專利名稱：：放射線敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡以及它們的形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及放射線敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡以及它們的形成方法。
背景技術(shù)：
：在薄膜晶體管(以下記做"TFT")型液晶顯示元件、磁頭元件、集成電路元件、固體攝影元件等電子部件中，為了使配置成層狀的配線之間絕緣，一般設(shè)有層間絕緣膜。作為形成層間絕緣膜的材料，優(yōu)選用于獲得所需圖案形狀的工序數(shù)少且具有充分平坦性的材料，所以廣泛使用放射線敏感性樹脂組合物(參照日本特開2001-354822和日本特開2001-343743)。在上述電子部件中，例如TFT型液晶顯示元件是經(jīng)過如下工序制造的在上述的層間絕緣膜上形成透明電極膜，進而在其上形成液晶取向膜。因此，層間絕緣膜在透明電極膜的形成工序中暴露于高溫條件下，暴露于形成電極圖案所使用的抗蝕劑的剝離液中，所以需要應(yīng)對這些的充分耐性。此外，近年來，TFT型液晶顯示元件有要求進一步大畫面化、高亮度化、高精細化、高速響應(yīng)化、薄型化等的趨勢，作為其中所用的層間絕緣膜形成用組合物要求高靈敏度，所形成的層間絕緣膜較以往進一步要求低介電常數(shù)、高透過率等高性能化。另一方面，作為傳真機、電子復印機、固體攝像元件等的晶載濾色片(on-chipcolorfilter)的成像光學系或者光纖連接器的光學系材料，使用具有3~100pm左右的透鏡直徑的微透鏡，或者使用將多個這些微透鏡規(guī)則排列而得到的微透鏡陣列。在微透鏡或微透鏡陣列的形成中，已知有如下方法形成相當于透鏡的圖案狀薄膜之后，將其加熱處理，由此使其熔融流動，直接作為透鏡使用的方法；或者將熔融流動的透鏡圖案用掩模進行干蝕刻而將透鏡形狀轉(zhuǎn)印到基材(下地)的方法等。在上述透鏡圖案的形成中，廣泛使用放射線敏感性樹脂組合物(日本特開平6-18702和日本特開平6-136239)。然而，形成有上述那樣的微透鏡或微透鏡陣列的元件，為了在其后將配線形成部分即焊盤(bondingpad)上的各種絕緣膜除去，形成平坦化膜和蝕刻用抗蝕膜后，用所需的掩^t進行曝光、顯影，并將焊盤部分的抗蝕刻膜除去，接著通過蝕刻將平坦化膜及各種絕緣膜除去后供給露出焊盤部分的工序。因此，對于微透鏡或微透鏡陣列來說，在平坦化膜和蝕刻抗蝕膜的成膜工序以及蝕刻工序中，需要耐溶劑性和耐熱性。要求用于形成這樣的微透鏡的放射線敏感性樹脂組合物為高靈敏度，此外，由該樹脂組合物形成的微透鏡具有所需的曲率半徑，為高耐熱性、高透過率等。如此得到的層間絕緣膜、微透鏡，在形成它們時的顯影工序中，顯影時間稍微超過最佳時間，則顯影液滲透在圖案與基板之間而容易產(chǎn)生剝離，所以必須嚴格控制顯影時間，在產(chǎn)品的產(chǎn)量方面存在問題。這樣，由放射線敏感性樹脂組合物形成層間絕緣膜、微透鏡時，作為組合物要求高靈敏度，此外還要求顯示即使在顯影工序中顯影時間超過規(guī)定時間時也不會產(chǎn)生圖案的剝離的良好的密合性，并且由該組合物形成的層間絕緣膜為高耐熱性、高耐溶劑性、低介電常數(shù)、高透過率等，另一方面，形成微透鏡時要求作為微透鏡的良好的熔融形狀(所需的曲率半徑)、高耐熱性、高耐溶劑性、高透過率等，但滿足這樣的要求的放射線敏感性樹脂組合物以往還是未知的。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是基于上述情況而進行的。因此，本發(fā)明的目的在于提供一種放射線敏感性樹脂組合物，其具有高放射線靈敏度，具有在顯影工序中即使超過最佳顯影時間也能夠形成良好圖案形狀的顯影余地(現(xiàn)像7—、》),可以容易地形成密合性優(yōu)異的圖案狀薄膜。本發(fā)明的其它目的在于提供一種放射線敏感性樹脂組合物，其用于形成層間絕緣膜時，能夠形成高耐熱性、高耐溶劑性、高透過率、低介電常數(shù)的層間絕緣膜，此外，用于形成微透鏡時，能夠形成具有高透過率和良好熔融形狀("I/卜形狀)的微透鏡。本發(fā)明的另外的目的在于提供用上述放射線敏感性樹脂組合物形成層間絕緣膜和微透鏡的方法。本發(fā)明的另外的目的在于提供通過本發(fā)明的方法形成的層間絕緣膜和微透鏡。本發(fā)明的另外的目的和優(yōu)點由以下的說明可明確。根據(jù)本發(fā)明，本發(fā)明的上述目的和優(yōu)點，第1,由如下的放射線敏感性樹脂組合物達成該放射線敏感性樹脂組合物含有[A]、[B]和[C],不飽和化合物的共聚物(以下稱為"共聚物[A]"),所述不飽和化合物含有(al)選自不飽和羧酸和不飽和羧酸酐中的至少一種、和(a2)具有選自環(huán)氧乙烷基和氧雜環(huán)丁烷基中的至少一種基團的不飽和4匕合物；1,2-重氮醌(1，2—牛乂>^7^卜、)化合物(以下稱為"[B]成分")；和具有脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基且沒有羧基的化合物(以下稱為"[C]成分")。本發(fā)明的上述目的和優(yōu)點，第2,由以下述順序包括以下工序的層間絕緣膜或微透鏡的形成方法達成(1)在基板上形成上述放射線敏感性樹脂組合物的涂膜的工序，(2)對該涂膜的至少一部分照射放射線的工序，(3)顯影工序，以及(4)力口熱工序。進而，本發(fā)明的上述目的和優(yōu)點，第3,由通過上述方法形成的層間絕緣膜或微透鏡達成。圖1:是微透鏡截面形狀示意圖。具體實施例方式以下，對本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物詳細描述。共聚物『A1本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物所含有的共聚物[A]可以通過將如下的不飽和化合物優(yōu)選在溶劑中在聚聚合來制備，所述不飽和化合物含有(al)選自不飽和羧酸和不飽和羧酸酐中的至少一種(以下稱為"化合物(al)")、和(a2)具有選自環(huán)氧乙烷基和氧雜環(huán)丁烷基中的至少一種基團的不飽和化合物(以下稱為"化合物(a2)")而成?；衔?al)是選自不飽和羧酸和不飽和羧酸酐中的至少一種的自由基聚合性化合物，可列舉例如不飽和單羧酸、不飽和二羧酸、不飽和二羧酸酐、多元羧酸的單[(甲基)丙烯酰氧基烷基]酯、在兩末端具有羧基和羥基的聚合物的單(甲基)丙烯酸酯、具有羧基的多環(huán)式不飽和化合物及其酐(無水物)等。作為它們的具體例子，作為不飽和單羧酸，可列舉例如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等；作為不飽和二羧酸，可列舉例如馬來酸、富馬酸、檸康酸、中康酸、衣康酸等；作為不飽和二羧酸酐，可列舉例如上述作為不飽和二羧酸例示的化合物的酐等；作為多元羧酸的單[(曱基)丙烯酰氧基烷基]酯，可列舉例如琥珀酸單[2-(曱基)丙烯酰氧基乙基]酯、酞酸單[2-(曱基)丙烯酰氧基乙基]酯等；作為在兩末端具有羧基和羥基的聚合物的單(甲基)丙烯酸酯，可列舉例如co-羧基聚己內(nèi)酯單(曱基)丙烯酸酯等；作為具有羧基的多環(huán)式不飽和化合物及其酐，可列舉例如5-羧基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羧基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5—甲基二環(huán)[2.2.1]庚—2—烯、5—羧基一5—乙基二環(huán)[2.2.1]庚一2—烯、5-羧基-6-曱基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-乙基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羧基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯酐等。其中，優(yōu)選使用不飽和單羧酸、不飽和二羧酸酐，從共聚反應(yīng)性、在堿水溶液中的溶解性和獲得容易的觀點出發(fā)，特別優(yōu)選使用丙烯酸、曱基丙烯酸或馬來酸酐。這些化合物(al)可以單獨或組合使用。化合物(a2)是具有選自環(huán)氧乙烷基和氧雜環(huán)丁烷基中的至少一種基團的自由基聚合性不飽和化合物。作為含有環(huán)氧乙烷基的不飽和化合物，可列舉例如丙烯酸縮水甘油酯、曱基丙烯酸縮水甘油酯、ot-乙基丙烯酸縮水甘油酯、ot-正丙基丙烯酸縮水甘油酯、a-正丁基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸-3,4-環(huán)氧丁酯、甲基丙烯酸-3,4-環(huán)氧丁酯、丙烯酸-6,7-環(huán)氧庚酯、甲基丙烯酸-6,7-環(huán)氧庚酯、oc-乙基丙蹄酸-6,7-環(huán)氧庚酯、鄰乙烯基千基縮水甘油醚、間乙烯基千基縮水甘油醚、對乙烯基節(jié)基縮水甘油醚等。其中，從提高共聚反應(yīng)性和所得層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、表面硬度的觀點出發(fā)，優(yōu)選使用甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸-6,7-環(huán)氧庚酯、鄰乙烯基千基縮水甘油醚、間乙烯基千基縮水甘油醚、對乙烯基節(jié)基縮水甘油醚、曱基丙烯酸-3，4-環(huán)氧環(huán)己基甲酯等。作為含有氧雜環(huán)丁烷基的不飽和化合物，可列舉例如具有氧雜環(huán)丁烷基的(曱基)丙烯酸酯等。作為上述具有氧雜環(huán)丁烷基的(曱基)丙烯酸酯，可列舉例如3-((曱基)丙烯酰氧基曱基)氧雜環(huán)丁烷、3-((曱基)丙烯酰氧基曱基)-2-曱基氧雜環(huán)丁烷、3-((曱基)丙烯酰氧基曱基)-3-乙基氧雜環(huán)丁烷、3-((甲基)丙烯酰氧基甲基)-2-三氟曱基氧雜環(huán)丁烷、3-((曱基)丙烯酰氧基甲基)-2-五氟乙基氧雜環(huán)丁烷、3-((曱基)丙烯酰氧基曱基)-2-苯基氧雜環(huán)丁烷、3-((曱基)丙烯酰氧基曱基)-2,2-二氟氧雜環(huán)丁烷、3-((曱基)丙烯酰氧基曱基)-2,2,4-三氟氧雜環(huán)丁烷、3-((曱基)丙烯酰氧基曱基)-2,2,4,4-四氟氧雜環(huán)丁烷、3-(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)氧雜環(huán)丁烷、3-(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)-2-乙基氧雜環(huán)丁烷、3-(2-(甲基)丙烯酰氧基乙基)-3-乙基氧雜環(huán)丁烷、3-(2-(甲基)丙烯酰氧基乙基)-2-三氟甲基氧雜環(huán)丁烷、3-(2-(甲基)丙烯酰氧基乙基)-2-五氟乙基氧雜環(huán)丁烷、3-(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)-2-苯基氧雜環(huán)丁烷、3-(2_(甲基)丙烯酰氧基乙基)-2,2-二氟氧雜環(huán)丁烷、3-(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)-2,2,4-三氟氧雜環(huán)丁烷、3-(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)-2,2,4,4-四氟氧雜環(huán)丁烷；2-((曱基)丙烯酰氧基曱基)氧雜環(huán)丁烷、2-((甲基)丙烯酰氧基甲基)-3-曱基氧雜環(huán)丁烷、2-((甲基)丙烯酰氧基曱基)-4-乙基氧雜環(huán)丁烷、2-((曱基)丙烯酰氧基甲基)-3-三氟曱基氧雜環(huán)丁烷、2-((甲基)丙烯酰氧基甲基)-3-五氟乙基氧雜環(huán)丁烷、2-((甲基)丙烯酰氧基曱基)-3-苯基氧雜環(huán)丁烷、2-((曱基)丙烯酰氧基甲基)-3,3-二氟氧雜環(huán)丁烷、2-((曱基)丙烯酰氧基甲基)-3,3,4-三氟氧雜環(huán)丁烷、2-((曱基)丙烯酰氧基甲基)-3,3,4,4-四氟氧雜環(huán)丁烷、2-(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)氧雜環(huán)丁烷、2-(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)-3-乙基氧雜環(huán)丁烷、2-(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)-4-乙基氧雜環(huán)丁烷、2-(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)-3-三氟曱基氧雜環(huán)丁烷、2-(2-(甲基)丙烯酰氧基乙基)-3-五氟乙基氧雜環(huán)丁烷、2-(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)-3-苯基氧雜環(huán)丁烷、2-(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)-3,3-二氟氧雜環(huán)丁烷、2-(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)-3,3,4-三氟氧雜環(huán)丁烷、2-(2-(曱基)丙烯酰氧基乙基)-3,3,4,4-四氟氧雜環(huán)丁烷等。這些化合物(a2)可以單獨使用或組合使用。制備共聚物[A]時使用的不飽和化合物，可以是僅包含上述化合物(al)和化合物(a2)的不飽和化合物，或者也可以是除了化合物(al)和化合物(a2)以外還含有其它不飽和化合物(以下稱為"化合物(a3)，，)的不飽和化合物。作為化合物(a3),只要是除上述化合物(al)、(a2)以外的自由基聚合性不飽和化合物就沒有特別限制，可列舉例如曱基丙烯酸烷基酯、丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸環(huán)烷基酯、具有羥基的曱基丙烯酸酯、丙烯酸環(huán)烷基酯、甲基丙烯酸芳基酯、丙烯酸芳基酯、不飽和二羧酸二酯、二環(huán)不飽和化合物、馬來酰亞胺化合物、不飽和芳香族化合物、共輒二烯、下式(I)表示的具有盼性羥基的不飽和化合物；<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>(式(I)中，W是氫原子或碳數(shù)為1~4的烷基，尺2~116各自獨立地是氫原子、羥基或碳數(shù)為1~4的烷基，B是單鍵、-COO-、或-CONH-,m是0~3的整數(shù)。其中，112~116中的至少一個是羥基。)具有四氫呋喃骨架、呋喃骨架、四氫吡喃骨架、吡喃骨架或下式(II)所示骨架的不飽和化合物；<formula>formulaseeoriginaldocumentpage10</formula>(II)(式(II)中，R7是氫原子或甲基。)以及其它不飽和化合物。作為它們的具體例子，作為曱基丙烯酸烷基酯可列舉例如曱基丙烯酸曱酯、甲基丙烯酸乙酯、曱基丙烯酸正丁酯、曱基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、曱基丙烯酸2-乙基己酯、曱基丙烯酸異癸酯、甲基丙烯酸正十二烷基酯、曱基丙烯酸十三烷基酯、曱基丙烯酸正十八烷基酯等；作為丙烯酸烷基酯，可列舉例如丙烯酸曱酯、丙烯酸異丙酯等；作為曱基丙烯酸環(huán)烷基酯，可列舉例如曱基丙烯酸環(huán)己酯、甲基丙烯酸2-曱基環(huán)己酯、甲基丙烯酸三環(huán)[5.2丄02'6]癸烷-8-基酯、曱基丙烯酸三環(huán)[5.2丄02'6]癸烷-8-基氧乙基酯、甲基丙烯酸異水片酯等；作為具有羥基的曱基丙烯酸酯，可列舉例如甲基丙烯酸羥基甲酯、曱基丙烯酸2-羥基乙酯、曱基丙烯酸3-羥基丙酯、甲基丙烯酸4-羥基丁酯、二甘醇單曱基丙烯酸酯、曱基丙烯酸2，3-二羥基丙酯、2-甲基丙烯酰氧乙基糖苷、甲基丙烯酸4-羥基苯酯等；作為丙烯酸環(huán)烷基酯，可列舉例如丙烯酸環(huán)己酯、2-甲基環(huán)己基丙烯酸酯、三環(huán)[5.2丄02'6]癸烷-8-基丙烯酸酯、三環(huán)[5.2丄02'6]癸烷-8-基氧乙基丙烯酸酯、丙烯酸異水片酯等；作為甲基丙烯酸芳基酯，可列舉例如甲基丙烯酸苯酯、曱基丙烯酸千酯等；作為丙烯酸芳基酯，可列舉例如丙烯酸苯酯、丙烯酸芐酯等；作為不飽和二羧酸二酯，可列舉例如馬來酸二乙酯、富馬酸二乙酯、衣康酸二乙酯等；作為二環(huán)不飽和化合物，可列舉例如二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5-曱基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5-乙基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5-甲氧基二環(huán)[2.2.1]庚—2-烯、5—乙氧基二環(huán)[2.2.1]庚—2-烯、5,6—二甲氧基二環(huán)[2.2.1]庚—2-烯、5,6-二乙氧基二環(huán)[2.2.1]庚一2—烯、5—叔丁氧基羰基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5-環(huán)己基氧羰基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5-苯氧基羰基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(叔丁氧基羰基)二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(環(huán)己基氧羰基)二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5-(2，-羥基乙基)二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羥基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(羥基甲基)二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(2，-羥基乙基)二環(huán)[2.2.1]庚-2—烯、5-羥基—5-曱基二環(huán)[2,2.1]庚—2-烯、5—羥基-5-乙基二環(huán)[2.2.l]庚-2-烯、5-羥基甲基—5—甲基二環(huán)[2.2.1]庚-2-烯等；作為馬來酰亞胺化合物，可列舉例如N-苯基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺、N-節(jié)基馬來酰亞胺、N-(4-羥基苯基)馬來酰亞胺、N-(4-羥基節(jié)基)馬來酰亞胺、N-琥珀酰亞胺基-3-馬來酰亞胺苯甲酸酯(N—7々、>>M^、^W—3—71M^KXZ/工一卜)、N-琥珀酰亞胺基-4-馬來酰亞胺丁酸酯(N—7夕、^M^^/P—4-7Wi^HV于k一卜)、N-琥珀酰亞胺基-6-馬來酰亞胺己酸酯(N—只夕、^M^、》P—6—K、力7。口工一卜)、N-琥珀酰亞胺基-3-馬來酰亞胺丙酸酯(N—7夕卜y^^、力P—3-7WfSK7?？谪?。才氺一卜)、N-(9-吖啶基)馬來酰亞胺等；作為不飽和芳香族化合物，可列舉例如苯乙烯、a-甲基苯乙烯、間甲基苯乙烯、對曱基苯乙烯、乙烯基曱苯、對曱氧基苯乙烯等；作為共軛二烯，可列舉例如1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯等；作為上式(I)表示的具有酚性羥基的不飽和化合物，可列舉例如分別用下式(l)~(5)表示的化合物等；<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>(式(1)~(5)中，n是l-3的整數(shù)，R匕R6的定義分別與上式(I)的相同。)作為具有四氫呋喃骨架的不飽和化合物，可列舉例如(曱基)丙烯酸四氫糠酯、2-甲基丙烯酰氧-丙酸四氫糠酯、3-(曱基)丙烯酰氧基四氫呋喃-2-酮等；作為具有呋喃骨架的不飽和化合物，可列舉例如2-曱基-5-(3-呋喃基)-l-戊烯-3-酮、(曱基)丙烯酸糠酯、1-p夫喃-2-丁基-3—烯一2—酉同、1—p夫喃一2—丁基一3—曱氧基一3—烯一2—酉同、6—(2—p夫喃基)—2—甲基—1—己烯—3—酮、6—(2—p夫喃基)—己一1一烯—3—酉同、丙烯酸2—(2-^^喃基)-1—甲基—乙酯、6—(2—吹喃基)-6—甲基一1—庚烯一3—酉同等；作為具有四氫吡喃骨架的不飽和化合物，可列舉例如曱基丙烯酸(四氳p比喃-2-基)曱酉旨、2,6-二曱基-8—(四氫他喃—2—基氧)-辛一1-烯-3-酮、2-曱基丙烯酸四氫吡喃-2-基酯、1-(四氬p比喃-2-氧)一丁1—3—歸一2—酉同等5作為具有吡喃骨架的不飽和化合物，可列舉例如4-(1，4-二氧雜-5—|U<—6—庚烯基)_6—曱基一2—p比喃酉同、4_(1,5—二氧雜-6—氧代-7-辛烯基)-6-曱基-2-敗喃酮等；作為具有上式(II)所示骨架的不飽和化合物，可列舉例如乙二醇單元的重復數(shù)為2~10的聚乙二醇單(曱基)丙烯酸酯、丙二醇單元的重復數(shù)為2~10的聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等；作為其它不飽和化合物，可列舉例如丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、偏氯乙烯、丙烯酰胺、曱基丙烯酰胺、乙酸乙烯酯等。其中，優(yōu)選使用丙烯酸烷基酯、曱基丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸環(huán)烷基酯、馬來酰亞胺化合物、不飽和芳香族化合物、或者上式(I)表示的具有酚性羥基的不飽和化合物或者具有四氬呋喃骨架、呋喃骨架、四氫吡喃骨架、吡喃骨架或上式(II)所示骨架的不飽和化合物，從共聚反應(yīng)性和在堿性顯影液中的溶解性的觀點出發(fā)，特別優(yōu)選苯乙烯、曱基丙烯酸叔丁酯、曱基丙烯酸三環(huán)[5.2丄02'6]癸烷-8-基酯、甲基丙烯酸正十二烷基酯、對曱氧基苯乙烯、2-曱基環(huán)己基丙烯酸酯、N-苯基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺、N-(3,5-二曱基-4-羥基芐基)甲基丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、乙二醇單元的重復數(shù)為2~10的聚乙二醇單(曱基)丙烯酸酯、3-(曱基)丙烯酰氧基四氫呋喃-2-酮、(曱基)丙烯酸4-羥基千酯、(曱基)丙烯酸4-羥基苯酯、鄰羥基苯乙烯、對羥基苯乙烯或a-甲基對羥基苯乙烯。這些化合物(a3)可以單獨或組合使用。本發(fā)明中使用的共聚物[A],以由化合物(al)、(a2)和(a3)衍生的重復單元的總計為基準，優(yōu)選含有由化合物(al)衍生的構(gòu)成單元5~40重量％，特別優(yōu)選含有5~25重量％。如果使用該構(gòu)成單元小于5重量％的共聚物，則在顯影工序時難以溶解于堿性水溶液中，另一方面，該構(gòu)成單元超過40重量％的共聚物有在堿性水溶液中的溶解性過大的趨勢。本發(fā)明中使用的共聚物[A],以由化合物(al)、(a2)和(a3)衍生的重復單元的總計為基準，優(yōu)選含有由化合物(a2)衍生的構(gòu)成單元10~80重量％,特別優(yōu)選含有30~80重量％。該構(gòu)成單元小于10重量%時，有所得層間絕緣膜、微透鏡的耐熱性、表面硬度和對剝離液耐受性降低的趨勢，另一方面，該構(gòu)成單元的量超過80重量％時，有放射線敏感性樹脂組合物的保存穩(wěn)定性降低的趨勢。本發(fā)明中使用的共聚物[A],以由化合物(al)、(a2)和(a3)衍生的重復單元的總計為基準，優(yōu)選含有由化合物(a3)衍生的構(gòu)成單元10~60重量％,特別優(yōu)選含有15-50重量％。該構(gòu)成單元小于10重量%時，有時放射線敏感性樹脂組合物的保存穩(wěn)定性不夠，另一方面，該構(gòu)成單元的量超過60重量％時，有時所得層間絕緣膜、微透鏡的耐熱性、表面硬度和對剝離液耐受性不夠。作為在本發(fā)明中使用的共聚物[A]的優(yōu)選具體例子，可列舉例如曱基丙烯酸/甲基丙烯酸三環(huán)[5.2丄02'6]癸烷-8-基酯/2-曱基環(huán)己基丙烯酸酯/甲基丙烯酸縮水甘油酯/N-(3，5-二甲基-4-羥基千基)曱基丙烯酰胺共聚物、曱基丙烯酸/曱基丙烯酸四氫糠酯/甲基丙烯酸縮水甘油酯/N-環(huán)己基馬來酰亞胺/曱基丙烯酸十二烷基酯/oc-甲基對羥基苯乙烯共聚物、苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸縮水甘油酯/(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸三環(huán)[5.2丄02'6]癸烷-8-基酯共聚物、曱基丙烯酸/曱基丙烯酸三環(huán)[5.2丄02'6]癸烷-8-基酯/N-環(huán)己基馬來酰亞胺/曱基丙烯酸縮水甘油酯/苯乙烯共聚物、曱基丙烯酸/甲基丙烯酸3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲基酯/苯乙烯/甲基丙烯酸三環(huán)[5.2丄02'6]癸烷-8-基酯共聚物等。在本發(fā)明中使用的共聚物[A]的聚苯乙烯換算重均分子量(以下稱為"Mw")優(yōu)選為2xl03~lxl05,更優(yōu)選為5xl03~5xl04。如果Mw小于2x103,則有時顯影余地不充分，有所得涂膜的殘膜率等降低，或所得層間絕緣膜或微透鏡的圖案形狀、耐熱性等變差的情況，另一方面，如果超過lxl05，則有靈敏度降低或圖案形狀變差的情況。此外，Mw與聚苯乙烯換算數(shù)均分子量(以下稱為"Mn，，)之比即分子量分布(以下稱為"Mw/Mn")優(yōu)選為5.0以下，更優(yōu)選為3.0以下。如果Mw/Mn超過5.0，則有所得層間絕緣膜或微透鏡的圖案形狀變差的情況。含有上述共聚物[A]的放射線敏感性樹脂組合物，可以在顯影時不產(chǎn)生顯影殘留地容易地形成規(guī)定的圖案形狀。作為共聚物[A]的制造中所用的溶劑，可列舉例如醇、醚、二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、二甘醇、丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇烷基醚丙酸酯、芳香烴、酮、酯等。作為它們的具體例子，作為醇，可列舉例如甲醇、乙醇、卡醇、2-苯基乙醇、3-苯基-1-丙醇等；作為醚，可列舉四氫呔喃等；作為二醇醚，可列舉例如乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚等；作為乙二醇烷基醚乙酸酯，可列舉例如曱基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯等；作為二甘醇，可列舉例如二甘醇單曱醚、二甘醇單乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、二甘醇乙基曱基醚等；作為丙二醇單烷基醚，可列舉例如丙二醇單曱醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚等；作為丙二醇烷基醚乙酸酯，可列舉例如丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、丙二醇丁醚乙酸酯等；作為丙二醇烷基醚丙酸酯，可列舉例如丙二醇曱醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯、丙二醇丁醚丙酸酯等；作為芳香爛，可列舉例如曱苯、二曱苯等；作為酮，可列舉例如曱基乙基酮、環(huán)己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮等；作為酯，可列舉例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸甲酯、羥基乙酸乙酯、羥基乙酸丁酯、乳酸曱酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯、3-羥基丙酸丙酯、3-羥基丙酸丁酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、曱氧基乙酸乙酯、曱氧基乙酸丙酯、曱氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酉旨、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸曱酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-曱氧基丙酸乙酯、2-曱氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸曱酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-曱氧基丙酸丙酯、3-曱氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸曱酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸曱酯、3-丁氧基丙酸乙酯、3-丁氧基丙酸丙酯、3-丁氧基丙酸丁酯等。在這些溶劑中，優(yōu)選乙二醇烷基醚乙酸酯、二甘醇、丙二醇單烷基醚或丙二醇烷基醚乙酸酯，特別優(yōu)選二甘醇二曱醚、二甘醇乙基曱基醚、丙二醇曱基醚、丙二醇乙基醚、丙二醇曱醚乙酸酯或3-曱氧基丙酸曱酯。作為共聚物[A]的制造中使用的聚合引發(fā)劑，可以使用通常作為自由基聚合引發(fā)劑已知的聚合引發(fā)劑。可列舉例如2,2，-偶氮二異丁腈、2,2，-偶氮雙-(2,4-二曱基戊腈)、2,2，-偶氮雙-(4-曱氧基-2,4-二甲基戊腈)等偶氮化合物；過氧化苯甲酰、過氧化月桂酰、過氧化叔戊酸叔丁酯、l，l，-雙-(叔丁基過氧)環(huán)己烷等有機過氧化物；過氧化氫等。作為自由基聚合引發(fā)劑使用過氧化物時，可以將過氧化物與還原劑一起使用作為氧化還原型引發(fā)劑。在共聚物[A]的制造中，為了調(diào)節(jié)分子量，可以使用分子量調(diào)節(jié)劑。作為其具體例子，可列舉例如氯仿、四溴化碳等卣代烴；正己硫醇、正辛石危醇、正十二烷基石克醇，叔十二烷基硫醇、巰基乙酸等硫醇化合物；二曱基黃原酸基硫化物(^y于^牛廿〉卜y〉;ui/:7^h0、二異丙基黃原酸基二硫化物('xv:/口匕^牛廿〉卜y》;^幾:^卜*)等黃原酸基(牛廿〉卜y〉)化合物；辟品油烯、a-曱基苯乙烯二聚體等?！窧l成分在本發(fā)明中使用的[B]成分，是通過照射放射線而產(chǎn)生羧酸的1,2-重氮醌化合物，可以使用酚性化合物或醇性化合物(以下稱為"母核")與1,2-重氮萘醌磺酰卣(1,2-于7卜年/》27、^^W爾y酸八7^K)的縮合物。作為上述母核，可列舉例如三羥基二苯甲酮、四羥基二苯甲酮、五羥基二苯曱酮、六羥基二苯曱酮、(多羥基苯基)烷烴及其它母核。作為它們的具體例子，作為三羥基二苯曱酮，可列舉例如2,3,4-三羥基二苯甲酮、2，4,6-三羥基二苯曱酮等；作為四羥基二苯甲酮，可列舉2,2，,4，4，-四羥基二苯甲酮、2,3,4,3，-四羥基二苯曱酮、2,3,4,4，-四羥基二苯曱酮、2,3,4,2，-四羥基-4，-曱基二苯曱酮、2,3,4,4，-四輕基-3，-曱氧基二苯曱酮等；作為五羥基二苯甲酮，可列舉例如2,3,4,2，,6'-五羥基二苯曱酮等；作為六羥基二苯甲酮，可列舉例如2,4,6,3，，4，，5，-六羥基二苯曱酮、3,4,5,3，,4，，5，-六羥基二苯曱酮等；作為(多羥基苯基)烷烴，可列舉例如雙(2,4-二羥基苯基)曱烷、雙(對羥基苯基)甲烷、三(對羥基苯基)曱烷、l，l,l-三(對羥基苯基)乙烷、雙(2,3,4-三羥基苯基)曱烷、2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷、1,1,3-三(2,5—二甲基一4-羥基苯基)一3-苯基丙烷、4,4,一[1—[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚、雙(2,5-二曱基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基曱烷、3,3,3，,3，-四曱基-U，-螺二茚-5,6,7,5，,6，,7，-己醇、2,2,4-三曱基—7,2，,4，—三羥基黃烷等；作為其它母核，可列舉例如2-甲基-2-(2,4-二羥基苯基)-4-(4_羥基苯基)一7—羥基色滿、2—[雙{(5—異丙基—4一羥基—2-曱基)苯基}甲基]、1一[1一(3—{1-(4—羥基苯基)—1一甲基乙基}—4,6-二羥基苯基)_1—曱基乙基]-3—(1—(3—U—(4—羥基苯基)一1—曱基17乙基}_4,6-二羥基苯基)-1-曱基乙基)苯、4,6-雙{1-(4-羥基苯基)-1-曱基乙基〉_1,3-二羥基苯等。此外，還適于使用將上述例示的母核的酯鍵變成酰胺鍵得到的1,2-重氮萘醌磺酰胺類，例如2,3,4-三羥基二苯曱酮-1,2-重氮萘醌-4-磺酰胺等。在這些母核中，優(yōu)選2,3,4,4，-四羥基二苯曱酮、4,4，-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚。作為1,2-重氮萘醌磺酰囟，優(yōu)選1,2-重氮萘醌磺酰氯，作為其具體例子，可列舉1,2-重氮萘醌-4-磺酰氯和1,2-重氮萘醌-5-磺酰氯，其中優(yōu)選1,2-重氮萘醌-5-磺酰氯。在縮合反應(yīng)中，相對于酚性化合物或醇性化合物中的OH基數(shù)，可以使用優(yōu)選相當于30~85摩爾％、更優(yōu)選相當于50~70摩爾％的1,2-重氮萘醌石黃酰鹵?？s合反應(yīng)可以通過公知的方法來實施。這些[B]成分可以單獨使用或?qū)煞N以上組合使用。相對于100重量份的共聚物[A],[B]成分的使用比例優(yōu)選為5~100重量份，更優(yōu)選為10~50重量份。該比例小于5重量份時，有時放射線的照射部分和未照射部分在作為顯影液的堿性水溶液中的溶解度差別小，圖案形成變得困難，此外，有時所得層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性和耐溶劑性不夠。另一方面，該比例超過100重量份時，有時放射線照射部分在上述堿性水溶液中的溶解度不夠，難以進行顯影。rci成分在本發(fā)明中使用的[c]成分，是具有脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基且沒有羧基(或酸酐基)的化合物。在此，脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基是指，具有脂環(huán)式結(jié)構(gòu)和環(huán)氧乙烷基結(jié)構(gòu)這兩者的基團。脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基，優(yōu)選是具有脂環(huán)式結(jié)構(gòu)和鍵合于構(gòu)成該脂環(huán)式結(jié)構(gòu)的碳原子中鄰接的兩個碳原子的氧原子的原子團，作為其例子，可列舉下式(ni-i)~(m-3)分別表示的基團等。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage19</formula>作為具有脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基的[C]成分，可列舉例如(cl)具有脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基且沒有羧基的不飽和化合物(以下稱為"化合物(cl)")以及(c2)沒有脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基且沒有羧基的不飽和化合物(以下稱為"化合物(c2)")的共聚物(以下稱為"共聚物[C]")、具有脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基且沒有羧基的其它化合物等。作為用于合成共聚物[C]的化合物(cl),可列舉例如3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲基(甲基)丙烯酸酯、3,4-環(huán)氧環(huán)己基乙基(甲基)丙烯酸酯、3，4-環(huán)氧環(huán)己基正丙基(甲基)丙烯酸酯、3,4-環(huán)氧環(huán)己基異丙基(曱基)丙烯酸酯、1-乙烯基-2,3-環(huán)氧環(huán)己烷、1-乙烯基-3,4-環(huán)氧環(huán)己烷、1-烯丙基-2,3-環(huán)氧環(huán)己烷、1-烯丙基-3,4-環(huán)氧環(huán)己烷等。在這些化合物中，從聚合性方面出發(fā)，優(yōu)選使用3,4-環(huán)氧環(huán)己基曱基(甲基)丙烯酸酯。作為化合物(c2),可以使用在上述作為化合物(a2)和(a3)所例示的不飽和化合物中不屬于化合物(cl)的化合物。其中優(yōu)選使用丙烯酸烷基酯，甲基丙烯酸烷基酯，曱基丙烯酸環(huán)烷基酯，馬來酰亞胺化合物，不飽和芳香族化合物，上式(I)表示的具有酚性羥基的不飽和化合物，具有縮水甘油基骨架、四氫呋喃骨架、呋喃骨架、四氬吡喃骨架、吡喃骨架或上式(II)所示骨架的不飽和化合物；從共聚反應(yīng)性的觀點出發(fā)，特別優(yōu)選曱基丙烯酸縮水甘油酯、對乙烯基芐基縮水甘油醚、苯乙烯、曱基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸三環(huán)[5.2丄02'6]癸烷-8-基酯、甲基丙烯酸正十二烷基酯、對甲氧基苯乙烯、2-甲基環(huán)己基丙烯酸酯、N-苯基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺、N-(3,5-二甲基-4-輕基節(jié)基)曱基丙烯酰胺、(曱基)丙烯酸四氫糠酯、乙二醇單元的重復數(shù)為2~10的聚乙二醇單(曱基)丙烯酸酯、3-(甲基)丙烯酰氧基四氫呋喃-2-酮、(曱基)丙烯酸4-羥基千酯、(曱基)丙烯酸4-羥基苯酯、鄰羥基苯乙烯、對羥基苯乙烯或a-甲基對羥基苯乙烯。作為共聚物[C]，以由化合物(cl)和(c2)衍生的重復單元的總計為基準，優(yōu)選含有由化合物(cl)衍生的構(gòu)成單元5~90重量％,特別優(yōu)選含有10~80重量％。該構(gòu)成單元小于5重量％時，有所得層間絕緣膜、微透鏡的耐熱性、表面硬度和對剝離液耐受性降低的趨勢，另一方面，該構(gòu)成單元的量超過卯重量％時，有放射線敏感性樹脂組合物的保存穩(wěn)定性降低的趨勢。共聚物[C]的聚苯乙烯換算重均分子量(Mw)優(yōu)選為2x10、X104,更優(yōu)選為5x103~3x104。共聚物[C]可以按照上述共聚物[A]的合成方法，通過將化合物(cl)和(c2)在溶劑中、在聚合引發(fā)劑的存在下進行自由基聚合來制備。應(yīng)說明的是，共聚物[C]在具有環(huán)氧乙烷基方面與上述共聚物[A]是5在本發(fā):月C作為[c]成分使用口的具有脂環(huán)一式環(huán):ii乙烷基且k有疑基的其它化合物，可列舉例如下式(6)~(8)分別表示的化合物。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage21</formula>(式(7)中的a、b、c和d各自獨立地表示1~20的整數(shù)。)作為這些化合物的市售品，可列舉例如七口豐廿汀H2021P、七口豐廿^H3000、工求U—HGT401、EHPE3150、EHPE3150E(以上為夕Vir/Wt學工業(yè)(抹)制)等。相對于100重量份的聚合物[A],本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物優(yōu)選含有[C]成分1~40重量份，特別優(yōu)選含有5~30重量份。如果[C]成分的含量小于l重量份，則所得層間絕緣膜、微透鏡的耐熱性、表面硬度和對剝離液耐受性有降低的趨勢，另一方面，如果[C]成分的含量超過40重量份，則在堿性顯影液中的溶解性有降低的趨勢。其它成分本發(fā)明的放射線敏感性組合物含有上述的共聚物[A]、[B]成分和[C]成分作為必須成分，但此外，根據(jù)需要，可以含有[D]感熱性酸生成化合物(感熱性酸生成化合物)、[E]具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的聚合性化合物、[F]共聚物[A]和共聚物[C]以外的環(huán)氧樹脂、[G]密合助劑(密著助剤)或[H]表面活性劑。上述[D]感熱性酸生成化合物可以用于進一步提高所得層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、硬度。作為其例子，可列舉例如锍鹽、苯并噻唑《岳鹽(《〉、/于7、/二々厶塩.)、銨鹽、4奔鹽等餘)鹽。作為上述锍鹽，可列舉例如烷基锍鹽、千基锍鹽、二節(jié)基锍鹽、取代爺基锍鹽、苯并噻唑錄鹽等。作為它們的具體例子，作為烷基锍鹽，可列舉例如4-乙酰苯基二甲基锍六氟銻酸鹽、4-乙酰氧基苯基二曱基锍六氟砷酸鹽、二甲基-4-(芐氧基羰基氧基)苯基锍六氟銻酸鹽、二曱基-4-(苯曱酰氧基)苯基锍六氟銻酸鹽、二曱基-4-(苯甲酰氧基)苯基锍六氟砷酸鹽、二曱基-3-氯-4-乙酰氧基苯基锍六氟銻酸鹽等；作為芐基锍鹽，可列舉例如芐基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、節(jié)基-4-羥基苯基曱基锍六氟磷酸鹽、4-乙酰氧基苯基千基曱基锍六氟銻酸鹽、千基-4-甲氧基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、千基-2-甲基-4-羥基苯基曱基锍六氟銻酸鹽、千基-3-氯-4-羥基苯基甲基锍六氟砷酸鹽、4-曱氧基節(jié)基-4-羥基苯基甲基锍六氟磷酸鹽等；作為二芐基锍鹽，可列舉例如二芐基-4-羥基苯基锍六氟銻酸鹽、二節(jié)基-4-羥基苯基锍六氟磷酸鹽、4-乙酰氧基苯基二節(jié)基锍六氟銻酸鹽、二千基-4-甲氧基苯基锍六氟銻酸鹽、二千基-3-氯-4-羥基苯基锍六氟砷酸鹽、二節(jié)基-3-曱基_4-羥基-5-叔丁基苯基锍六氟銻酸鹽、千基-4-甲氧基節(jié)基-4-羥基苯基锍六氟磷酸鹽等；作為取代芐基锍鹽，可列舉例如對氯芐基_4-羥基苯基曱基锍六氟銻酸鹽、對硝基節(jié)基-4-羥基苯基曱基锍六氟銻酸鹽、對氯節(jié)基-4-羥基苯基曱基锍六氟磷酸鹽、對硝基節(jié)基-3-曱基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、3,5-二氯千基-4-羥基苯基曱基锍六氟銻酸鹽、鄰氯芐基-3-氯-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽等；作為苯并噻唑錯鹽，可列舉例如3-芐基苯并噻唑錯六氟銻酸鹽、3-千基苯并噻唑錨六氟磷酸鹽、3-節(jié)基苯并噻唑絲四氟硼酸鹽、3-(對曱氧基芐基)苯并噻唑錯六氟銻酸鹽、3-卡基-2-甲基硫代苯并噻唑4t六氟銻酸鹽(3—x》y/P—2—>于^于才《>^/于7、/-々厶八年寸7^才口7y于千氺一卜)、3-千基-5-氯苯并噻唑錯六氟銻酸鹽等。其中，優(yōu)選使用锍鹽或苯并噻唑錄鹽，特別優(yōu)選使用4-乙酰氧基苯基二甲基锍六氟砷酸鹽、節(jié)基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、4-乙酰氧基苯基千基曱基锍六氟銻酸鹽、二千基-4-羥基苯基锍六氟銻酸鹽、4-乙酰氧基苯基節(jié)基锍六氟銻酸鹽或3-節(jié)基苯并噻唑錨六氟銻酸鹽。作為它們的市售品，可列舉例如廿>工吖FSI-L85、廿〉工吖HSI陽L110、廿〉工吖HSI-L145、廿XH一HSI-L150、廿>工—KSI-L160(以上為三新化學工業(yè)(抹)制)等。相對于100重量份的共聚物[A]，本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物中[D]成分的使用比例優(yōu)選為20重量份以下，更優(yōu)選為5重量份以下。[D]成分的使用量超過20重量份時，有時在形成涂膜工序中析出析出物，給涂膜形成帶來障礙。作為上述[E]具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的聚合性化合物(以下有時稱為"[E]成分")，可適合列舉例如單官能(甲基)丙烯酸酯、二官能(甲基)丙烯酸酯或三官能以上的(甲基)丙烯酸酯。作為上述單官能(甲基)丙烯酸酯，可列舉例如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(曱基)丙烯酸卡必醇酯、(甲基)丙烯酸異水片酯、(曱基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-2-羥基丙基酞酸酯等。作為它們的市售品，可列舉例如7口二、:/夕XM-lOl、7口二、乂夕7M-lll、7口二、乂夕7M-114(以上為東亞合成(才朱)制)，KAYARADTC-110S、KAYARADTC-120S(以上為日本化藥(抹)制)，tf乂〕一卜158、tfX〕一卜2311(以上為大阪有機化學工業(yè)(抹)制))等。作為上述二官能(曱基)丙烯酸酯，可列舉例如乙二醇(甲基)丙烯酸酯、I,6-己二醇二(曱基)丙烯酸酯、I,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(曱基)丙烯酸酯、四甘醇二(曱基)丙烯酸酯、雙苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯、雙苯氧基乙醇藥二丙烯酸酯等。作為它們的市售品，可列舉例如7口二、乂夕XM-210、7口二、乂夕7M-240、7口二、乂夕只M-6200(以上為東亞合成(才木)制)，KAYARADHDDA、KAYARADHX-220、KAYARADR-604(以上為日本化藥(林)制)，tfX〕一卜260、bfX〕一卜312、tf7〕一卜335HP(以上為大阪有機化學工業(yè)(林)制))等。作為上述三官能以上的(甲基)丙烯酸酯，可列舉例如三羥甲基丙烷三(曱基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三((曱基)丙烯酰氧基乙基)磷酸酯、季戊四醇四(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(曱基)丙烯酸酯等。作為其市售品，可列舉例如7口二、y夕7M-309、7口二、乂夕7M-400、7口二、乂夕7M畫405、7口二、v夕7M隱450、7口二、乂夕7M-7100、7口二、:/夕7M-8030、7口二、乂夕7M國8060(以上為東亞合成(4朱)制)，KAYARADTMPTA、KAYARADDPHA、KAYARADDPCA國20、KAYARADDPCA-30、KAYARADDPCA-60、KAYARADDPCA-120(以上為日本化藥(才朱)制)，t:'X〕一卜295、tfX3—卜300、t'7::—卜360、tfX3—卜GPT、tfxn—卜3PA、hfX〕一卜400(以上為大阪有機化學工業(yè)(林)制)等。其中，優(yōu)選使用三官能以上的(甲基)丙烯酸酯，其中特別優(yōu)選三羥曱基丙烷三(曱基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯或二季戊四醇六(曱基)丙烯酸酯。這些單官能、二官能或三官能以上的(曱基)丙烯酸酯可以單獨或組合使用。相對于100重量份的共聚物[A],本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物中[E]成分的使用比例優(yōu)選為50重量份以下，更優(yōu)選為30重量份以下。通過以如此的比例含有[E]成分，可以提高由本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物得到的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性和表面硬度。如果該使用量超過50重量份，則有時在基板上形成放射線敏感性樹脂組合物的涂膜的工序中產(chǎn)生膜粗糙(膽荒ti)。上述[F]共聚物[A]和共聚物[C]以外的環(huán)氧樹脂(以下有時稱為"[F]成分")，只要對相容性沒有影響，對其種類就沒有限定。可優(yōu)選列舉出雙酚A型環(huán)氧樹脂、線性酚醛環(huán)氧樹脂(7工乂一/lV求，5/夕型工求年、乂樹脂)、曱酚線型酚醛環(huán)氧樹脂(夕^/一/>/求，，夕型工求年V樹脂)、縮水甘油酯型環(huán)氧樹脂、縮水甘油胺型環(huán)氧樹脂、雜環(huán)式環(huán)氧樹脂、將曱基丙烯酸縮水甘油酯進行(共)聚合而得的樹脂等。其中，特別優(yōu)選雙酚A型環(huán)氧樹脂、曱酚線型酚醛環(huán)氧樹脂或縮水甘油酯型環(huán)氧樹脂。本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物中[F]成分的使用比例，相對于100重量份的共聚物[A],優(yōu)選為30重量份以下。通過以如此的比例含有[F]成分，可以進一步提高由本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物得到的保護膜或絕緣膜的耐熱性和表面硬度。如果該比例超過30重量份，則有時在基板上形成放射線敏感性樹脂組合物的涂膜時涂膜的膜厚均一性變得不充分。應(yīng)說明的是，上述的共聚物[A]、共聚物[C]也可以稱為"環(huán)氧樹脂"，但[F]成分在不具有堿可溶性這一點上與共聚物[A]不同，在不具有脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基這一點上與共聚物[C]不同。為了提高涂布性，本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物中可以含有[G]表面活性劑。在此，作為[G]表面活性劑，可以適合使用氟系表面活性劑、硅氧烷系表面活性劑或非離子系表面活性劑。作為氟系表面活性劑的具體例子，可列舉例如1，1,2，2-四氟辛基(1,1,2,2-四氟丙基)醚、1,1,2，2-四氟辛基己基醚、八乙二醇二(l,1,2,2-四氟丁基)醚、六乙二醇(l,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚、八丙二醇二(l,1,2,2-四氟丁基)醚、六丙二醇二(l,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚、全氟十二烷基磺酸鈉、1,1,2，2,8,8,9，9,10,10-十氟十二;t克、1,1,2,2,3,3_六氟務(wù)5》克等，除此之外，還可以列舉氟代烷基苯磺酸鈉、氟代烷基氧乙烯醚(7少才口7/p年少才年、y工^i^y工一亍/p)、氟代烷基銨碘化物、氟代烷基聚氧乙烯醚、全氟代烷基聚氧乙醇、全氟代烷基烷氧基化物、氟系烷基酯等。作為它們的市售品，可列舉例如BM-IOOO、BM-1100(以上為BMChemie公司制)，乂力77、V夕F142D、乂力77、乂夕F172、乂力77、乂夕F173、乂力:77、乂夕F183、^力:777夕F178、乂力77，夕F191、乂力777夕F471(以上為大日本^V年化學工業(yè)(林)制)，7口，一HFC-170C、FC誦171、FC-430、FC-431(以上為住友7y—工厶(抹)制)，廿一7口〉S-112、廿一7口〉S畫113、廿一7口〉S國131、廿一7口〉S-141、廿一7口〉S-145、廿一7口〉S-382、廿一7口/SC-101、廿一7口〉SC-102、廿一7口〉SC陽103、廿一7口〉SC-104、廿一:7口〉SC國105、廿一7口〉SC國106(以上為旭硝子(株)制)，工:7卜、v7EF301、工7卜、v:7。EF303、工7卜、v:/EF352(以上為新秋田化成(林)制)等。作為上述硅氧烷系表面活性劑，可列舉例如以DC3PA、DC7PA、FS誦1265、SF-8428、SH11PA、SH21PA、S腦PA、SH29PA、SH30PA、SH國190、SH-193、SZ國6032(以上為東l/y^n—二/夕、>1)〕一〉(抹)制)，TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(以上為乇,z^v:/.,:7才一7y7.7亍];7W乂、'、:^r/《y合同會社制)等商品名進行市售的表面活性劑。作為非離子系表面活性劑，可列舉例如聚氧乙烯十二烷基醚、聚氧乙烯十八烷基醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧乙烯烷基醚；聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯芳基醚；聚氧乙烯二月桂酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯等聚氧乙烯二烷基酯等，除此之外，可以使用(曱基)丙烯酸系共聚物求U7口一No.57、求U7口一No.95(以上為共榮社化學(抹)制)等。這些表面活性劑可以單獨使用或組合2種以上使用。在本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物中，這些[G]表面活性劑相對于100重量份的共聚物[A],優(yōu)選使用5重量份以下，更優(yōu)選使用2重量份以下。[G]表面活性劑的使用量超過5重量份時，有時在基板上形成涂膜時會容易產(chǎn)生涂膜的膜粗糙。進而，在本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物中，為了提高與基體的接合性，可以使用[H]接合助劑。作為[H]接合助劑，優(yōu)選使用官能性硅烷偶聯(lián)劑，可列舉具有例如羧基、甲基丙烯?；?、異氰酸酯基、環(huán)氧乙烷基等反應(yīng)性取代基的硅烷偶聯(lián)劑。具體可列舉三甲氧基曱硅烷基苯甲酸、Y-曱基丙烯酰氧基丙基三曱氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三曱氧基硅烷、Y-異氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、Y-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、P-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷等。在本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物中，這樣的[H]接合助劑相對于100重量份的共聚物[A],優(yōu)選使用20重量份以下，更優(yōu)選使用10重量份以下。接合助劑的量超過20重量份時，有時在顯影工序中容易產(chǎn)生顯影殘留。放射線敏感性樹脂組合物本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物通過將上述共聚物[A]、[B]成分和[C]成分以及如上任意添加的其它成分均勻混合來調(diào)制。通常，本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物優(yōu)選溶解于適當?shù)娜軇┲幸匀芤籂顟B(tài)使用。例如，可以通過將共聚物[A]、[B]成分和[C]成分以及如上任意添加的其它成分以規(guī)定的比例混合來調(diào)制溶液狀態(tài)的放射線敏感性樹脂組合物。作為本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物的調(diào)制中所使用的溶劑，可使用均一地溶解共聚物[A]、[B]成分和[C]成分以及任意配合的其它成分的各成分、且不與上述各成分反應(yīng)的溶劑。作為這樣的溶劑，可以列舉作為能用于制造上述共聚物[A]的溶劑所例示的溶劑。在這樣的溶劑中，從各成分的溶解性、與各成分的反應(yīng)性、形成涂膜的容易性等觀點出發(fā)，優(yōu)選使用醇、二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、酯或二甘醇。其中，可以特別優(yōu)選使用節(jié)醇、2-苯基乙醇、3-苯基-l-丙醇、乙二醇單丁醚乙酸酯、二甘醇單乙醚乙酸酯、二甘醇二乙基醚、二甘醇乙基曱基醚、二甘醇二曱基醚、丙二醇單曱醚、丙二醇單曱醚乙酸酯、甲氧基丙酸曱酯或乙氧基丙酸乙酯。進而，為了提高膜厚的面內(nèi)均一性，可以與上述溶劑一起并用高沸點溶劑。作為能夠并用的高沸點溶劑，可列舉例如n-曱基曱酰胺、n,n-二甲基甲酰胺、n-甲基甲酰苯胺、n-甲基乙酰胺、n，n-二甲基乙酰胺、n-曱基吡咯烷酮、二甲基亞砜、千基乙基醚、二己基醚、丙酮基丙酮、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、乙酸千酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來酸二乙酯、y-丁內(nèi)酯、碳酸亞乙酯、碳酸亞丙酯、苯基溶纖劑乙酸酯等。其中，優(yōu)選n-曱基吡咯烷酮、y-丁內(nèi)酯或n,n-二曱基乙酰胺。作為本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物的溶劑，并用高沸點溶劑時，其使用量相對于溶劑總量可以設(shè)為50重量％以下，優(yōu)選設(shè)為40重量％以下，進一步優(yōu)選設(shè)為30重量％以下。高沸點溶劑的使用量如果超過該使用量，則有時涂膜的膜厚均一性、靈敏度和殘膜率會降低。將本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物作為溶液狀態(tài)進行調(diào)制時，溶劑以外的成分(即共聚物[A]、[B]成分和[C]成分以及任意添加的其它成分的總計量)在溶液中所占的比例(固體成分濃度)，可以根據(jù)使用目的、所希望的膜厚的值等任意地設(shè)定，但優(yōu)選為5~50重量％,更優(yōu)選為10~40重量％,進一步優(yōu)選為15~35重量％。如此調(diào)制成的組合物溶液可以用孔徑為0.2|im左右的微孔濾器等進行過濾后供給使用。層間絕緣膜、微透鏡的形成接著，對使用本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物形成本發(fā)明的層間絕緣膜、微透鏡的方法進行描述。本發(fā)明的層間絕緣膜或微透鏡的形成方法以下述順序包括以下的工序。(1)在基板上形成本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物的涂膜的工序，(2)對該涂膜的至少一部分照射放射線的工序，(3)顯影工序，以及(4)加熱工序。以下，對本發(fā)明的層間絕緣膜或微透鏡的形成方法的各工序進行說明。(1)在基板上形成本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物的涂膜的工序在上述(1)的工序中，將本發(fā)明的組合物溶液涂布在基板表面，優(yōu)選通過進行預烘除去溶劑，形成放射線敏感性樹脂組合物的涂膜。作為能夠使用的基板的種類，可列舉例如玻璃基板、硅基板和在它們的表面形成了各種金屬的基板等。作為組合物溶液的涂布方法，沒有特別限定，可以采用例如噴涂法、輥涂法、旋轉(zhuǎn)涂布法(旋涂法)、縫模涂布法(7D、乂卜y^塗布法)、棒涂布法(八'一塗布法)、噴墨法等適宜的方法，特別優(yōu)選旋涂法或縫模涂布法。預烘的條件根據(jù)組合物溶液中所含有的各成分的種類、使用比例等而不同，可以_沒為例如60~ll(TC下30秒~15分鐘左右。作為所形成的涂膜的膜厚，作為預烘后的值，形成層間絕緣膜時優(yōu)選為例如3~6|im,形成樣i透4竟時優(yōu)選為例如0.5~3|im。(2)對該涂膜的至少一部分照射放射線的工序在上述(2)的工序中，介由具有規(guī)定圖案的掩模對所形成的涂膜照射放射線后，用顯影液進行顯影處理，除去放射線照射部分，由此形成圖案。作為此時所用的放射線，可列舉例如紫外線、遠紫外線、X射線、帶電粒子束等。作為上述紫外線，可列舉例如g線(波長436nm)、i線(波長365nm)等。作為遠紫外線可列舉例如KrF準分子激光等。作為X射線，可列舉例如同步加速器放射線等。作為帶電粒子束，可列舉例如電子束等。其中，優(yōu)選紫外線，其中特別優(yōu)選包含g線和i線中的至少一種的放射線。作為曝光量，形成層間絕緣膜時，優(yōu)選為50~l,500J/m2，形成微透鏡時，優(yōu)選為50~2,000J/m2。(3)顯影工序作為顯影處理中所用的顯影液，可以使用例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、硅酸鈉、正硅酸鈉(乂夕亇吖酸于卜U々厶)、氨、乙胺、正丙胺、二乙胺、二乙基氨基乙醇、二正丙胺、三乙胺、甲基二乙基胺、二曱基乙醇胺、三乙醇胺、氬氧化四曱銨、氪氧化四乙銨、吡咯、艱咬、1，8-二氮雜二環(huán)[5.4.0]-7-十一烯、1,5-二氮雜二環(huán)[4.3.0]-5-壬烷等的石咸U咸性化合物)的水溶液。此外，可以將在上述石咸性化合物的水溶液中添加適量的曱醇、乙醇等水溶性有機溶劑、表面活性劑得到的水溶作為顯影方法，可以利用例如盛液法(液盛D法)、浸漬法、搖動浸漬法、噴淋法等適宜的方法。優(yōu)選的顯影時間根據(jù)組合物的組成而不同，可以設(shè)為例如30-120秒。應(yīng)說明的是，以往已知的放射線敏感性樹脂組合物，由于顯影時間超過最佳值20~25秒左右則形成的圖案會發(fā)生剝離，所以必須嚴格控制顯影時間。但是如果是本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物，即使超過最佳顯影時間30秒以上，也能形成良好的圖案，在產(chǎn)品收率方面有優(yōu)占、(4)力口熱工序如上所述實施的(3)顯影工序后，對于形成圖案后的薄膜，優(yōu)選進行例如利用流水清洗的沖洗處理，進而，優(yōu)選利用高壓水銀燈等全面地照射放射線(后曝光)，由此在進行殘存于該薄膜中的1,2-重氮醌化合物的分解處理后，將該薄膜利用加熱板、烘箱等適宜的加熱裝置進行加熱處理(后烘處理)，由此進行該薄膜的硬化處理。上述后曝光工序中的曝光量優(yōu)選為2,000~5,000J/m2。此外，該硬化處理的加熱溫度為例如120~250°C。加熱時間根據(jù)加熱機器的種類而不同，例如在加熱板上進行加熱處理時可以i殳為5~30分鐘，在烘箱中進行加熱處理時可以設(shè)為30~90分鐘。此時，可以采用進行2次以上加熱工序的分步烘焙法。如此，可以在基板的表面形成對應(yīng)于目的層間絕緣膜或微透鏡的圖案狀薄膜。如上形成的層間絕緣膜和微透鏡由后述的實施例可知，密合性、耐熱性、耐溶劑性、透明性等諸多性能優(yōu)異。層間絕緣膜如上形成的本發(fā)明的層間絕緣膜與基板的密合性良好，耐溶劑性和耐熱性優(yōu)異，具有高的透過率，介電常數(shù)低，所以可以適用作電子部件的層間絕緣膜。微透鏡如上形成的本發(fā)明的微透鏡與基板的密合性良好，耐溶劑性和耐熱性優(yōu)異，而且具有高的透過率和良好的熔融形狀，所以可以適用作固體攝像元件的微透鏡。本發(fā)明的微透鏡的形狀如圖1(a)所示，為半凸透鏡形狀。實施例共聚物「A1的合成例合成例A-l在具有冷凝管、攪拌器的燒瓶中裝入2,2，-偶氮雙(2,4-二曱基戊腈)7重量份和二甘醇乙基甲基醚220重量份。接著裝入曱基丙烯酸20重量份、甲基丙烯酸三環(huán)[5.2丄02'6]癸烷-8-基酯15重量份、N-環(huán)己基馬來酰亞胺20重量份、曱基丙烯酸縮水甘油酯30重量份、苯乙烯15重量份和oc-甲基苯乙烯二聚體3重量份，進行氮置換后，開始緩慢地攪拌。將溶液的溫度升到70°C,將該溫度保持4小時，由此得到含有共聚物[A-l]的聚合物溶液。該聚合物溶液的固體成分濃度(是指聚合物重量占聚合物溶液總重量的比例。下同)為32.0重量％。共聚物[A-l]的聚苯乙烯換算重均分子量(Mw)為10,000,分子量分布(Mw/Mn)為2.3。合成例A國2在具有冷凝管、攪拌器的燒瓶中裝入2,2，-偶氮雙(2,4-二曱基戊腈)8重量份和二甘醇乙基曱基醚220重量份。接著裝入甲基丙烯酸20重量份、甲基丙烯酸3,4-環(huán)氧環(huán)己基曱酯45重量份、苯乙烯10重量份、曱基丙烯酸三環(huán)[5.2丄02'6]癸烷-8-基酯25重量份和ot-曱基苯乙烯二聚體3重量份，進行氮置換后，開始緩慢地攪拌。將溶液的溫度升到70。C,將該溫度保持4小時，由此得到含有共聚物[A-2]的聚合物溶液。該聚合物溶液的固體成分濃度為31.9重量％。共聚物[A-2]的聚苯乙烯換算重均分子量(Mw)為8,800,分子量分布(Mw/Mn)為2.4。共聚物「C1的合成例合成例C-l在具有冷凝管、攪拌器的燒瓶中裝入2,2，-偶氮雙(2,4-二異丁腈)8重量份和二甘醇乙基甲基醚220重量份。接著裝入曱基丙烯酸3,4-環(huán)氧環(huán)己基曱酯50重量份、對乙烯基芐基縮水甘油醚50重量份和a-甲基苯乙烯二聚體4重量份，進行氮置換后，開始緩慢地攪拌。將溶液的溫度升到8(TC,將該溫度保持4小時，由此得到含有共聚物[C-l]的聚合物溶液。該聚合物溶液的固體成分濃度為31.8重量％。共聚物[C-l]的聚苯乙烯換算重均分子量(Mw)為8,000，分子量分布(Mw/Mn)為2,4。合成例C-2在具有冷凝管、攪拌器的燒瓶中裝入2,2，-偶氮雙(2,4-二異丁腈)8重量份和二甘醇乙基甲基醚220重量份。接著裝入甲基丙烯酸3，4-環(huán)氧環(huán)己基甲酯50重量份、曱基丙烯酸對羥基苯酯50重量份和ot-曱基苯乙烯二聚體4重量份，進行氮置換后，開始緩慢地攪拌。將溶液的溫度升到80。C，將該溫度保持4小時，由此得到含有共聚物[C-2]的聚合物溶液。該聚合物溶液的固體成分濃度為32.1重量％。共聚物[C-2]的聚苯乙烯換算重均分子量(Mw)為8,400,分子量分布(Mw/Mn)為2.4。合成例C-331在具有冷凝管、攪拌器的燒瓶中，裝入2,2，-偶氮雙(2,4-二異丁腈)8重量份和二甘醇乙基曱基醚220重量份。接著裝入甲基丙烯酸3,4-環(huán)氧環(huán)己基曱酯50重量份、苯乙烯50重量份和oc-曱基苯乙烯二聚體4重量份，進行氮置換后，開始緩慢地攪拌。將溶液的溫度升到80°C,將該溫度保持4小時，由此得到含有共聚物[C-3]的聚合物溶液。該聚合物溶液的固體成分濃度為31.1重量％。共聚物[C-3]的聚苯乙烯換算重均分子量(Mw)為8，000,分子量分布(Mw/Mn)為2.2。<放射線敏感性樹脂組合物的調(diào)制>實施例1混合作為共聚物[A]的在上述合成例A-1中合成的含有聚合物[A-l]的溶液(相當于聚合物[A-1]100重量份(固體成分)的量)、作為[B]成分的4,4，-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(l.O摩爾)與1，2-重氮萘醌-5-磺酰氯(2.0摩爾)的縮合物[B-1]25重量份以及作為[C]成分的在上述合成例C-1中合成的含有共聚物[C-l]的溶液(相當于聚合物[C-1]30重量份(固體成分)的量)，用二甘醇乙基曱基醚進行稀釋，使得固體成分濃度達到30重量％,然后用口徑為0.2pm的膜濾器進行過濾，由此調(diào)制放射線敏感性樹脂組合物的溶液(S-1)。實施例2~4、比H例1~3作為實施例1中的聚合物[A]、[B]成分和[C]成分，各自使用的種類、量如表l所記載，除此之外，與實施例l同樣地實施，調(diào)制放射線敏感性樹月旨組合物的溶液(S-2)(S-4)和(s-l)(s-3)。應(yīng)說明的是，在實施例4中，除了聚合物[A]、[B]成分和[C]成分之外，進一步添加種類和量如表1所記載的[H]接合助劑。實施例4中的[B]成分的記載表示并用兩種1,2-重氮醌化合物。另外，比較例3中，除了聚合物[A]和[B]成分以外，還使用了表1所記載的種類和量的[F]成分。實施例5在實施例1中，進一步添加[G]SH-28PA(東1/.夕力〕—二>々\>U〕—〉(株)制)，作為稀釋溶劑使用二甘醇乙基曱基醚/丙二醇單曱醚乙酸酯的混合溶液(重量比=6/4)，將溶液的固體成分濃度設(shè)為20重量％,除此以外，與實施例1同樣地實施，調(diào)制放射線敏感性樹脂組合物的溶液(S-5)。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage34</column></row><table>表l中，成分的簡稱分別為如下的含義。共聚物[A]:在合成例A-1中合成的共聚物[A-1][A-2]:在合成例A-2中合成的共聚物[A-2]成分:4,4，-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-曱基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(l.O摩爾)與1,2-重氮萘醌-5-磺酰氯(2.0摩爾)的縮合物:2,3,4,4，-四羥基二苯甲酮(l.O摩爾)與1，2-重氮萘醌-5-磺酰氯(2.44摩爾)的縮合物成分:在合成例C-1中合成的共聚物[C-1][C-2]:在合成例C-2中合成的共聚物[C-2][C-3]:在合成例C-3中合成的共聚物[C-3][C-4]:工求U—FGT401(夕V七;l/化學工業(yè)(抹)制)其它成分:線性酚醛環(huán)氧樹脂EP152(^亇八°〉工求牛>^^:/(抹)制):SH-28PA(東W^々〕一二〉y>U〕一〉(林)制):Y-環(huán)氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷<作為層間絕緣膜的性能評價〉實施例6—10、比4支例4~6使用如上調(diào)制成的放射線敏感性樹脂組合物，如下評價作為層間絕緣膜的各種特性。[靈敏度的評價]在硅基板上，對于實施例6~9和比較例4~6,用旋涂器分別涂布表2所記載的組合物之后，以90。C在加熱板上預烘2分鐘，由此形成膜厚為3.0pm的涂膜。對于實施例10，用縫^t涂布機進行涂布，以15秒達到0.5Torr進行真空干燥后，在90。C在加熱板上預烘2分鐘，由此形成膜厚為3.0|am的涂膜。介由具有規(guī)定圖案的圖案掩模，用(林)年亇乂y制的PLA-501F曝光機(超高壓水銀燈)以曝光時間為變量，對在上述各例中得到的涂膜進行曝光后，用表2所記載濃度的氫氧化四甲銨水溶液在25。C下、使用濃度為0.4重量％的顯影液時用盛液法顯影80秒，用濃度為2.38重量％的顯影液時用盛液法顯影50秒。接著用超純水進行流水清洗1分鐘，然后進行干燥，由此在基板上形成圖案狀薄膜。此時，測定3.0pm的線和間隔(lineandspace)(10比1)的間隔-圖案完全溶解所需要的最小曝光量。將該值作為靈敏度示于表2中。該值為1,000J/m2以下時可以說靈敏度良好。在硅基板上，對于實施例6~9和比較例4-6用旋涂器分別涂布表2所記載的組合物之后，以90。C在加熱板上預烘2分鐘，由此形成膜厚為3.0^m的涂膜。對于實施例10,用縫才莫涂布機進行涂布，以15秒達到0.5Torr進行真空干燥后，以90。C在加熱板上預烘2分鐘，由此形成膜厚為3.0|iim的涂膜。介由具有3.0^im的線和間隔(IO比I)的圖案的掩才莫，使用(林)年卞/y制的PLA-501F曝光機(超高壓水銀燈)，以相當于在上述"[靈敏度的評價]"中測定的靈敏度的值的曝光量對在上述各例中得到的涂膜進行曝光，用表2所記載濃度的氬氧化四甲銨水溶液在25。C下、以顯影時間為變量采用盛液法進行顯影。接著用超純水進行流水清洗1分鐘，然后進行干燥，由此在基板上形成圖案狀薄膜。此時，測定線寬達到3pm所需要的顯影時間，將其作為最佳顯影時間示于表2中。此外，從最佳顯影時間開始進一步繼續(xù)顯影時，測定直到3.0pm的線-圖案剝離為止的時間，作為顯影余地示于表2中。顯影余地的值為30秒以上時可以說顯影余地良好。在硅基板上，對于實施例6~9和比較例4~6，用旋涂器分別涂布表2所記載的組合物之后，以9CTC在加熱板上預烘2分鐘，由此形成涂膜。對于實施例10,用縫沖莫涂布才幾進行涂布，以15秒達到0.5Torr進行真空干燥后，以9(TC在加熱板上預烘2分鐘，由此形成涂膜。使用(林)年亇/乂制的PLA-501F曝光機(超高壓水銀燈)，以累計照射量達到3,000J/m2的方式對在上述各例中得到的涂膜進行曝光，然后在清潔烘箱內(nèi)在220。C加熱1小時，由此在基板上形成膜厚約3.0pm的固化膜。測定該固化膜的膜厚(Tl)。接著，將形成有該固化膜的硅基板浸漬于溫度控制在70。C的二曱亞砜中20分鐘后，測定該固化膜的膜厚(tl),算出因浸潰導致的膜厚變化率(lt1-Tl|/Tl}xlOO[%]。將結(jié)果示于表2中。該值為5%以下時可以說耐溶劑性良好。應(yīng)說明的是，在耐溶劑性的評價中，由于形成的膜無需形成圖案，所以省略放射線照射工序和顯影工序，僅進行涂膜形成工序、后曝光工序和加熱工序就供給評價。在硅基板上，分別與上述[耐溶劑性的評價]同樣地形成固化膜，測定所得固化膜的膜厚(T2)。接著，將該固化膜基板在清潔烘箱內(nèi)在240。C追加烘焙l小時后，測定該固化膜的膜厚(t2),算出因追加烘焙導致的膜厚變化率(lt2-T2l/T2)x100[%]。將結(jié)果示于表2中。該值為5%以下時可以-沈耐熱性良好。應(yīng)說明的是，在耐熱性的評價中，由于形成的膜無需圖案形成，所以僅進行涂膜形成工序、后曝光工序和加熱工序就供給評價。在上述的[耐溶劑性的評價]中，除了用玻璃基板"〕一二〉y7059(〕一二^y公司制)"來代替硅基板以外，與[耐溶劑性的評價]同樣地在玻璃基板上形成固化膜。用分光光度計"150-20型雙光束((抹)日立制作所制)"，以400~800nm范圍的波長測定具有該固化膜的玻璃基板的光線透過率。將此時的最低光線透過率的值示于表2中。該值為90%以上時可以說透明性良好。應(yīng)說明的是，在透明性的評價中，由于形成的膜無需圖案形成，所以僅進行涂膜形成工序、后曝光工序和加熱工序就供給評價。在硅基板上，使用旋涂器分別涂布記載于表3中的組合物后，以90。C在加熱板上預烘2分鐘，由此形成膜厚為2.0pm的涂膜。介由具有規(guī)定圖案的圖案掩模，用(林)二〕乂制的NSR1755i7A縮小投影曝光機(NA=0.50,入=365nm)、以曝光時間為變量對得到的涂膜進行曝光，用表3所記載的濃度的氫氧化四甲銨水溶液在25°C下采用盛液法顯影1分鐘。然后，用水沖洗，干燥，由此在基板上形成圖案狀薄膜。此時，測定0.8pm的線和間隔(1比1)的間隔線寬達到0.8pm所需要的最小曝光量。將該值作為靈敏度示于表3中。該值為2,000J/m2以下時可以說靈敏度良好。在硅基板上，使用旋涂器分別涂布記載于表3中的組合物后，以90。C在加熱板上預烘2分鐘，由此形成膜厚為2.0)im的涂膜。介由具有規(guī)定圖案的圖案掩模，用(林)二〕乂制的NSR1755i7A縮小投影曝光機(NA=0.50，入=365nm),以相當于在上述"[靈敏度的評價]"中測定的靈敏度的值的曝光量對得到的涂膜進行曝光，用表3所記載的濃度的氬氧化四曱銨水溶液在25。C下釆用盛液法顯影l(fā)分鐘。然后，用水沖洗，干燥，由此在基板上形成圖案狀薄膜。此時，測定0.8jnm的線和間隔(1比1)的間隔線寬達到0.8pm所需要的顯影時間，將其作為最佳顯影時間示于表3中。此外，從最佳顯影時間進一步繼續(xù)顯影時，測定直到寬0.8^m的圖案剝離為止的時間(顯影余地)，作為顯影余地示于表3中。該值為30秒以上時可以說顯影余地良好。"中測定的靈敏度的值的曝光量對得到的涂膜進行曝光，用表3中靈敏度評價中作為顯影液濃度而記載的濃度的氫氧化四甲銨水溶液、在25。C下采用盛液法顯影l(fā)分鐘。然后，用水沖洗，干燥，由此在基板上形成圖案狀薄膜。接著，用(林)年亇/乂制的PLA-501F曝光機(超高壓水銀燈)以累計照射量達到3,000J/m2的方式進行曝光。然后用加熱板在160。C加熱IO分鐘后，進一步在230。C加熱IO分鐘，使圖案熔融流動，由此形成樣t透4竟。所形成的微透鏡的底部(與基板相接的面)的尺寸(直徑)和截面形狀示于表3中。微透鏡底部的尺寸超過4.0iam且小于5.0pm時，可以說是良好的。應(yīng)說明的是，如果該尺寸達到5.0pm以上，則形成鄰接的透鏡相接觸的狀態(tài)，是不優(yōu)選的。此外，截面形狀在圖1所示的示意圖中，像(a)那樣的半凸透鏡形狀時是良好的，像(b)那樣的大致梯形時是不好的。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage42</column></row><table>發(fā)明效果本發(fā)明的放射線敏感性樹脂組合物具有高的放射線靈敏度，具有在顯影工序中即使超過最佳顯影時間也能夠形成良好的圖案形狀的顯影余地，能夠容易地形成密合性優(yōu)異的圖案狀薄膜。由上述組合物形成的本發(fā)明的層間絕緣膜與基板的密合性良好，耐溶劑性和耐熱性優(yōu)異，具有高的透過率，介電常數(shù)低，可適用作電子部件的層間絕緣膜。此外，由上述組合物形成的本發(fā)明的微透鏡與基板的密合性良好，耐溶劑性和耐熱性優(yōu)異，具有高的透過率和良好的熔融形狀，可適用作固體攝像元件等的微透鏡。權(quán)利要求1.放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于，含有[A]、[B]和[C]，[A]不飽和化合物的共聚物，所述不飽和化合物含有(a1)選自不飽和羧酸和不飽和羧酸酐中的至少一種、以及(a2)具有選自環(huán)氧乙烷基和氧雜環(huán)丁烷基中的至少一種基團的不飽和化合物而成；[B]1，2-重氮醌化合物；和[C]具有脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基且沒有羧基的化合物。2.權(quán)利要求1所述的放射線敏感性樹脂組合物，其中，[C]具有脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基且沒有羧基的其它化合物是(cl)具有脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基且沒有羧基的不飽和化合物和(c2)沒有脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基且沒有羧基的不飽和化合物的共聚物，或者是下式(6)~(8)中任何一個表示的化合物，(6)-(CH2)5-C——0-IIOF(CH2)5，一0")OJcCHI—0—(CH2)5-|j—0"hCH2CH2—C一0H^(CH2)5-C——OtCH2IIIIoo07oc=o2c-oc=oc-2(式(7)中的a、b、c和d各自獨立地表示1~20的整數(shù))。3.權(quán)利要求1或2所述的放射線敏感性樹脂組合物，其用于形成層間絕緣膜。4.層間絕緣膜的形成方法，其特征在于，以下述順序包括以下工序(1)在基板上形成權(quán)利要求1或2所述的放射線敏感性樹脂組合物的涂膜的工序，(2)對該涂膜的至少一部分照射放射線的工序，(3)顯影工序，以及(4)加熱工序。5.層間絕緣膜，其是通過權(quán)利要求4所述的方法形成的。6.權(quán)利要求1或2所述的放射線敏感性樹脂組合物，其用于形成微透鏡。7.微透鏡的形成方法，其特征在于，以下述順序包括以下工序(1)在基板上形成權(quán)利要求1或2所述的放射線敏感性樹脂組合物的涂膜的工序，(2)對該涂膜的至少一部分照射放射線的工序，(3)顯影工序，以及(4)力口熱工序。8.微透鏡，其是通過權(quán)利要求7所述的方法形成的。全文摘要本發(fā)明涉及放射線敏感性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡以及它們的形成方法。本發(fā)明涉及放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于，含有[A]含有(a1)選自不飽和羧酸和不飽和羧酸酐中的至少一種以及(a2)具有選自環(huán)氧乙烷基和氧雜環(huán)丁烷基中的至少一種基團的不飽和化合物而成的不飽和化合物的共聚物；[B]1，2-重氮醌化合物；和[C]具有脂環(huán)式環(huán)氧乙烷基且沒有羧基的化合物。上述放射線敏感性樹脂組合物具有高的放射性靈敏度，具有在顯影工序中即使超過最佳顯影時間也能夠形成良好圖案形狀的顯影余地，可以容易地形成密合性優(yōu)異的層間絕緣膜或微透鏡。文檔編號G03F7/00GK101308327SQ20081009907公開日2008年11月19日申請日期2008年5月16日優(yōu)先權(quán)日2007年5月16日發(fā)明者內(nèi)池千浩,濱田謙一,花村政曉,飯島孝浩申請人:Jsr株式會社