專(zhuān)利名稱(chēng)：兩噴一燒低溫?zé)蓢娡抗に嚨闹谱鞣椒?br> 技術(shù)領(lǐng)域：

本發(fā)明屬于搪瓷產(chǎn)品生產(chǎn)制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種兩噴一燒低溫?zé)蓢娡抗に嚒?br> 背景技術(shù)：
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目前，市場(chǎng)上的搪瓷制品一般包括制坯、制釉、涂搪、燒成、飾花等工藝，在預(yù)先沖壓或鑄造成型的金屬坯上先涂敷底釉，燒成后再涂敷面釉然后再燒成，即傳統(tǒng)的兩搪兩燒工藝，傳統(tǒng)的兩搪兩燒工藝，需要經(jīng)過(guò)兩遍燒結(jié)，既不符合節(jié)能減排的國(guó)家政策，又給企業(yè)造成經(jīng)濟(jì)上的損失，成本高、效益低，這一問(wèn)題一直困繞著企業(yè)的發(fā)展。發(fā)明內(nèi)容:
綜上所述，為了克服現(xiàn)有技術(shù)問(wèn)題的不足，本發(fā)明提供了一種兩噴一燒低溫?zé)蓢娡抗に嚕窃谔麓芍破飞a(chǎn)中，在金屬坯上先涂敷底釉，再涂敷面釉，最后再一次性燒成，從而節(jié)約一次燒結(jié)工序，可有效的降低企業(yè)生產(chǎn)成本，提高搪瓷制品的生產(chǎn)效率，節(jié)約流程，同時(shí)又能夠滿足國(guó)家節(jié)能減排的需要。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:
一種兩噴一燒低溫?zé)蓢娡抗に?，其?包括以下工藝步驟:
A、底釉制作
按重量百分比稱(chēng)量二氧化硅:40 60%，三氧化二硼:8 15%，三氧化二鋁:3 9%，氧化I丐:2.0 5%,氧化鉀:6 10%,氧化鎳:1.0 5%,氧化鋅5.0 15%,氧化鈉:5.5 9%，氧化鈦:3.0 4%，氧化鋯:1.0 4% ;氧化鋰:0.7 4%，然后將上述原料加入1150 1300°C的爐內(nèi)f 2小時(shí)，進(jìn)行充分混合、熔制，生產(chǎn)出熔塊，然后經(jīng)球磨、烘干制成底釉粉末，底釉粉末經(jīng)高分子有機(jī)物化進(jìn)行包裹處理；
B、面釉制作
按重量百分比稱(chēng)量二氧化硅:35.2 39.5%，三氧化二硼:12 13.9%，三氧化二鋁:4 7.5%,氧化鉀:3.1 4%,氧化鈉:13.8 16.3%,氧化鈦:15.5 17.5%,氧化鎂:1 2.5%，五氧化二磷:3.4 4.8%，氧化鈷:0.001 0.003%，氟:1.6 4.0%，將上述原料加入1250 1300 0C的爐內(nèi)2 3小時(shí)，進(jìn)行充分混合、熔制，生產(chǎn)出熔塊，然后經(jīng)球磨、烘干制成面釉粉末，面釉粉末經(jīng)高分子有機(jī)硅烷化合物進(jìn)行包裹處理；
C、坯體處理
將制造成型的工件坯體經(jīng)過(guò)酸洗脫脂、清水漂洗、配洗除銹、清水漂洗、中和后，進(jìn)行電泳披鎳，使還體表面鈍化；
D、噴涂
將處理后的工件坯體進(jìn)入自動(dòng)噴涂生產(chǎn)線，自動(dòng)旋轉(zhuǎn)至底釉噴涂，完成一搪，然后旋轉(zhuǎn)至面軸嗔涂，完成二 塘；
E、燒結(jié)
將噴涂后的工件送至溫度為780 800度的爐窯內(nèi)進(jìn)行燒成，時(shí)間為5 7分鐘。本發(fā)明的技術(shù)方案還可以是這樣實(shí)現(xiàn)的:所述的步驟A底釉制作中，所述底釉粉末的粒度為250目。
本發(fā)明的技術(shù)方案還可以是這樣實(shí)現(xiàn)的:所述的步驟B面釉制作中，所述的面釉粉末的粒度為250目。本發(fā)明的技術(shù)方案還可以是這樣實(shí)現(xiàn)的:所述的步驟D噴涂中，噴涂電壓為70 90KV，噴涂電流為10 30UA，噴槍與工件坯體間的噴涂距離為10 25cm。本發(fā)明的技術(shù)方案還可以是這樣實(shí)現(xiàn)的:所述的步驟E燒結(jié)中，工件處于氧化氣氛下燒結(jié)。本發(fā)明的有益效果為:
1、本發(fā)明是在搪瓷制品生產(chǎn)中，采用靜電干法兩噴一燒生產(chǎn)工藝，即在經(jīng)過(guò)表面處理后的金屬基體上先噴涂底釉，緊接著噴涂面釉，一次性高溫?zé)?，從而?jié)約一次燒成工序，這在當(dāng)代搪瓷行業(yè)中是較為先進(jìn)的生產(chǎn)工藝，它能降低瓷釉消耗量，節(jié)省勞動(dòng)力，節(jié)約能源，提高搪瓷制品的生產(chǎn)效率，減少流程，同時(shí)又能滿足國(guó)家節(jié)能減排需要，更適應(yīng)連續(xù)化、自動(dòng)流水線生產(chǎn)。2、本發(fā)明適用于日用搪瓷制品的生產(chǎn)，更適用于面積較大、造型平坦的制品，如:灶具、搪瓷面板和高層建筑使用的裝飾板等產(chǎn)品，與傳統(tǒng)工藝相比，它具有表面光潔細(xì)膩、內(nèi)在質(zhì)量堅(jiān)固、性能穩(wěn)定，具有耐酸、耐堿、耐大氣腐蝕、耐高溫、耐沖擊，是環(huán)保高效的新型材料，市場(chǎng)潛力大，發(fā)展前景廣闊，產(chǎn)品利潤(rùn)空間高，在國(guó)際市場(chǎng)具有較強(qiáng)的競(jìng)爭(zhēng)和生命力。3、本發(fā)明的底釉及面釉中無(wú)需添加粘土和各種電解質(zhì)，燒成的瓷面光潔致密，氣孔率低，雜點(diǎn)、異色明顯減少，本發(fā)明較為完善地改變了傳統(tǒng)工藝中排氣方向從非搪瓷面逐漸逸出彌散，很難再形成直達(dá)搪瓷面的氣體通道，避免了類(lèi)似針孔、氣泡等外觀缺陷。4、本發(fā)明資源利用率高，底釉粉末或面釉粉末利用率可達(dá)98%以上，噴涂質(zhì)量?jī)?yōu)良，瓷面均勻，厚薄一致，提高了產(chǎn)品檔次和產(chǎn)品附加值。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。實(shí)施例一:
本實(shí)施例兩噴一燒低溫?zé)蓢娡抗に嚕a(chǎn)厚度為0.8毫米，長(zhǎng)800毫米，寬450毫米搪瓷面板，采用如下工藝步驟:
A、底釉制作
按重量百分比稱(chēng)量二氧化硅:40%，三氧化二硼:8%，三氧化二鋁:9%，氧化鈣:5%，氧化鉀:10%,氧化鎳:5%，氧化鋅5%,氧化鈉:6%，氧化鈦:4%，氧化錯(cuò):4% ;氧化鋰:4%，然后將上述原料加入1150 1300°C的爐內(nèi)90分鐘，進(jìn)行充分混合、熔制，生產(chǎn)出熔塊，然后經(jīng)球磨、烘干制成底釉粉末，底釉粉末經(jīng)高分子有機(jī)物化進(jìn)行包裹處理，底釉粉末的粒度為250目；
B、面釉制作
按重量百分比稱(chēng)量二氧化娃:35.2%,三氧化二硼:12%,三氧化二招:7%，氧化鉀:4%，氧化鈉:16%,氧化鈦:15.5%,氧化鎂:2%,五氧化二磷:4%,氧化鈷:0.003%,氟:4.0%,余量為雜質(zhì)，將上述原料加入1250 1300°C的爐內(nèi)3小時(shí)，進(jìn)行充分混合、熔制，生產(chǎn)出熔塊，然后經(jīng)球磨、烘干制成面釉粉末，面釉粉末經(jīng)高分子有機(jī)硅烷化合物進(jìn)行包裹處理，面釉粉末的粒度為250目；
C、坯體處理將制造成型的工件坯體經(jīng)過(guò)酸洗脫脂、清水漂洗、配洗除銹、清水漂洗、中和后，進(jìn)行電泳披鎳，使還體表面鈍化；
D、噴涂
將處理后的工件坯體進(jìn)入自動(dòng)噴涂生產(chǎn)線，自動(dòng)旋轉(zhuǎn)至底釉噴涂，完成一搪，然后旋轉(zhuǎn)至面釉噴涂，完成二搪；噴涂電壓為70KV，噴涂電流為10UA，噴槍與工件坯體間的噴涂距離為 IOcm ；
E、燒結(jié)
將噴涂后的工件送至溫度為780 800度的爐窯內(nèi)進(jìn)行燒成，時(shí)間為5 7分鐘。工件處于氧化氣氛下燒結(jié)。實(shí)施例二:
本實(shí)施例兩噴一燒低溫?zé)蓢娡抗に嚕a(chǎn)厚度為0.6毫米，直徑為500毫米的搪瓷圓盤(pán)，采用如下工藝步驟:
A、底釉制作
按重量百分比稱(chēng)量二氧化硅:60%，三氧化二硼:12%，三氧化二鋁:3%，氧化鈣:2.0%，氧化鉀:6%,氧化鎳:1.0%,氧化鋅5.0%,氧化鈉:5.5%,氧化鈦:3.0%,氧化錯(cuò):1.0% ;氧化鋰:
1.5%，然后將上述原料加入1150 1300°C的爐內(nèi)100分鐘，進(jìn)行充分混合、熔制，生產(chǎn)出熔塊，然后經(jīng)球磨、烘干制成底釉粉末，底釉粉末經(jīng)高分子有機(jī)物化進(jìn)行包裹處理，底釉粉末的粒度為250目；
B、面釉制作
按重量百分比稱(chēng)量二氧化硅:39.5%，三氧化二硼:18%，三氧化二鋁:4%，氧化鉀:3.1%，氧化鈉:13.8%,氧化鈦:15.5%,氧化鎂:1%,五氧化二磷:3.4%,氧化鈷:0.001%,氟:1.6%,余量為雜質(zhì)，將上述原料加入1250 1300°C的爐內(nèi)2.5小時(shí)，進(jìn)行充分混合、熔制，生產(chǎn)出熔塊，然后經(jīng)球磨、烘干制成面釉粉末，面釉粉末經(jīng)高分子有機(jī)硅烷化合物進(jìn)行包裹處理，面釉粉末的粒度為250目；
C、坯體處理
將制造成型的工件坯體經(jīng)過(guò)酸洗脫脂、清水漂洗、配洗除銹、清水漂洗、中和后，進(jìn)行電泳披鎳，使還體表面鈍化；
D、噴涂
將處理后的工件坯體進(jìn)入自動(dòng)噴涂生產(chǎn)線，自動(dòng)旋轉(zhuǎn)至底釉噴涂，完成一搪，然后旋轉(zhuǎn)至面釉噴涂，完成二搪；噴涂電壓為90KV，噴涂電流為30UA，噴槍與工件坯體間的噴涂距離為 25cm ；
E、燒結(jié)
將噴涂后的工件送至溫度為780 800度的爐窯內(nèi)進(jìn)行燒成，時(shí)間為5 7分鐘。工件處于氧化氣氛下燒結(jié)。實(shí)施例三:
本實(shí)施例兩噴一燒低溫?zé)蓢娡抗に?，生產(chǎn)厚度為0.5毫米，直徑為400毫米的搪瓷面盆，采用如下工藝步驟:
A、底釉制作
按重量百分比稱(chēng)量二氧化硅:50%，三氧化二硼:10%，三氧化二鋁:5%，氧化鈣:3%，氧化鉀:6%,氧化鎳:2%,氧化鋅10%,氧化鈉:7%，氧化鈦:3.5%,氧化錯(cuò):2% ;氧化鋰:1.5%,然后將上述原料加入1150 1300°C的爐內(nèi)80分鐘，進(jìn)行充分混合、熔制，生產(chǎn)出熔塊，然后經(jīng)球磨、烘干制成底釉粉末，底釉粉末經(jīng)高分子有機(jī)物化進(jìn)行包裹處理，底釉粉末的粒度為250目；
B、面釉制作
按重量百分比稱(chēng)量二氧化硅:37%，三氧化二硼:13%，三氧化二鋁:6%，氧化鉀:3.6%，氧化鈉:15%,氧化鈦:16.5%,氧化鎂:2%,五氧化二磷:5%,氧化鈷:0.002%,氟:1.8%,余量為雜質(zhì)，將上述原料加入1250 1300°C的爐內(nèi)2小時(shí)，進(jìn)行充分混合、熔制，生產(chǎn)出熔塊，然后經(jīng)球磨、烘干制成面釉粉末，面釉粉末經(jīng)高分子有機(jī)硅烷化合物進(jìn)行包裹處理，面釉粉末的粒度為250目；
C、坯體處理
將制造成型的工件坯體經(jīng)過(guò)酸洗脫脂、清水漂洗、配洗除銹、清水漂洗、中和后，進(jìn)行電泳披鎳，使還體表面鈍化；
D、噴涂
將處理后的工件坯體進(jìn)入自動(dòng)噴涂生產(chǎn)線，自動(dòng)旋轉(zhuǎn)至底釉噴涂，完成一搪，然后旋轉(zhuǎn)至面釉噴涂，完成二搪；噴涂電壓為80KV，噴涂電流為20UA，噴槍與工件坯體間的噴涂距離為 15cm ；
E、燒結(jié)
將噴涂后的工件送至溫度為780 800度的爐窯內(nèi)進(jìn)行燒成，時(shí)間為5 7分鐘。工件處于氧化氣氛下燒結(jié)。最后，還需 要注意的是，以上列舉的僅是本發(fā)明的若干個(gè)具體實(shí)施例子。顯然，本發(fā)明不限于以上實(shí)施例，還可以有許多變形。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能從本發(fā)明公開(kāi)的內(nèi)容直接導(dǎo)出或聯(lián)想到的所有變形，均應(yīng)認(rèn)為是本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種兩噴一燒低溫?zé)蓢娡抗に嚕涮卣髟谟?包括以下工藝步驟: A、底釉制作 按重量百分比稱(chēng)量二氧化硅:40 60%，三氧化二硼:8 15%，三氧化二鋁:3 9%，氧化I丐:2.0 5%,氧化鉀:6 10%,氧化鎳:1.0 5%,氧化鋅5.0 15%,氧化鈉:5.5 9%，氧化鈦:3.0 4%，氧化鋯:1.0 4% ;氧化鋰:0.7 4%，然后將上述原料加入1150 1300°C的爐內(nèi)I 2小時(shí)，進(jìn)行充分混合、熔制，生產(chǎn)出熔塊，然后經(jīng)球磨、烘干制成底釉粉末，底釉粉末經(jīng)高分子有機(jī)物化進(jìn)行包裹處理； B、面釉制作 按重量百分比稱(chēng)量二氧化硅:35.2 39.5%，三氧化二硼:12 13.9%，三氧化二鋁:4 7.5%,氧化鉀:3.1 4%,氧化鈉:13.8 16.3%,氧化鈦:15.5 17.5%,氧化鎂:1 2.5%，五氧化二磷:3.4 4.8%，氧化鈷:0.001 0.003%,氟:1.6 4.0%，將上述原料加入1250 1300°C的爐內(nèi)2 3小時(shí)，進(jìn)行充分混合、熔制，生產(chǎn)出熔塊，然后經(jīng)球磨、烘干制成面釉粉末，面釉粉末經(jīng)高分子有機(jī)硅烷化合物進(jìn)行包裹處理； C、坯體處理 將制造成型的工件坯體經(jīng)過(guò)酸洗脫脂、清水漂洗、配洗除銹、清水漂洗、中和后，進(jìn)行電泳披鎳，使還體表面鈍化； D、噴涂 將處理后的工件坯體進(jìn)入自動(dòng)噴涂生產(chǎn)線，自動(dòng)旋轉(zhuǎn)至底釉噴涂，完成一搪，然后旋轉(zhuǎn)至面軸嗔涂，完成~■塘； E、燒結(jié) 將噴涂后的工件送至溫度為780 800度的爐窯內(nèi)進(jìn)行燒成，時(shí)間為5 7分鐘。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的兩噴一燒低溫?zé)蓢娡抗に?，其特征在?所述的步驟A底釉制作中，所述底釉粉末的粒度為250目。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的兩噴一燒低溫?zé)蓢娡抗に?，其特征在?所述的步驟B面釉制作中，所述的面釉粉末的粒度為250目。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的兩噴一燒低溫?zé)蓢娡抗に?，其特征在?所述的步驟D噴涂中，噴涂電壓為70 90KV，噴涂電流為10 30UA，噴槍與工件坯體間的噴涂距離為10 25cm0
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的兩噴一燒低溫?zé)蓢娡抗に?，其特征在?所述的步驟E燒結(jié)中，工件處于氧化氣氛下燒結(jié)。
全文摘要
本發(fā)明屬于搪瓷產(chǎn)品生產(chǎn)制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種兩噴一燒低溫?zé)蓢娡抗に?。本發(fā)明是在搪瓷制品生產(chǎn)中，在金屬坯上先涂敷底釉，再涂敷面釉，最后再一次性燒成，從而節(jié)約一次燒結(jié)工序，可有效的降低企業(yè)生產(chǎn)成本，提高搪瓷制品的生產(chǎn)效率，節(jié)約流程，同時(shí)又能夠滿足國(guó)家節(jié)能減排的需要。本發(fā)明的底釉及面釉中無(wú)需添加粘土和各種電解質(zhì)，燒成的瓷面光潔致密，氣孔率低，雜點(diǎn)、異色明顯減少，本發(fā)明較為完善地改變了傳統(tǒng)工藝中排氣方向從非搪瓷面逐漸逸出彌散，很難再形成直達(dá)搪瓷面的氣體通道，避免了類(lèi)似針孔、氣泡等外觀缺陷。
文檔編號(hào)C03C8/22GK103194754SQ20131015145
公開(kāi)日2013年7月10日 申請(qǐng)日期2013年4月27日 優(yōu)先權(quán)日2013年4月27日
發(fā)明者李景學(xué), 師媛媛, 雷慶田, 潘雨露, 徐其賢, 趙輝, 王志剛, 陳婕 申請(qǐng)人:河南金丹搪瓷有限公司