷氧基和十二烷氧基。
烷氧羰基的實例包括甲氧羰基，乙氧羰基，丙氧羰基，異丙氧羰基，丁氧羰基，仲丁 氧羰基，叔丁氧羰基和戊氧羰基。烷基的實例包括甲基，乙基，丙基，異丙基，丁基，仲丁基， 叔丁基，戊基，己基，庚基，2-乙基己基，辛基，壬基，癸基，十一烷基和十二烷基。優(yōu)選A1和A2各自獨立地表示芳族烴基例如苯基和萘基。A1和A2更優(yōu)選為苯基。 A1和A2可以彼此結(jié)合以形成C3-C20環(huán)并且優(yōu)選C4-C6環(huán)。Ar1優(yōu)選為亞苯基，并且更優(yōu)選對亞苯基。B1中，亞烷基中的一個或多個-CH2-可以被-0-或-CO-代替，并且B1優(yōu)選為 *-0-C(R)2-，其中R在每次出現(xiàn)時均獨立地為氫原子或甲基，并且*表示與Ar1結(jié)合的位置；能夠通過酸的作用消除的基團(tuán)的實例包括以式(B2-1)表示的基團(tuán) 其中R。1，Re2和Re3各自獨立地表示C1-C18直鏈、支鏈或環(huán)狀烴基，并且Rel和Re2可 以相互結(jié)合以形成C3-C36環(huán)，并且所述環(huán)中的一個或多個氫原子可以被鹵素原子，羥基， C1-C12脂族烴基，C1-C12烷氧基，C1-C12烷氧羰基，C2-C7?；駽2-C7酰氧基取代，并且 所述環(huán)狀烴基和所述環(huán)中的一個或多個-CH2-可以被-0-或-CO-代替。式(B2-11)中，Rcl和Re2優(yōu)選相互結(jié)合以形成C3-C36環(huán)，并且所述環(huán)優(yōu)選沒有取 代基，或者優(yōu)選具有一個或多個取代基，所述取代基選自鹵素原子，羥基，C1-C12脂族烴基， C1-C12烷氧基，C1-C12烷氧羰基，C2-C7?；虲2-C7酰氧基，并且所述環(huán)更優(yōu)選沒有取代 基。當(dāng)Rel和Re2相互結(jié)合以形成C3-C36環(huán)時，以式(B2-1)表示的基團(tuán)的實例包括下
列 環(huán)的碳數(shù)優(yōu)選為3至12。它們中，優(yōu)選以式(W4)和(W12)表示的基團(tuán)。 能夠通過酸的作用消除的基團(tuán)的具體實例包括下列:
在式(I-CC)中，Hi1, m2禾口 m3優(yōu)選為1。在式(I-CC)中，m4優(yōu)選為1。Y1優(yōu)選為C3-C36脂環(huán)族烴基，所述C3-C36脂環(huán)族烴基具有一個或多個選自羥基， C2-C4?；珻1-C6烷氧基和C1-C12脂族烴基的取代基。Y1的實例包括以式(Wl)至(W24)
表示的基團(tuán) 以上提及的以式(Wl)至(W19)表示的基團(tuán)可以具有一個或多個取代基。在它們 中，優(yōu)選以式(Wl)至(W19)表示的基團(tuán)，更優(yōu)選以式(W12)，(W15)，(W16)和(W19)表示的基團(tuán)。以式(I-CC)表示的鹽的陰離子部分的實例包括如下 以式(I-CC)表示的鹽的陽離子部分的實例包括下列以(CC-al-1)，(CC-bl-1), (CC-bl-2)和(CC-cl-1)表示的陽離子部分 其中A1，A2，Rc3, HI1和m2具有如上定義的相同含義，并且Re在每次出現(xiàn)時均獨立地 為氟原子，羥基，C1-C12脂族烴基，C6-C20芳族烴基，C7-C21芳烷基，縮水甘油基或C2-C4 ?；⑶襝表示0至8的整數(shù)。它們中，優(yōu)選下列以式(CC-a2_l)，(CC_b2_l)，(CC_b2_2)和(CC-c2_l)表示的陽
離子部分
油氧基或C2-C4?；〈?，并且s和t獨立地各自表示0至5的整數(shù)。更優(yōu)選下列以式(CC-a3-l)，(CC_b3_l)，(CC_b3_2)和(CC_c3)表示的陽離子部
分 其中Pe3具有如上定義的相同含義。陽離子部分的具體實例包括如下。
(CC-a3-l)
(CC-b3-l)
(CC-b3-2)
(CC-c3-l)
本發(fā)明的鹽由任一以上提及的陰離子部分和任一以上提及的陽離子部分組成，并 且可以任意地組合以上提及的陰離子部分和以上提及的陽離子部分。優(yōu)選以式(I-CC-I')至(I-CC-16')表示的鹽。
其中P32，P34, s和t具有如上定義的相同含義。它們中，更優(yōu)選以式(I-CC-I)至(I-CC-16)表示的鹽 可以根據(jù)本領(lǐng)域中的已知方法制備包括本發(fā)明的鹽的陽離子部分的化合物。例 如，通過使以式(IA-4)表示的鹽與以式(IA-5)表示的鹽在溶劑例如氯仿中反應(yīng)，可以制備 以式(IA)表示的鹽。 可以根據(jù)JP 2008-165216A中所述的方法制備以式(IA-5)表示的鹽?？梢酝ㄟ^使以式(IA-3)表示的鹽與以式(IA-2)表示的化合物在溶劑例如N， N-二甲基甲酰胺中、在催化劑例如碳酸鉀和碘化鉀的存在下反應(yīng)，制備以式(IA-4)表示的
(IA-3)(IA-2)(IA-4)以式(IA-3)表示的鹽的實例包括氯化4-羥基苯基二苯基锍?？梢酝ㄟ^使以式(IA-I)表示的化合物與氯代乙酰氯在溶劑例如四氫呋喃中、在 堿催化劑例如吡啶的存在下反應(yīng)，制備以式(IA-2)表示的化合物。
(IA-1)以式(IA-I)表示的化合物的實例包括2-甲基-2-金剛烷醇。以式(IA-4)表示的鹽與以式(IA-5)表示的鹽的反應(yīng)可以例如根據(jù) JP2008-165216A中所述的方法進(jìn)行。在光致抗蝕劑組合物中以式(I-CC)表示的鹽起著酸生成劑的作用。酸生成劑是 一種這樣的物質(zhì)，其通過在此物質(zhì)本身或含此物質(zhì)的光致抗蝕劑組合物上施加輻射例如 光，電子束等而分解產(chǎn)生酸。從本發(fā)明的鹽產(chǎn)生的酸作用在光致抗蝕劑組合物中的樹脂上， 導(dǎo)致樹脂中存在的酸不穩(wěn)定基團(tuán)分裂。本發(fā)明的光致抗蝕劑組合物含有以式(I-CC)表示的鹽和樹脂，所述樹脂包含具 有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元并且不溶或難溶于堿水溶液中但是通過酸的作用變得可溶于 堿水溶液。此光致抗蝕劑組合物可以包含一種或多種不同于以式(I-CC)表示的鹽的酸生 成劑。在本說明書中，“酸不穩(wěn)定基團(tuán)”指可以通過酸的作用消除的基團(tuán)。酸不穩(wěn)定基團(tuán)的實例包括以式(Ia)表示的基團(tuán) 其中Ral，Ra2和Ra3各自獨立地表示C1-C8脂族烴基或C3-C20脂環(huán)族烴基，或Ral 與Ra2彼此結(jié)合以形成C3-C20環(huán)。C1-C8脂族烴基的實例包括C1-C8烷基例如甲基，乙基，丙基，異丙基，丁基，戊基， 己基，庚基和辛基。C3-C20脂環(huán)族烴基可以是單環(huán)或多環(huán)，并且其實例包括單環(huán)脂環(huán)族烴基 例如C3-C20環(huán)烷基(例如環(huán)戊基，環(huán)己基，甲基環(huán)己基，二甲基環(huán)己基，環(huán)庚基和環(huán)辛基) 和多環(huán)脂環(huán)族烴基例如十氫化萘基，金剛烷基，降冰片基，甲基降冰片基，以及如下 脂環(huán)族烴基優(yōu)選具有3至16個碳原子。通過Ral與Ra2彼此結(jié)合形成的環(huán)的實例包括下列基團(tuán)并且環(huán)優(yōu)選具有3至12個
碳原子 其中Ra3具有如上定義的相同含義。優(yōu)選其中Ral，Ra2和Ra3各自獨立地表示C1-C8烷基例如叔丁基的以式(Ia)表示 的基團(tuán)，其中Ral和Ra2相互結(jié)合形成金剛烷基環(huán)并且Ra3是C1-C8烷基例如2-烷基-2-金 剛烷基的以式(Ia)表示的基團(tuán)，以及其中Ral和Ra2是C1-C8烷基且Ra3是金剛烷基例如 1-(1_金剛烷基)-1_烷基烷氧羰基的以式(Ia)表示的基團(tuán)。具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元衍生自在其側(cè)鏈上有酸不穩(wěn)定基團(tuán)并具有碳碳雙 鍵的單體，并且優(yōu)選在其側(cè)鏈上有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的丙烯酸酯單體或在其側(cè)鏈有酸不穩(wěn)定基 團(tuán)的甲基丙烯酸酯單體。單體的優(yōu)選實例包括丙烯酸-2-烷基-2-金剛烷基酯，甲基丙烯酸-2-烷基-2-金 剛烷基酯，丙烯酸-1-(1-金剛烷基)-1-烷基烷基酯，甲基丙烯酸-1-(1-金剛烷基)-1-烷 基烷基酯，5-降冰片烯-2-羧酸-2-烷基-2-金剛烷基酯，5-降冰片烯-2-羧酸-ι- (1-金剛烷基)-1_烷基烷基酯，α-氯丙烯酸-2-烷基-2-金剛烷基酯和0-氯丙烯酸-1-(1_金 剛烷基)"I"烷基烷基酯。特別地，當(dāng)使用丙烯酸-2-烷基-2-金剛烷基酯或甲基丙烯 酸-2-烷基-2-金剛烷基酯作為光致抗蝕劑組合物中樹脂組分的單體時，傾向于獲得具有 優(yōu)異分辨率的光致抗蝕劑組合物。其典型實例包括丙烯酸-2-甲基-2-金剛烷基酯，甲 基丙烯酸-2-甲基-2-金剛烷基酯，丙烯酸-2-乙基-2-金剛烷基酯，甲基丙烯酸-2-乙 基-2-金剛烷基酯，丙烯酸-2-異丙基-2-金剛烷基酯，甲基丙烯酸-2-異丙基-2-金剛烷 基酯，丙烯酸-2-正丁基-2-金剛烷基酯，α -氯丙烯酸-2-甲基-2-金剛烷基酯和α -氯 丙烯酸-2-乙基-2-金剛烷基酯。特別是當(dāng)將丙烯酸-2-乙基-2-金剛烷基酯，甲基丙烯 酸-2-乙基-2-金剛烷基酯，丙烯酸-2-異丙基-2-金剛烷基酯或甲基丙烯酸-2-異丙 基-2-金剛烷基酯用于光致抗蝕劑組合物時，傾向于獲得具有優(yōu)異靈敏度和耐熱性的光致 抗蝕劑組合物。丙烯酸-2-烷基-2-金剛烷基酯通?？梢酝ㄟ^將2-烷基-2-金剛烷醇或其金屬 鹽與丙烯酰鹵反應(yīng)而制備，而甲基丙烯酸-2-烷基-2-金剛烷基酯通?？梢酝ㄟ^將2-烷 基-2-金剛烷醇或其金屬鹽與甲基丙烯酰鹵反應(yīng)而制備。必要時，可以將兩種或更多種的具有一個或多個通過酸的作用而解離的基團(tuán)的單
體一起使用。樹脂中具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元的含量基于樹脂所有結(jié)構(gòu)單元的總摩爾數(shù) 通常是10至80摩爾％。樹脂優(yōu)選包含一個或多個具有一個或多個強(qiáng)極性取代基的結(jié)構(gòu)單元。具有一 個或多個強(qiáng)極性取代基的結(jié)構(gòu)單元的實例包括其烴基具有選自羥基，氰基，硝基和氨基 中至少一個的結(jié)構(gòu)單元，和其烴基具有一個或多個-C0-0-，-C0-, -0-，-SO2-或-S-的 結(jié)構(gòu)單元。優(yōu)選其飽和環(huán)烴基具有氰基或羥基的結(jié)構(gòu)單元，其飽和環(huán)烴基中一個或多 個-CH2-被-0-或-co-代替的結(jié)構(gòu)單元，以及在其側(cè)鏈中具有內(nèi)酯結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)單元，并且 更優(yōu)選其橋烴具有一個或多個羥基的結(jié)構(gòu)單元，和其橋烴具有-C0-0-或-co-的結(jié)構(gòu)單 元。其實例包括衍生自具有一個或多個羥基的2-降冰片烯的結(jié)構(gòu)單元，衍生自丙烯腈或 甲基丙烯腈的結(jié)構(gòu)單元，衍生自含羥基的丙烯酸金剛烷基酯或含羥基的甲基丙烯酸金剛烷 基酯的結(jié)構(gòu)單元，衍生自苯乙烯單體例如對羥基苯乙烯和間羥基苯乙烯的結(jié)構(gòu)單元，衍生 自一種結(jié)構(gòu)單元且該結(jié)構(gòu)單元衍生自丙烯酸-1-金剛烷基酯或甲基丙烯酸-1-金剛烷基酯 的結(jié)構(gòu)單元，和衍生自其內(nèi)酯環(huán)可以具有烷基的丙烯酰氧基-Y-丁內(nèi)酯或甲基丙烯酰氧 基-Y-丁內(nèi)酯的結(jié)構(gòu)單元。衍生自含羥基的丙烯酸金剛烷基酯或含羥基的甲基丙烯酸金剛烷基酯的結(jié)構(gòu)單 元的具體實例包括衍生自丙烯酸-3-羥基-1-金剛烷基酯的結(jié)構(gòu)單元；衍生自甲基丙烯 酸-3-羥基-1-金剛烷基酯的結(jié)構(gòu)單元；衍生自丙烯酸_3，5- 二羥基-1-金剛烷基酯的結(jié) 構(gòu)單元；和衍生自甲基丙烯酸_3，5- 二羥基-1-金剛烷基酯的結(jié)構(gòu)單元。丙烯酸-3-羥基-1-金剛烷基酯，甲基丙烯酸-3-羥基-1-金剛烷基酯，丙烯酸-3， 5- 二羥基-1-金剛烷基酯和甲基丙烯酸_3，5- 二羥基-1-金剛烷基酯可以通過，例如相應(yīng) 的羥基金剛烷與丙烯酸，甲基丙烯酸或其酰鹵反應(yīng)而制備，并且它們也可商購。當(dāng)樹脂具有衍生自含羥基的丙烯酸金剛烷基酯或含羥基的甲基丙烯酸金剛烷基 酯的結(jié)構(gòu)單元時，其含量基于100摩爾％的樹脂的所有結(jié)構(gòu)單元優(yōu)選為5至50摩爾％。
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衍生自其內(nèi)酯環(huán)可以具有烷基的單體的結(jié)構(gòu)單元的實例包括衍生自丙烯酰氧 基-Y-丁內(nèi)酯的結(jié)構(gòu)單元，衍生自甲基丙烯酰氧基-Y-丁內(nèi)酯的結(jié)構(gòu)單元和以式(a)和 (b)表示的結(jié)構(gòu)單元 其中R1和R2各自獨立地表示氫原子或甲基，R3和R4在每次出現(xiàn)時獨立地為氫原 子，甲基，三氟甲基或鹵素原子，并且i和j各自獨立地表示1至3的整數(shù)。此外，丙烯酰氧基_ Y _ 丁內(nèi)酯和甲基丙烯酰氧基_ Y _ 丁內(nèi)酯可以通過使相應(yīng)的 α-或β-溴-Y-丁內(nèi)酯與丙烯酸或甲基丙烯酸反應(yīng)，或使相應(yīng)的α-或β-羥基-Y-丁 內(nèi)酯與丙烯酰鹵或甲基丙烯酰鹵反應(yīng)而制備。產(chǎn)生以式(a)和(b)表示的結(jié)構(gòu)單元的單體的實例包括下面所述的含有羥基的脂 環(huán)族內(nèi)酯的丙烯酸酯和含有羥基的脂環(huán)族內(nèi)酯的甲基丙烯酸酯以及它們的混合物。這些酯 可以通過，例如將相應(yīng)的含有羥基的脂環(huán)族內(nèi)酯與丙烯酸或甲基丙烯酸反應(yīng)而制備，并且 其制備方法描述于例如JP2000-26446A中。 其中內(nèi)酯環(huán)可以被烷基取代的丙烯酰氧基-Y - 丁內(nèi)酯和甲基丙烯酰氧基-Y - 丁 內(nèi)酯的實例包括α -丙烯酰氧基_ Y _ 丁內(nèi)酯，α _甲基丙烯酰氧基-Y - 丁內(nèi)酯，α -丙烯 酰氧基_β，β —二甲基— Υ —丁內(nèi)酉旨，α—甲基丙烯酰氧基_β，β —二甲基— Υ —丁內(nèi)酉旨，
丙烯酰氧基_α_甲基_Υ_丁內(nèi)酉旨，α_甲基丙烯酰氧基_α_甲基_Υ_丁內(nèi)酉旨，丙 烯酰氧基-Y-丁內(nèi)酯，β-甲基丙烯酰氧基-Υ-丁內(nèi)酯和β-甲基丙烯酰氧基-α-甲 基-Y-丁內(nèi)酯。當(dāng)樹脂具有衍生自其內(nèi)酯環(huán)可以具有烷基的單體的結(jié)構(gòu)單元時，其含量基于100 摩爾％的樹脂的所有結(jié)構(gòu)單元優(yōu)選為5至50摩爾％。
在它們中，優(yōu)選衍生自丙烯酸-3-羥基-1-金剛烷基酯的結(jié)構(gòu)單元，衍生自甲基丙 烯酸-3-羥基-1-金剛烷基酯的結(jié)構(gòu)單元，衍生自丙烯酸_3，5- 二羥基-1-金剛烷基酯的 結(jié)構(gòu)單元，衍生自甲基丙烯酸_3，5- 二羥基-1-金剛烷基酯的結(jié)構(gòu)單元，衍生自α -丙烯酰 氧基_ Y _ 丁內(nèi)酯的結(jié)構(gòu)單元，衍生自α “甲基丙烯酰氧基_ Y _ 丁內(nèi)酯的結(jié)構(gòu)單元，衍生自 β -丙烯酰氧基_ Y _ 丁內(nèi)酯的結(jié)構(gòu)單元，衍生自β _甲基丙烯酰氧基_ Y _ 丁內(nèi)酯的結(jié)構(gòu)單 元，以式(a)表示的結(jié)構(gòu)單元以及以式(b)表示的結(jié)構(gòu)單元，因為傾向于獲得具有良好分辨 率和光致抗蝕劑與襯底的粘附性的抗蝕劑組合物。當(dāng)使用KrF受激準(zhǔn)分子激光進(jìn)行曝光時，樹脂優(yōu)選具有衍生自苯乙烯單體例如對 羥基苯乙烯和間羥基苯乙烯的結(jié)構(gòu)單元，并且其含量基于100摩爾％的樹脂的所有結(jié)構(gòu)單 元優(yōu)選為5至90摩爾％。樹脂可以包含一種或多種其它結(jié)構(gòu)單元。其實例包括衍生自丙烯酸或甲基丙烯 酸的結(jié)構(gòu)單元，衍生自具有烯屬雙鍵的脂環(huán)族化合物的結(jié)構(gòu)單元例如以式(c)表示的結(jié)構(gòu) 單元 其中R5和R6各自獨立地表示氫原子，C1-C3烷基，羧基，氰基或其中U表示醇?xì)埢?的-COOU基團(tuán)，或者R5和R6可以結(jié)合在一起形成以-c( = 0)0C( = 0)-表示的羧酸酐殘 基，衍生自脂肪族不飽和二羧酸酐的結(jié)構(gòu)單元，比如以式(d)表示的結(jié)構(gòu)單元 ，或以式(e)表示的結(jié)構(gòu)單元 R5和R6中，C1-C3烷基的實例包括甲基，乙基，丙基和異丙基。-COOU基是從羧基 形成的酯，并且與U對應(yīng)的醇?xì)埢膶嵗ㄈ芜x取代的C1-C8烷基，2-氧代氧雜環(huán)戊烷 (oxolan) -3-基，2-氧代氧雜環(huán)戊烷-4-基，在C1-C8烷基上的取代基的實例包括羥基，脂 環(huán)族烴基。
產(chǎn)生由上述式(C)表示的結(jié)構(gòu)單元的單體的具體實例可以包括2_降冰片烯， 2-羥基-5-降冰片烯，5-降冰片烯-2-羧酸，5-降冰片烯-2-羧酸甲酯，5-降冰片烯_2_羧 酸-2-羥基乙酯，5-降冰片烯-2-甲醇和5-降冰片烯-2，3- 二羧酸酐。當(dāng)-COOU基團(tuán)中的U是酸-不穩(wěn)定基團(tuán)時，即使式(c)表示的結(jié)構(gòu)單元含有降冰 片烷結(jié)構(gòu)，它也是含有酸_不穩(wěn)定基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元。產(chǎn)生含有酸_不穩(wěn)定基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元 的單體的實例包括5-降冰片烯-2-羧酸叔丁酯，5-降冰片烯-2-羧酸-1-環(huán)己基-1-甲 基乙酯，5-降冰片烯-2-羧酸-1-甲基環(huán)己酯，5-降冰片烯-2-羧酸-2-甲基-2-金剛烷 基酯，5-降冰片烯-2-羧酸-2-乙基-2-金剛烷基酯，5-降冰片烯-2-羧酸-1- (4-甲基環(huán) 己基)-1-甲基乙酯，5-降冰片烯-2-羧酸-l-(4-羥基環(huán)己基)-1_甲基乙酯，5-降冰片 烯-2-羧酸-1-甲基-l-(4-氧代環(huán)己基)乙酯，和5-降冰片烯-2-羧酸-1-(1-金剛烷 基)-1_甲基乙酯。樹脂可以通過一種或多種含有酸_不穩(wěn)定基團(tuán)和烯屬雙鍵的單體進(jìn)行聚合反應(yīng) 而獲得。聚合反應(yīng)通常在自由基引發(fā)劑的存在下進(jìn)行?？梢愿鶕?jù)已知方法進(jìn)行此聚合反應(yīng)。樹脂通常具有10，000以上的重均分子量，優(yōu)選10，500以上的重均分子量，更優(yōu)選 11,000以上的重均分子量，更加優(yōu)選11，500以上的重均分子量，并且特別優(yōu)選12，000以 上的重均分子量。當(dāng)樹脂的重均分子量太大時，傾向于產(chǎn)生光致抗蝕劑膜缺陷，并且因此， 樹脂優(yōu)選具有40，000以下的重均分子量，更優(yōu)選具有39，000以下的重均分子量，更加優(yōu)選 38，000以下的重均分子量，并且特別優(yōu)選37，000以下的重均分子量。重均分子量可以使用 凝膠滲透色譜測量?；跇渲M分和酸生成劑組分的總量計，本發(fā)明的抗蝕劑組合物優(yōu)選包括80至 99. 9重量％的樹脂組分以及0. 1至20重量％的酸生成劑組分。本文中，“酸生成劑組分” 表示以式(I-AA)表示的鹽和一種或多種其它包含在光致抗蝕劑組合物中的酸生成劑。在本發(fā)明的抗蝕劑組合物中，通過加入作為猝滅劑的有機(jī)堿化合物，特別是含氮 有機(jī)堿化合物，可以減小由酸的失活造成的性能惡化，而所述酸的失活是由于后曝光延遲 而引起的。含氮有機(jī)堿化合物的具體實例包括以下各式表示的胺化合物 其中，R11和R12獨立地表示氫原子，C1-C6烷基，C5-C10環(huán)烷基或C6-C10芳基，并且 所述烷基，環(huán)烷基和芳基可以被選自羥基，可以被C1-C4烷基取代的氨基以及可以被C1-C6 烷氧基取代的C1-C6烷氧基中的至少一個基團(tuán)取代，R13和R14獨立地表示氫原子，C1-C6烷基，C5-C10環(huán)烷基，C6-C10芳基或C1-C6烷 氧基，并且所述烷基，環(huán)烷基，芳基和烷氧基可以被選自羥基，可以被C1-C4烷基取代的氨 基以及C1-C6烷氧基中的至少一個基團(tuán)取代，或者R13和R14與它們結(jié)合的碳原子結(jié)合在一 起，由此形成芳族環(huán)，R15表示氫原子，C1-C6烷基，C5-C10環(huán)烷基，C6-C10芳基，C1-C6烷氧基或硝基， 并且該烷基，環(huán)烷基，芳基和烷氧基可以被選自羥基，可以被C1-C4烷基取代的氨基以及 C1-C6烷氧基中的至少一個基團(tuán)取代，R16表示C1-C6烷基或C5-C10環(huán)烷基，并且所述烷基和環(huán)烷基可以被選自羥基，可 以被C1-C4烷基取代的氨基以及C1-C6烷氧基中的至少一個基團(tuán)取代，以及W1表示-CO-，-NH-, -S-, _S_S_，C2-C6亞烷基以及下式表示的氫氧化季銨 其中，R17，R18，R19和R20獨立地表示C1-C6烷基，C5-C10環(huán)烷基或C6-C10芳基，并 且所述烷基，環(huán)烷基和芳基可以被選自羥基，可以被C1-C4烷基取代的氨基以及C1-C6烷氧 基中的至少一個基團(tuán)取代?？梢员籆1-C4烷基取代的氨基的實例包括氨基，甲氨基，乙氨基，丁基氨基，二甲 氨基和二乙氨基?？梢员籆1-C6烷氧基取代的C1-C6烷氧基的實例包括甲氧基，乙氧基，丙 氧基，異丙氧基，丁氧基，叔丁氧基，戊氧基，己氧基和2-甲氧基乙氧基。可以被選自羥基，可以被C1-C4烷基取代的氨基以及可以被C1-C6烷氧基取代的 C1-C6烷氧基中的至少一個基團(tuán)取代的C1-C6烷基的具體實例包括甲基，乙基，丙基，異丙基，丁基，叔丁基，戊基，己基，2- (2-甲氧基乙氧基)乙基，2-羥乙基，2-羥丙基，2-氨基乙 基，4-氨基丁基和6-氨基己基?？梢员贿x自羥基，可以被C1-C4烷基取代的氨基以及C1-C6烷氧基中的至少一個 基團(tuán)取代的C5-C10環(huán)烷基的具體實例包括環(huán)戊基，環(huán)己基，環(huán)庚基和環(huán)辛基。可以被選自羥基，可以被C1-C4烷基取代的氨基或C1-C6烷氧基中的至少一個基 團(tuán)取代的C6-C10芳基的具體實例包括苯基和萘基。C1-C6烷氧基的具體實例包括甲氧基，乙氧基，丙氧基，異丙氧基，丁氧基，叔丁氧
基，戊氧基和己氧基。C2-C6亞烷基的具體實例包括亞乙基，三亞甲基和四亞甲基。胺化合物的具體實例包括己胺，庚胺，辛胺，壬胺，癸胺，苯胺，2-甲基苯胺，3-甲 基苯胺，4-甲基苯胺，4-硝基苯胺，1-萘胺，2-萘胺，乙二胺，四亞甲基二胺，六亞甲基二 胺，4，4，- 二氨基-1，2-二苯基乙烷，4，4，- 二氨基_3，3，- 二甲基二苯基甲烷，4，4，- 二 氨基-3，3’ - 二乙基二苯基甲烷，二丁胺，二戊胺，二己胺，二庚胺，二辛胺，二壬胺，二癸胺， N-甲基苯胺，哌啶，二苯胺，三乙胺，三甲胺，三丙胺，三丁胺，三戊胺，三己胺，三庚胺，三辛 胺，三壬胺，三癸胺，甲基二丁胺，甲基二戊胺，甲基二己胺，甲基二環(huán)己胺，甲基二庚胺，甲 基二辛胺，甲基二壬胺，甲基二癸胺，乙基二丁胺，乙基二戊胺，乙基二己胺，乙基二庚胺，乙 基二辛胺，乙基二壬胺，乙基二癸胺，二環(huán)己基甲胺，三[2-(2_甲氧基乙氧基)乙基]胺，三 異丙醇胺，N，N-二甲基苯胺，2，6_ 二異丙基苯胺，咪唑，苯并咪唑，吡啶，4-甲基吡啶，4-甲 基咪唑，聯(lián)吡啶，2，2’-二吡啶胺，二-2-吡啶酮，1，2-二(2-吡啶基)乙烷，1，2-二(4-吡 啶基)乙烷，1，3-二 (4-吡啶基)丙烷，1，2-雙(2-吡啶基)乙烯，1，2-雙(4-吡啶基) 乙烯，1，2-雙(4-吡啶氧基)乙烷，4，4’ - 二吡啶硫醚(sulfide)，4，4’ - 二吡啶二硫醚 (disulfide), 1,2-雙(4-吡啶基)乙烯，2，2’ -二吡啶甲基胺和3，3’ -二吡啶甲基胺。氫氧化季銨的實例包括氫氧化四甲銨，氫氧化四丁銨，氫氧化四己銨，氫氧化四辛 銨，氫氧化苯基三甲銨，氫氧化(3-三氟甲基苯基)三甲銨和氫氧化(2-羥乙基)三甲銨 (所謂的“膽堿”)。還可以使用如JP 11-52575A1中公開的具有哌啶骨架的受阻胺化合物作為猝滅 劑。就形成具有更高分辨率的圖案而言，優(yōu)選采用氫氧化季銨作為猝滅劑。當(dāng)采用堿性化合物作為猝滅劑時，基于樹脂組分和酸生成劑的總量計，本發(fā)明的 抗蝕劑組合物優(yōu)選包含0. 01至1重量％的堿性化合物。必要時，本發(fā)明的抗蝕劑組合物可以含有少量的各種添加劑，比如敏化劑，溶解抑 制劑，其它聚合物，表面活性劑，穩(wěn)定劑和染料，只要不妨礙本發(fā)明的效果即可。本發(fā)明的抗蝕劑組合物通常是將上述成分溶解在溶劑中的抗蝕劑液體組合物形 式，并且采用常規(guī)的方法如旋涂法將抗蝕劑液體組合物涂敷在襯底如硅晶片上。所使用的 溶劑足以溶解上述成分，具有合適的干燥速率，并且在溶劑蒸發(fā)后產(chǎn)生均勻且光滑的涂層。 可以使用本領(lǐng)域中通常使用的溶劑。溶劑的實例包括二元醇醚酯，例如乙基溶纖劑乙酸酯，甲基溶纖劑乙酸酯和丙二 醇單甲醚乙酸酯；無環(huán)酯，例如乳酸乙酯，乙酸丁酯，乙酸戊酯和丙酮酸乙酯；酮，如丙酮， 甲基異丁基酮，2-庚酮和環(huán)己酮；以及環(huán)酯，如Y-丁內(nèi)酯。這些溶劑可以單獨使用，或者
44可以將其兩種或更多種混合使用。光致抗蝕劑圖案可以通過以下步驟(1)-(5)制造(1)將本發(fā)明的光致抗蝕劑組合物涂覆在襯底上的步驟，(2)通過進(jìn)行干燥形成光致抗蝕劑膜的步驟，(3)將光致抗蝕劑膜對輻射曝光的步驟，(4)烘焙已曝光的光致抗蝕劑膜的步驟，和(5)用堿性顯影劑使已烘焙的光致抗蝕劑膜顯影，從而形成光致抗蝕劑圖案的步 驟。所使用的堿性顯影劑可以是本領(lǐng)域中使用的各種堿性水溶液中的任何一種。通常，經(jīng) 常使用氫氧化四甲銨或氫氧化(2-羥乙基)三甲銨(通常稱作“膽堿”)的水溶液。實施例將通過實施例更具體地描述本發(fā)明，但這些實施例不應(yīng)理解為對本發(fā)明范圍的限 制。用以表示以下實施例和比較例中使用的任何組分的含量和任何物質(zhì)的量的 “％”和“份”都是基于重量的，除非另外具體指明。以下實施例中使用的任何物質(zhì)的重 均分子量都是通過凝膠滲透色譜[HLC-8120GPC型，柱子(三根柱子與保護(hù)柱)由TOSOH CORPORATION 制造的 TSKgelMultipore HXL-M，溶劑四氫呋喃，流速1. OmL/min.，檢測 器RI檢測器，柱溫40°C，注入體積100 μ L]，使用聚苯乙烯作為標(biāo)準(zhǔn)參考物質(zhì)而測得的 值?；衔锏慕Y(jié)構(gòu)是通過NMRCJEOL LTD.制造的EX-270型)和質(zhì)譜(液相色譜1100 型，由 AGILENT TECHNOLOGIES LTD.制造，質(zhì)譜:LC/MSD 型或 LC/MSD TOF 型，由 AGILENT TECHNOLOGIES LTD.制造)測定的。實施例1 將4. 85份的以式(I-CC-1-a)表示的化合物和28. 00份N，N- 二甲基甲酰胺的混 合物在23°C攪拌30分鐘。向混合物中加入1. 66份的碳酸鉀和0. 84份碘化鉀，并將所得 混合物在50°C攪拌1小時。將獲得的混合物冷卻至40°C，然后向其中滴加通過將6. 30份 以式(I-CC-1-b)表示的鹽溶解在28. 00份N，N- 二甲基甲酰胺中而制備的溶液，歷時1小 時。將所得混合物在75°C攪拌5小時。將所得混合物冷卻至23°C，然后向其中加入60. 00 份氯仿和60. 00份的IN鹽酸。將所得混合物攪拌并且分離成有機(jī)層和水層。用60. 00份 離子交換水洗滌有機(jī)層至水層顯示為中性。向所得有機(jī)層加入2.0份活性炭，攪拌。將所 得混合物過濾并將所得濾液濃縮。將所得殘留物與20份乙酸乙酯混合并移除上清液。將 所得殘留物與20份叔丁基甲基醚混合并移除上清液。將所得殘留物溶解在氯仿中，并將所 得溶液濃縮以獲得橙色油形式的以上述式(I-CC-1-c)表示的鹽。 向含有1. 81份以上述式(I-CC-1-d)表示的鹽的溶液中，加入3. 2份氯仿和2. 61 份以式(I-CC-1-c)表示的鹽。將所得溶液攪拌15小時，并隨后用離子交換水洗滌。向所 得的有機(jī)層加入1.2份活性炭，攪拌。將所得混合物過濾并將所得濾液濃縮。將所得殘留 物與10份乙酸乙酯混合并移除上清液。將所得殘留物與10份叔丁基甲基醚混合并移除上 清液。將所得殘留物溶解在氯仿中，并將所得溶液濃縮以獲得1. 78份橙色油形式的以上述 式(I-CC-I)表示的鹽，該鹽被稱為鹽Al。純度100%,收率:43%0
MS (ESI (+)譜):M+485. 2
MS (ESI(-)譜):M"339. 1 在冰浴中向100份二氟(氟磺?；?乙酸甲酯和150份離子交換水的混合物中滴 加230份的30%氫氧化鈉水溶液。將所得混合物在100°C加熱并回流3小時。冷卻至23°C 后，用88份濃鹽酸中和混合物并將所得溶液濃縮以獲得164. 4份的二氟磺基乙酸鈉鹽(含 無機(jī)鹽，純度62. 7% )。向1. 9份二氟磺基乙酸鈉鹽(純度62. 7% )和9. 5份N，N- 二甲基甲酰胺的混 合物中加入1. 0份1，1’ -羰基二咪唑，并將所得溶液攪拌2小時。將該溶液加入通過混合 1. 1份3-羥基金剛烷甲醇，5. 5份N，N- 二甲基甲酰胺和0. 2份氫化鈉并攪拌2小時制備的 溶液中。將所得溶液攪拌15小時以獲得含有以上述式(I-CC-1-d)表示的鹽的溶液。0-CC-2) 向含有1. 81份以上述式(I-CC-1-d)表示的鹽的溶液加入3. 2份氯仿和2. 42份 以式(I-CC-1-c)表示的鹽。將所得混合物攪拌15小時，并隨后用離子交換水洗滌。向所 得有機(jī)層加入1.2份活性炭，攪拌。將所得混合物過濾并將所得濾液濃縮。將所得殘留物 與10份乙酸乙酯混合并移除上清液。將所得殘留物與10份叔丁基甲基醚混合并移除上清1H-NMR(二 甲亞砜-d6，內(nèi)標(biāo)四甲基硅烷)δ (ppm) 1. 35-2. 02 (m, 27H), 2. 10 (m, 2H)，2. 25 (m, 2H)，3. 85 (s, 2H)，4. 42 (m, 1H)，4. 96 (s, 2H)，7. 28-7. 38 (m, 2H)，7. 70-7. 90 (m, 2H)實施例2 將4. 09份的以式(I-CC-2-a)表示的化合物和28. 00份N，N- 二甲基甲酰胺的混 合物在23°C攪拌30分鐘。向混合物中加入1. 66份的碳酸鉀和0. 84份碘化鉀，并將所得 混合物在50°C攪拌1小時。將獲得的混合物冷卻至40°C，然后向其中滴加通過將6. 30份 以式(I-CC-1-b)表示的鹽溶解在28. 00份N，N- 二甲基甲酰胺中而制備的溶液，歷時1小 時。將所得混合物在75°C攪拌5小時。將所得混合物冷卻至23°C，然后向其中加入60. 00 份氯仿和60. 00份的IN鹽酸。將所得混合物攪拌并且分離成有機(jī)層和水層。用60. 00份 離子交換水洗滌有機(jī)層至水層顯示為中性。向所得有機(jī)層加入2.0份活性炭，攪拌。將所 得混合物過濾并將所得濾液濃縮。將所得殘留物與20份乙酸乙酯混合并移除上清液。將 所得殘留物與20份叔丁基甲基醚混合并移除上清液。將所得殘留物溶解在氯仿中，并將所 得溶液濃縮以獲得3. 24份橙色油形式的以上述式(I-CC-2-c)表示的鹽。
(l-CC-1 -d)液。將所得殘留物溶解在氯仿中，并將所得溶液濃縮以獲得1. 24份橙色油形式的以上述式 (I-CC-2)表示的鹽，該鹽被稱為鹽A2。純度100%，收率32%。MS (ESI (+)譜):M+447. 2MS (ESI(-)譜):M"339. 11H-NMR( 二 甲亞砜 _d6，內(nèi)標(biāo)四甲基硅烷)δ (ppm)0. 85(t，3H)，l. 15-1. 80 (m, 22H)，1. 95(q，2H)，2· 10 (m，2Η)，3. 85(s，2H)，4· 42 (s，1Η)，4· 96(s，2H)，7· 28-7. 35(m，2H)， 7. 70-7. 90 (m, 12H)實施例3 將5. 54份的以式(I-CC-3-a)表示的化合物和28. 00份N，N- 二甲基甲酰胺的混 合物在23°C攪拌30分鐘。向混合物中加入1. 66份的碳酸鉀和0. 84份碘化鉀，并將所得 混合物在50°C攪拌1小時。將獲得的混合物冷卻至40°C，然后向其中滴加通過將6. 30份 以式(I-CC-1-b)表示的鹽溶解在28. 00份N，N- 二甲基甲酰胺中而制備的溶液，歷時1小 時。將所得混合物在75°C攪拌5小時。將所得混合物冷卻至23°C，然后向其中加入60. 00 份氯仿和60. 00份的IN鹽酸。將所得混合物攪拌并且分離成有機(jī)層和水層。用60. 00份 離子交換水洗滌有機(jī)層至水層顯示為中性。向所得有機(jī)層加入2. O份活性炭，攪拌。將所 得混合物過濾并將所得濾液濃縮。將所得殘留物與20份乙酸乙酯混合并移除上清液。將 所得殘留物與20份叔丁基甲基醚混合并移除上清液。將所得殘留物溶解在氯仿中，并將所 得溶液濃縮以獲得橙色油形式的以上述式(I-CC-3-c)表示的鹽。 向含有1.81份以上述式(I-CC-1-d)表示的鹽的溶液，加入3. 2份氯仿和2. 56份 以式(I-CC-3-c)表示的鹽。將所得溶液攪拌15小時，并隨后用離子交換水洗滌。向所得 的有機(jī)層加入1.2份活性炭，攪拌。將所得混合物過濾并將所得濾液濃縮。將所得殘留物 與10份乙酸乙酯混合并移除上清液。將所得殘留物與10份叔丁基甲基醚混合并移除上清 液。將所得殘留物溶解在氯仿中，并將所得溶液濃縮以獲得1. 11份橙色油形式的以上述式 (I-CC-3)表示的鹽，該鹽被稱為鹽A3。純度100%，收率27 %。MS (ESI (+)譜):Μ+475· 2MS (ESI (-)譜):M"339. 11H-NMR( 二 甲亞砜 _d6，內(nèi)標(biāo)四甲基硅烷)δ (ppm)0. 85(t，3H)，l. 15-1. 80 (m, 22H)，1. 95(q，2H)，1. 95(s，6H)，2· 10(m，2H)，3· 85(s，2H)，4· 42 (s，1Η)，7· 26-7. 36 (m，2H)， 7. 70-7. 90 (m, 12H)實施例4 將3. 81份的以式(I-CC-4-a)表示的化合物和28. 00份N，N- 二甲基甲酰胺的混 合物在23°C攪拌30分鐘。向混合物中加入1. 66份的碳酸鉀和0. 84份碘化鉀，并將所得 混合物在50°C攪拌1小時。將獲得的混合物冷卻至40°C，然后向其中滴加通過將6. 30份 以式(I-CC-1-b)表示的鹽溶解在28. 00份N，N-二甲基甲酰胺而制備的溶液，歷時1小時。 將所得混合物在75°C攪拌5小時。將所得混合物冷卻至23°C，然后向其中加入60. 00份氯 仿和60. 00份的IN鹽酸。將所得混合物攪拌并且分離成有機(jī)層和水層。用60. 00份離子交換水洗滌有機(jī)層至水層顯示為中性。向所得有機(jī)層加入2.0份活性炭，攪拌。將所得混 合物過濾并將所得濾液濃縮。將所得殘留物與20份乙酸乙酯混合并移除上清液。將所得 殘留物與20份叔丁基甲基醚混合并移除上清液。將所得殘留物溶解在氯仿中，并將所得溶 液濃縮以獲得橙色油形式的以上述式(I-CC-4-c)表示的鹽。 向含有1. 81份以上述式(I-CC-1-d)表示的鹽的溶液加入3. 2份氯仿和2. 35份 以式(I-CC-4-c)表示的鹽。將所得混合物攪拌15小時，并隨后用離子交換水洗滌。向所 得有機(jī)層加入1.2份活性炭，攪拌。將所得混合物過濾并將所得濾液濃縮。將所得殘留物 與10份乙酸乙酯混合并移除上清液。將所得殘留物與10份叔丁基甲基醚混合并移除上清 液。將所得殘留物溶解在氯仿中，并將所得溶液濃縮以獲得1. 08份橙色油形式的以上述式 (I-CC-4-c)表示的鹽，該鹽被稱為鹽Α4。純度100%,收率:28%0MS (ESI (+)譜):Μ+433· 2MS (ESI (-)譜):M"339. 11H-NMR( 二 甲亞砜 _d6，內(nèi)標(biāo)四甲基硅烷)δ (ppm)O. 87(t，3H)，l. 20-1. 80 (m, 20H)，2. 00 (q, 2H)，2. 10 (m, 2H)，3. 85 (s, 2H)，4. 42 (s, 1H)，4. 96 (s, 2H)，7. 28-7. 38 (m, 2H)， 7. 70-7. 90 (m, 12H)實施例5 在冰浴中向100份二氟(氟磺?；?乙酸甲酯和250份離子交換水的混合物中滴 加230份的30%氫氧化鈉水溶液。將所得混合物在100°C加熱并回流3小時。冷卻至23°C 后，用88份濃鹽酸中和混合物并將所得溶液濃縮以獲得164. 8份的二氟磺基乙酸鈉鹽(含 無機(jī)鹽，純度-.62. 6%) ο向5. O份二氟磺基乙酸鈉鹽(純度62. 6% )，2. 6份4_氧代+金剛烷醇和100 份乙基苯的混合物中加入0. 8份濃硫酸，并將所得混合物回流30小時。將混合物冷卻并過 濾。將所得固體用叔丁基甲基醚洗滌，以獲得5. 5份以上述式(I-CC-5-d)表示的鹽。根據(jù) 1H-NMR分析其純度是35. 6%。 向4. 86份以上述式(I-CC-5-d)表示的鹽加入15份乙腈和15份離子交換水，并 且向其中加入2. 61份以式(I-CC-1-c)表示的鹽，5份乙腈和5份離子交換水。將所得混合 物攪拌15小時，并隨后濃縮。將所得殘留物用50份氯仿萃取，并用離子交換水洗滌所得有 機(jī)層。向所得有機(jī)層加入1.2份活性炭，攪拌。將所得混合物過濾并將所得濾液濃縮。將 所得殘留物與10份乙酸乙酯混合并移除上清液。將所得殘留物與10份叔丁基甲基醚混合 并移除上清液。將所得殘留物溶解在氯仿中，并將所得溶液濃縮以獲得0. 98份橙色油形式 的以上述式(I-CC-5)表示的鹽，該鹽被稱為鹽A5。純度100%，收率24%。MS (ESI (+)譜):Μ+485· 2MS (ESI (-)譜):M"323. O1H-NMR(二 甲亞砜-d6，內(nèi)標(biāo)四甲基硅烷)δ (ppm) 1. 45-2. 02 (m，19Η)，2. 25 (m， 2H)，2. 29-2. 32 (m, 7H)，2. 53 (s, 2H)，4. 96 (s, 2H)，7. 28-7. 38 (m, 2H)，7. 70-7. 90 (m, 12H)實施例6 在冰浴中向100份二氟(氟磺?；?乙酸甲酯和150份離子交換水的混合物中滴 加230份的30%氫氧化鈉水溶液。將所得混合物在100°C加熱并回流3小時。冷卻至23°C 后，用88份濃鹽酸中和混合物并將所得溶液濃縮以獲得164. 4份的二氟磺基乙酸鈉鹽(含 無機(jī)鹽，純度62. 7% )。向30. O份二氟磺基乙酸鈉鹽(純度62. 7% ),14. 7份六氫_6_羥基_3，5_橋亞 甲基-2H-環(huán)戊并[b]呋喃-2-酮和300份甲苯的混合物添加18. 1份對甲苯磺酸，并將所得 混合物回流12小時。將混合物冷卻并過濾。將所得固體與100份乙腈混合。將所得混合 物過濾并且將得到的濾液濃縮以獲得26. 7份以上述式(I-CC-9-d)表示的鹽。根據(jù)1H-NMR 分析其純度是28.6%。 向5. 84份以上述式(I-CC-9-d)表示的鹽加入20份乙腈和20份離子交換水，并 且向其加入2. 61份以式(I-CC-1-c)表示的化合物，5份乙腈和5份離子交換水。將所得 混合物攪拌15小時，并隨后濃縮。將所得殘留物用50份氯仿萃取，并用離子交換水洗滌所 得有機(jī)層。向所得有機(jī)層加入1.2份活性炭，攪拌。將所得混合物過濾并將所得濾液濃縮。 將所得殘留物與10份乙酸乙酯混合并移除上清液。將所得殘留物與10份叔丁基甲基醚混 合并移除上清液。將所得殘留物溶解在氯仿中，并將所得溶液濃縮以獲得0. 78份橙色油形 式的以上述式(I-CC-9)表示的鹽，該鹽被稱為鹽A6。純度100%，收率20%。MS (ESI (+)譜):Μ+485· 2MS (ESI(-)譜):Μ"311. 01H-NMR(二 甲亞砜-d6，內(nèi)標(biāo)四甲基硅烷)δ (ppm) 1. 45-2. 06 (m，19Η)，2. 25 (m， 2H)，2. 53 (m, 2H)，3. 21 (m, 1H)，4. 51 (m, 1H)，4. 62 (s, 1H)，4. 96 (s,2H)，7. 28-7. 38 (m, 2H)， 7. 70-7. 90 (m, 12H)實施例7 將10. 4份氫化鋁鋰和120份無水四氫呋喃的混合物在23°C攪拌30分鐘。在冰浴 中向混合物滴加通過將62. 2份以上述式(A6-a)表示的化合物溶解在900份無水四氫呋喃 中制備的溶液，并將所得混合物在23°C攪拌5小時。向所得混合物中加入50. 0份乙酸乙酯 和50. 00份6N鹽酸并隨后將所得混合物攪拌并分離為有機(jī)層和水層。將所得有機(jī)層濃縮并用硅膠柱(硅膠=Merck & Co.，Inc.，硅膠60-200目，展開劑氯仿/甲醇=5/1)將所 得殘留物提純以獲得84. 7份以上述式(A7-b)表示的化合物。純度60%。將3. 51份以上述式(A7-c)表示的化合物和75份無水四氫呋喃的混合物在23°C 攪拌30分鐘。在23°C向混合物滴加在50份無水四氫呋喃中的2. 89份羰基二咪唑的溶液， 并將所得混合物在23°C攪拌4小時。在54至60°C經(jīng)過25分鐘將所得混合物滴加進(jìn)6. 04 份以上述式(A7-b)表示的鹽和50份無水四氫呋喃的混合物中。將所得混合物在65°C加熱 18小時，隨后冷卻并過濾。將所得濾液濃縮并且用硅膠柱(硅膠=Merck & Co.，Inc.，硅膠 60-200目，展開劑氯仿/甲醇=5/1)將所得殘留物提純以獲得2. 99份以上述式(A7_d) 表示的鹽。 向含有1.21份以上述式(A7_d)表示的鹽的溶液中加入4. 79份氯仿和1. 74份以 上述式(I-CC-11-c)表示的鹽。將所得混合物攪拌12小時，并隨后用離子交換水洗滌。向 所得有機(jī)層加入1.0份活性炭，攪拌。將所得混合物過濾并將所得濾液濃縮。將所得殘留 物與10份乙酸乙酯混合并移除上清液。將所得殘留物與10份叔丁基甲基醚混合并移除上 清液。將所得殘留物溶解在氯仿中，并將所得溶液濃縮以獲得1.48份以上述式(A7)表示 的鹽，該鹽被稱為鹽A7。MS (ESI (+)譜):Μ+485· 2MS (ESI (-)譜):M"339. 11H-NMR(二 甲亞砜-d6，內(nèi)標(biāo)四甲基硅烷)δ (ppm) 1. 45-2. 05 (m, 25H), 1. 83 (s, 2H)，2. 18 (m, 2H)，2. 35 (s, 1H)，4. 73 (t,2H)，4. 98 (s, 2H)，7. 28-7. 38 (m, 2H)，7. 70-7. 90 (m, 12H)樹脂合成實施例1在此實施例中使用的單體是下列單體A，B和C。
將單體A，B和C以摩爾比50/25/25 (單體A/單體B/單體C)混合，并加入份數(shù)基 于所有單體總份數(shù)為1. 5倍的1，4_ 二噁烷以制備混合物。向該混合物中，加入比率基于所 有單體的摩爾量為1摩爾％的偶氮二異丁腈作為引發(fā)劑并加入比率基于所有單體的摩爾 量為3摩爾％的偶氮雙(2，4_ 二甲基戊腈)作為引發(fā)劑，并將所得混合物在77°C加熱約5 小時。將所得反應(yīng)混合物傾倒入大量甲醇和水的混合物中以引起沉淀，并且重復(fù)此操作三 次以用于提純。結(jié)果，得到收率60%的重均分子量為約8，000的樹脂。該樹脂具有如下的 結(jié)構(gòu)單元。它被稱作樹脂Bi。 樹脂合成實施例2在此實施例中使用的單體是下列單體B，C，D，E和F。
將單體Ε, F, B，C和D以摩爾比30/14/6/20/30 (單體E/單體F/單體B/單體C/ 單體D)混合，并加入份數(shù)基于所有單體總份數(shù)為1.5倍的1，4_ 二噁烷以制備混合物。向 該混合物中，加入比率基于所有單體的摩爾量為1摩爾％的偶氮二異丁腈作為引發(fā)劑并加 入比率基于所有單體的摩爾量為3摩爾％的偶氮雙(2，4_ 二甲基戊腈)作為引發(fā)劑，并將 所得混合物在73°C加熱約5小時。將所得反應(yīng)混合物傾倒入大量甲醇和水的混合物(甲醇 /水=4/1)中以引起沉淀，并且重復(fù)此操作三次以用于提純。結(jié)果，得到收率65%的重均 分子量為約8，100的樹脂。該樹脂具有如下的結(jié)構(gòu)單元。它被稱作樹脂B2。 實施例8至17和比較例1<酸生成劑>鹽Al，A2，A3，A4，A5，A6，A7，ClCl <積 月旨>樹月旨Β1，Β2<猝滅劑>Ql :2，6- 二異丙基苯胺< 溶劑 >Yl:丙二醇單甲醚20份2-庚酮20 份丙二醇單甲醚乙酸酯265份Y-丁內(nèi)酯3. 5 份將下列組分混合并溶解，進(jìn)一步將其通過孔徑為0. 2 μ m的氟樹脂過濾器過濾，以 制備光致抗蝕劑組合物。樹脂(種類和量描述于表1中)酸生成劑(種類和量描述于表1中)猝滅劑(種類和量描述于表1中)溶劑(種類描述于表1中)表1 將每個硅晶片用“ARC-29”，即一種獲自 Nissan Chemical Industries, Ltd.的 有機(jī)抗反射涂層組合物涂布，然后在205°C烘焙60秒，形成78nm厚的有機(jī)抗反射涂層。將 如上制備的每種光致抗蝕劑組合物旋涂在抗反射涂層上，使得到的膜在干燥后的厚度為 85nm。將如此涂有相應(yīng)光致抗蝕劑組合物的硅晶片各自都在接近式電熱板(proximity hotplate)上于95°C預(yù)烘焙60秒。使用ArF受激準(zhǔn)分子分檔器(由CANON INC.制造的 “FPA-5000AS3”，NA = 0. 75，σ = 0. 85,6% HTM)，在曝光量逐步變化的同時，對每個如此形 成有相應(yīng)抗蝕劑膜的晶片進(jìn)行接觸孔(contact hole)圖案(間距210nm，孔130nm)曝 光。曝光后，將每個晶片在電熱板上于95°C進(jìn)行曝光后烘焙60秒，然后用2. 38重量％ 的氫氧化四甲銨水溶液進(jìn)行攪拌顯影(paddle development) 60秒。用掃描電子顯微鏡觀察在顯影之后的有機(jī)抗反射涂層襯底上顯影的每個接觸孔 圖案，其結(jié)果示于表2中。有效靈敏度(ES)它表示透過130nm的接觸孔圖案掩模曝光并顯影后，獲得孔徑 為IlOnm的接觸孔圖案時的曝光量。CD均勻性(CDU)使用掃描電子顯微鏡觀察在有效靈敏度曝光量的光致抗蝕劑圖 案。測量24次接觸孔圖案的孔直徑，并且計算其平均直徑。分別測量在相同晶片上的400 個孔的平均直徑。當(dāng)總數(shù)為400個孔的平均直徑時，計算標(biāo)準(zhǔn)偏差。當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)偏差小于2. OOnm 時，⑶U是好的，且它的評價標(biāo)記為“〇”，并且當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)偏差為2. OOnm以上時，⑶U是差的，且 它的評價標(biāo)記為“ X ”。標(biāo)準(zhǔn)偏差越小，圖案剖面(Pattern Profile)越好。聚焦邊緣(focus Margin) (DOF)使用130nm的接觸孔圖案掩模在有效靈敏度的 曝光量，隨著焦點距離逐步變化獲得光致抗蝕劑圖案。觀察每個圖案，并且測量其中所得圖
56案孔直徑在104. 5nm至115. 5nm的焦點距離，并且計算焦點距離的最大值和焦點距離的最 小值之間的差值。當(dāng)差值大于0.4μπι時，DOF是很好的并且它的評價標(biāo)記為“〇”，當(dāng)差值為 0. 32至0. 40 μ m時，DOF是好的并且它的評價標(biāo)記為“Δ”，而當(dāng)差值小于0. 32 μ m時，DOF 是差的并且它的評價標(biāo)記為“ X ”。差值越大，圖案剖面越好。表 2 本發(fā)明所述的鹽是新的并且可以作為酸生成劑使用，并且包含本發(fā)明的鹽的光致 抗蝕劑組合物提供具有良好CDU和良好DOF的光致抗蝕劑圖案，并且所述組合物特別適合 于ArF受激準(zhǔn)分子激光光刻法、KrF受激準(zhǔn)分。
權(quán)利要求
一種以式(I CC)表示的鹽其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或C1 C4全氟烷基，X1表示單鍵或 (CH2)k ，并且 (CH2)k 中的一個或多個 CH2 可以被 O 或 CO 代替，并且 (CH2)k 中的一個或多個氫原子可以被C1 C4脂族烴基取代，并且k表示1至17的整數(shù)，Y1表示C1 C36脂族烴基，C3 C36脂環(huán)族烴基或C6 C36芳族烴基，并且所述脂族烴基，所述脂環(huán)族烴基和所述芳族烴基可以具有一個或多個不含氟原子的取代基，并且所述脂族烴基和所述脂環(huán)族烴基中的一個或多個 CH2 可以被 O 或 CO 代替，A1和A2各自獨立地表示C1 C20脂族烴基，C3 C20脂環(huán)族烴基或C6 C20芳族烴基，或A1和A2彼此結(jié)合以形成C3 C20環(huán)，并且所述脂族烴基，所述脂環(huán)族烴基，所述芳族烴基和所述環(huán)中的一個或多個氫原子可以被羥基，C1 C12烷基，C1 C12烷氧基或C3 C36脂環(huán)族烴基取代，Ar1表示可以具有一個或多個取代基的(m4+1)價C6 C20芳族烴基，B1表示單鍵或C1 C6亞烷基，并且所述亞烷基中的一個或多個 CH2 可以被 O 或 CO 代替，B2表示能夠通過酸的作用消除的基團(tuán)，m1和m2各自獨立地表示0至2的整數(shù)，m3表示1至3的整數(shù)，條件是m1+m2+m3＝3，并且m4表示1至3的整數(shù)。FSA00000124181300011.tif
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鹽，其中Y1表示C1-C36脂族烴基，C3-C36脂環(huán)族烴基或 C6-C36芳族烴基，并且所述脂族烴基，所述脂環(huán)族烴基和所述芳族烴基中的一個或多個氫 原子可以被氯原子，溴原子，羥基，氰基，C2-C7?；?，C2-C18酰氧基，C1-C6烷氧基，C2-C7 烷氧羰基，C1-C12脂族烴基，C3-C10脂環(huán)族烴基或C6-C20芳族烴基取代，并且所述脂族烴 基和所述脂環(huán)族烴基中的一個或多個-CH2-可以被-0-或-CO-代替，并且所述C6-C20芳 族烴基中的一個或多個氫原子可以被C1-C12脂族烴基，C3-C10脂環(huán)族烴基或C1-C6烷氧 基取代，并且Ar1表示(m4+l)價C6-C20芳族烴基，并且所述芳族烴基中的一個或多個氫原子可以被 鹵素原子，羥基，C1-C12脂族烴基，C3-C10脂環(huán)族烴基，C2-C4?；駽1-C6烷氧基取代。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鹽，其中B2是以式(B2-1)表示的基團(tuán) 其中R。1，Rc2和R。3各自獨立地表示C1-C18直鏈、支鏈或環(huán)狀烴基，并且R。1和R。2可 以相互結(jié)合以形成C3-C36環(huán)，并且所述環(huán)中的一個或多個氫原子可以被鹵素原子，羥基， C1-C12脂族烴基，C1-C12烷氧基，C1-C12烷氧羰基，C2-C7酰基或C2-C7酰氧基取代，并且(B2-1)所述環(huán)狀烴基和所述環(huán)中的一個或多個-CH2-可以被-0-或-CO-代替。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鹽，其中Ar1是亞苯基并且m4為1。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鹽，其中Hl1,Hl2和Hl3為1。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鹽，其中B1是*-0-C(R)2-，其中R在每次出現(xiàn)時均獨立地為 氫原子或甲基，并且*表示與Ar1結(jié)合的位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鹽，其中Ar1是對亞苯基。
8.—種光致抗蝕劑組合物，其包含根據(jù)權(quán)利要求1所述的鹽以及樹脂，所述樹脂包含 具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元，并且不溶或難溶于堿水溶液，但通過酸的作用變得可溶于 堿水溶液。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述光致抗蝕劑組合物還包含堿性 化合物。
10.一種用于制造光致抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括以下步驟(1)_(5)(1)將根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的光致抗蝕劑組合物涂覆在襯底上的步驟，(2)通過進(jìn)行干燥形成光致抗蝕劑膜的步驟，(3)使所述光致抗蝕劑膜對輻射曝光的步驟，(4)烘焙已曝光的光致抗蝕劑膜的步驟，和(5)用堿性顯影劑使已烘焙的光致抗蝕劑膜顯影，從而形成光致抗蝕劑圖案的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供一種以式(I-CC)表示的鹽，其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子等，X1表示單鍵等，Y1表示C1-C36脂族烴基等，A1和A2各自獨立地表示C1-C20脂族烴基等，Ar1表示可以具有一個或多個取代基的(m4+1)價C6-C20芳族烴基，B1表示單鍵等，B2表示能夠通過酸的作用消除的基團(tuán)，m1和m2各自獨立地表示0至2的整數(shù)，m3表示1至3的整數(shù)，條件是m1+m2+m3＝3，并且m4表示1至3的整數(shù)；和一種光致抗蝕劑組合物，其包含以式(I-CC)表示的鹽以及樹脂，所述樹脂包含具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元，并且不溶或難溶于堿水溶液，但通過酸的作用變得可溶于堿水溶液。
文檔編號G03F7/039GK101898987SQ201010188189
公開日2010年12月1日 申請日期2010年5月25日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月28日
發(fā)明者增山達(dá)郎, 市川幸司, 杉原昌子 申請人:住友化學(xué)株式會社