一種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝，用于藍(lán)寶石加工過程中的褪鍍返工，包括如下步驟：第一步、高溫脫墨；第二步、降溫；第三步、使用堿性光學(xué)玻璃清洗劑進(jìn)行清洗脫膜；第四步、使用去離子水漂洗；第五步、使用堿性水基環(huán)保清洗劑清洗；第六步、使用檸檬酸溶液浸泡去殘留；第七步、使用去離子水二次漂洗。本發(fā)明避免采用強(qiáng)酸溶劑通過氧化還原進(jìn)行褪鍍，通過新型的清洗劑結(jié)合加熱處理，實(shí)現(xiàn)藍(lán)寶石鏡片表面鍍層的物理剝離，褪鍍效果好，有效解決了現(xiàn)有技術(shù)中藍(lán)寶石晶片難以褪鍍返工、褪鍍成本高的問題，具有環(huán)保、安全的優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】—種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于藍(lán)寶石加工【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝。

【背景技術(shù)】
[0002]在藍(lán)寶石晶片生產(chǎn)中，由于鍍膜、絲印等工藝不合格，需要對藍(lán)寶石晶片表面的油墨及鍍層進(jìn)行褪鍍處理，然后進(jìn)行重新鍍膜、絲印。
[0003]現(xiàn)有的藍(lán)寶石褪鍍技術(shù)，通常采用無機(jī)酸腐蝕、強(qiáng)氧化還原反應(yīng)、和有機(jī)溶劑浸泡等方法的來祛除藍(lán)寶石表面的油墨及鍍層，由于藍(lán)寶石油墨附著力強(qiáng)，往往出現(xiàn)褪鍍不干凈的現(xiàn)象，影響重新鍍膜、絲印的效果。同時，由于褪鍍使用的溶劑具有高強(qiáng)度的腐蝕性，因此對褪鍍處理的設(shè)備要求較高 ，要求耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，另因使用到的都是強(qiáng)酸和具體刺激性氣味的化學(xué)品，對員工的操作和廢液處理帶來了極大的安全隱患和環(huán)境影響，同時也導(dǎo)致褪鍍的成本較高，甚至褪鍍的成本超過了褪鍍處理的藍(lán)寶石晶片本身的價值。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明解決的技術(shù)問題是:提供一種高品質(zhì)，安全環(huán)保的藍(lán)寶石鏡片褪鍍工藝，用以解決傳統(tǒng)強(qiáng)腐蝕性酸堿溶劑對藍(lán)寶石晶片褪鍍存在的成本高、安全隱患高和環(huán)境影響大的技術(shù)缺陷。
[0005]本發(fā)明采用如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):一種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝，包括如下步驟:
[0006]第一步、聞溫脫墨,將監(jiān)寶石晶片加熱至450~480 C，利用聞溫將油墨炭化，從而達(dá)到物理分離的效果；
[0007]第二步、降溫，將藍(lán)寶石晶片的溫度降至80~100°C，為了方便后續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)物料，防止高溫燙傷；
[0008]第三步、脫膜，使用質(zhì)量比100%的堿性光學(xué)玻璃清洗劑對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行清洗，有效被除廣品表面鍛層；
[0009]第四步、漂洗，使用去離子水對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行漂洗，去除產(chǎn)品表面具有腐蝕的清洗液殘留；
[0010]第五步、清洗，使用質(zhì)量比為10~15%的堿性水基環(huán)保清洗劑對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行清洗，有效去除產(chǎn)品表面臟污；
[0011]第六步、去殘留,使用檸檬酸溶液對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行浸泡,有效中和堿性清洗劑；
[0012]第七步、二次漂洗，使用去離子水對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行漂洗，去除表面清洗液殘留。
[0013]進(jìn)一步的，所述第一步中的高溫脫墨采用加壓爐對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行加熱，并保溫120 ~140min。
[0014]進(jìn)一步的，所述第二步中的降溫采用降溫罩對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行降溫。
[0015]進(jìn)一步的，所述第三步中，將堿性光學(xué)玻璃清洗劑加熱至110~120°C對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行清洗。
[0016]進(jìn)一步的，所述第三步在超聲波清洗機(jī)中進(jìn)行，在40KHZ的超聲波環(huán)境下清洗90 ~10min0
[0017]進(jìn)一步的，所述第五步中，將堿性水基環(huán)保清洗劑加熱至80°C對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行清洗。
[0018]進(jìn)一步的，所述第五步在超聲波清洗機(jī)中進(jìn)行，在40KHZ的超聲波環(huán)境下清洗30 ~40mino
[0019]進(jìn)一步的,所述第六步中采用質(zhì)量比為I %的檸檬酸溶液浸泡10~15min。
[0020]進(jìn)一步的，所述第三步和第七步中的漂洗均采用常溫去離子水進(jìn)行，漂洗60~90s。
[0021]本發(fā)明采用上述技術(shù)方案避免采用強(qiáng)酸溶劑對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行褪鍍，不通過強(qiáng)氧化還原反應(yīng)，采用新型的清洗劑結(jié)合加熱處理，實(shí)現(xiàn)藍(lán)寶石鏡片表面鍍層的剝離，褪鍍效果好，有效解決了現(xiàn)有技術(shù)中藍(lán)寶石晶片難以褪鍍返工、褪鍍成本高的問題，具有環(huán)保、安全的優(yōu)點(diǎn)，具有廣泛的市場經(jīng)濟(jì)價值。
[0022]以下結(jié)合【具體實(shí)施方式】對本發(fā)明做進(jìn)一步說明。

【具體實(shí)施方式】
[0023]實(shí)施例
[0024]本實(shí)施例對Φ5.50mm*0.3mm藍(lán)寶石晶片絲印后進(jìn)行褪鍍返工，褪鍍過程中采用的去離子水電阻為18ΜΩ.cm ，超聲波清洗機(jī)的電流控制在:2.5±0.5A ;按以下步驟進(jìn)行褪鍍。
[0025]I)高溫脫墨:使用加壓爐將藍(lán)寶石晶片加熱至450~480°C，保溫時間120~140mino
[0026]2)降溫:使用保溫罩將藍(lán)寶石晶片的溫度降至80~100°C即可。
[0027]3)脫膜:將藍(lán)寶石晶片浸入超聲波清洗機(jī)的清洗槽，采用質(zhì)量比為100%的堿性光學(xué)玻璃清洗劑(采購于廣東山之風(fēng)環(huán)?？萍加邢薰镜腤IN-19C光學(xué)玻璃清洗劑，其主要成分包括氫氧化鈉、助劑、表面活性劑)加熱至110~120°C，在40KHZ的超聲波環(huán)境下對藍(lán)寶石晶片清洗清洗90~lOOmin。將清洗劑加熱是為了防止降溫后的藍(lán)寶石晶片遇冷將清洗劑蒸發(fā)，并且加熱的清洗劑更有利于油墨的脫膜效果。
[0028]4)漂洗:將脫膜后的藍(lán)寶石晶片使用常溫去離子水漂洗60s~90s。
[0029]5)清洗:再次將藍(lán)寶石晶片浸入超聲波清洗機(jī)的清洗槽，這次采用質(zhì)量比為10%的弱堿性水基環(huán)保清洗劑(采購于廣東山之風(fēng)環(huán)?？萍加邢薰镜腤IN-152B光學(xué)玻璃清洗劑)加熱至80°C，在40KHZ的超聲波環(huán)境下對藍(lán)寶石晶片清洗清洗30~40min。
[0030]6)清洗去殘留:將清洗后的藍(lán)寶石晶片使用質(zhì)量比為1%的常溫檸檬酸溶液浸泡10 ~15min0
[0031]7) 二次漂洗:最后將藍(lán)寶石晶片使用常溫去離子水再次進(jìn)行漂洗60~90s即完成藍(lán)寶石的褪鍍工藝，檢驗(yàn)后即可可進(jìn)行再次鍍膜、絲印。
[0032]褪鍍后的藍(lán)寶石晶片檢視在以下條件下進(jìn)行:在檢驗(yàn)燈光照度為800~1200LUX，產(chǎn)品距眼睛30cm，產(chǎn)品距光源40cm，檢驗(yàn)時間為15s，檢驗(yàn)角度為:眼睛視線與玻璃表面垂直，上下左右旋轉(zhuǎn)30-750，要求在檢驗(yàn)背景為黑色背景的情況下，采用上述工藝褪鍍的藍(lán)寶石晶片均能達(dá)到晶片表面無油墨殘留，無臟污，水滴角測試在18-22°之間，透光率測試波長范圍410mn-750mn的測試平均值≥85T%，即可以滿足藍(lán)寶石晶片再次絲印、鍍膜工藝要求。
【權(quán)利要求】
1.一種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝，其特征在于包括如下步驟: 第一步、高溫脫墨，將藍(lán)寶石晶片加熱至450~480°C ； 第二步、降溫，將藍(lán)寶石晶片的溫度降至80~100°C ； 第三步、脫膜，使用質(zhì)量比100%的堿性光學(xué)玻璃清洗劑對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行清洗； 第四步、漂洗，使用去離子水對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行漂洗； 第五步、清洗，使用質(zhì)量比為10~15%的堿性水基環(huán)保清洗劑對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行清洗； 第六步、去殘留,使用檸檬酸溶液對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行浸泡； 第七步、二次漂洗，使用去離子水對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行漂洗。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝，其特征在于:所述第一步中的高溫脫墨采用加壓爐對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行加熱，并保溫120~140min。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝，其特征在于:所述第二步中的降溫采用降溫罩對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行降溫。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝，其特征在于:所述第三步中，將堿性光學(xué)玻璃清洗劑加熱至110~120°C對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行清洗。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝，其特征在于:所述第三步在超聲波清洗機(jī)中進(jìn)行，在40KHZ的超聲波環(huán)境下清洗90~lOOmin。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝，其特征在于:所述第五步中，將堿性水基環(huán)保清洗劑加熱至80°C對藍(lán)寶石晶片進(jìn)行清洗。
7.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝，其特征在于:所述第五步在超聲波清洗機(jī)中進(jìn)行，在40KHZ的超聲波環(huán)境下清洗30~40min。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝，其特征在于:所述第六步中采用質(zhì)量比為I %的檸檬酸溶液浸泡10~15min。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石晶片褪鍍工藝，其特征在于:所述第三步和第七步中的漂洗均采用常溫去離子水進(jìn)行，漂洗60~90s。
【文檔編號】C30B33/10GK104178816SQ201410387687
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2014年8月8日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月8日
【發(fā)明者】周群飛, 饒橋兵, 陽畯 申請人:藍(lán)思科技股份有限公司