專利名稱：鍍膜寶石的制作方法
技術領域：
本實用新型是一種鍍膜寶石，涉及寶石制品的加工著色技術。
現(xiàn)有的裝飾用寶石制品，一般是由天然有色寶石或天然無色寶石以及玻璃材料加工制成。有色寶石色彩美麗，令人賞心悅目，但價格昂貴，普通消費者難以問津，無色寶石和玻璃雖然價格低廉，但缺乏色彩效果，又難以讓消費者滿意。
本實用新型的目的在于避免上述現(xiàn)有技術的不足而提供一種既具有天然有色寶石的色彩效果，又價格低廉，裝飾效果好的鍍膜寶石。
本實用新型的目的可以通過以下措施來達到采用真空沉積技術，在無色寶石或玻璃制品的外表面上，鍍有包含高折射率高溫氧化物膜層和低折射率高溫氧化物膜層構(gòu)成的反射薄膜，反射薄膜的膜系設計機構(gòu)為(HL)nH或(LH)nL或(HL)n或(LH)n，其中H為高折射率高溫氧化物膜層，L為低折射率高溫氧化物膜層，它們的光學厚度都是反射光波長的1／4，反射光波長范圍為0.4μm－－0.7μm，高溫氧化物材料為TiO2或Al2O3或ZrO2或CeO2或HfO2或Y2O3或SiO2。n為1／4波長膜對數(shù)，其數(shù)值范圍是整數(shù)。


圖1為鍍膜寶石外表面圖，圖中1、2、3為不同形狀的外表面。
圖2為反射膜系結(jié)構(gòu)圖。
圖3為鍍膜寶石反射光譜圖。
本實用新型下面將結(jié)合附圖作進一步說明在通用的電子束蒸發(fā)真空鍍膜機上，用真空沉積技術，在無色的寶石(鋯石制品)或玻璃制品的外表面1上(如圖1所示)，交替鍍制由高折射率高溫氧化物膜層H(材料為TiO2)和低折射率高溫氧化物L(材料為SiO2)構(gòu)成的反射薄膜4(如圖2所示)，然后從鍍膜機中取出置于干燥箱中，加熱烘烤1～2小時。其膜系設計結(jié)構(gòu)為(HL)6H，反射光波長為0.48μm，高、低折射率高溫氧化物膜層的光學厚度是反射光波長的1／4。利用光的干涉原理通過由高低折射率高溫氧化物膜層構(gòu)成的反射薄膜反射某一色彩的光，實現(xiàn)對無色寶石(鋯石制品)或玻璃制品的著色。
本實用新型相比已有技術具有如下優(yōu)點1.采用高、低折射率高溫氧化物膜層構(gòu)成的薄膜對無色寶石或玻璃制品著色，使其更加美觀，在不同角度觀看，色彩變幻莫測，更增添了寶石制品的神秘和高雅，可與天然寶石比美。
2.反射薄膜由高溫氧化物材料制成，牢固結(jié)實，不怕擦洗，對寶石有保護作用，經(jīng)久耐用。
3.膜系結(jié)構(gòu)簡單，制造工藝方便，成本低，成品率高，宜于批量生產(chǎn)，可為廣大消費者提供大量的價格低廉的裝飾用寶石制品。
權(quán)利要求1.一種帶有色澤的鍍膜寶石，其特征在于采用真空沉積技術，在無色寶石或玻璃制品的外表面上，鍍有包括高折射率高溫氧化物膜層H和低折射率高溫氧化物膜層L的反射薄膜，反射薄膜的膜系設計結(jié)構(gòu)為(HL)nH或(HL)n或(LH)nL或(LH)n，其中n為1/4波長膜對數(shù)(數(shù)值范圍為整數(shù))。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜寶石，其特征在于高折射率高溫氧化物膜層和低折射率高溫氧化物膜層的光學厚度為反射光波長的1／4，反射光波長范圍為0.4μm－0.7μm。
3.如權(quán)利要求1、2所述的鍍膜寶石，其特征在于高溫氧化物膜層的材料是TiO2或Al2O3或ZrO2或CeO2或HfO2或Y2O3或SiO2。
專利摘要本實用新型是一種鍍膜寶石，涉及寶石制品的著色技術。其特征在于在無色的寶石或玻璃制品外表面，鍍有包括高折射率高溫氧化物膜層H和低折射率高溫氧化物膜層L的反射薄膜，反射薄膜的膜系設計結(jié)構(gòu)為(HL)
文檔編號C03C17/245GK2128635SQ9222004
公開日1993年3月24日 申請日期1992年7月30日 優(yōu)先權(quán)日1992年7月30日
發(fā)明者郭永洪, 張云洞, 熊勝明 申請人:中國科學院光電技術研究所