專利名稱：一種可加強(qiáng)石英坩堝清洗能力的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種石英坩堝清洗裝置，特別是對(duì)石英坩堝上口邊緣與承載裝置 接觸部位有較強(qiáng)清洗能力的專用裝置。
背景技術(shù)：
石英坩堝是制備太陽(yáng)能硅單晶的重要消耗性器件，其表面潔凈程度的高低，雜質(zhì) 含量的多少，對(duì)硅單晶純度及電學(xué)性能有著重大影響。過去在石英坩堝成品的清洗工藝中， 因考慮到石英坩堝穩(wěn)定性需要，承載裝置常做成光滑的平面轉(zhuǎn)盤，石英坩堝倒置在上面時(shí)， 上口邊緣與承載平面轉(zhuǎn)盤接觸嚴(yán)密，相互間的吸附力強(qiáng)。但這種光滑的平面轉(zhuǎn)盤容易導(dǎo)致 石英坩堝上口邊緣與平面轉(zhuǎn)盤的接觸部位變成清洗的死角，成為石英坩堝內(nèi)外表面清洗沖 淋下來的雜質(zhì)富集區(qū)域，石英坩堝烘干處理后，上口邊緣殘留雜質(zhì)較多。使用這種石英坩堝 制備太陽(yáng)能硅單晶時(shí)，在高溫環(huán)境下，這些雜質(zhì)將隨著單晶爐內(nèi)的氣流被帶入熔融硅液中， 污染了硅原料，嚴(yán)重影響了硅單晶的純度。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種可加強(qiáng)石英坩堝清洗能 力的裝置。本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是一種可加強(qiáng)石英坩堝清洗能力的裝置，包括支撐 模塊一、支撐模塊二、配合件、組合噴淋頭和支撐爪，所述支撐模塊一和支撐模塊二圍繞組 合噴淋頭設(shè)置，支撐模塊一和支撐模塊二之間通過配合件連接，支撐模塊一和支撐模塊二 上分別安裝有支撐爪，支撐爪上設(shè)置有凹槽。作為優(yōu)選，所述支撐模塊一和支撐模塊二上分別安裝有三個(gè)支撐爪。作為優(yōu)選，所述支撐模塊一和支撐模塊二由BPU材料制成。本實(shí)用新型關(guān)鍵組成是兩組承載石英坩堝的支撐模塊，支撐模塊由環(huán)保耐磨的 BPU材料制成，BPU材料的良好彈性可保證石英坩堝在清洗過程中，在倒置狀態(tài)下保持良好 的穩(wěn)定性和安全性。每組支撐模塊有三只伸出的支撐爪，上有凹槽，可承接清洗噴淋頭噴出 的純水，始終處于溢流狀態(tài)，能對(duì)石英坩堝與支撐爪接觸部位進(jìn)行溢流漂洗。兩組支撐模塊 在垂直方向上通過液壓系統(tǒng)可變換位置。清洗過程中，其中一組支撐模塊升至高位位置，承載倒置的石英坩堝，另一組支撐 模塊處于低位位置，根據(jù)設(shè)定的間隔時(shí)間，兩組支撐模塊在液壓系統(tǒng)作用下實(shí)現(xiàn)位置互換， 即低位支撐模塊升至高位，接替承載石英坩堝，高位支撐模塊降至低位。保證石英坩堝上口 邊緣與支撐模塊相接觸的部位得到?jīng)_淋清洗，徹底解決石英坩堝上口邊緣清洗死角難題。有益效果本實(shí)用新型承載石英坩堝的支撐模塊選用無毒環(huán)保、耐磨、彈性較好的 BPU材料制成，具有良好的防撞性能，可減小石英坩堝與支撐模塊相接觸形成的后天應(yīng)力。 BPU材料良好的彈性，可增強(qiáng)承載的穩(wěn)定性和安全性，能有效防止轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)過程中石英坩堝 產(chǎn)生位移。每組支撐模塊的三個(gè)支撐爪上有內(nèi)凹槽，在減小石英坩堝上口邊緣與支撐模塊接觸面積的同時(shí)，利用支撐爪內(nèi)凹槽的溢流對(duì)石英坩堝與支撐爪接觸過的部位進(jìn)行溢流沖 洗。通過兩組支撐模塊的上下位置互換，可在清洗過程中實(shí)現(xiàn)升降切換，徹底消除整個(gè)系統(tǒng) 的清洗死角。

附圖為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明如附圖所示一種可加強(qiáng)石英坩堝清洗能力的裝置，包括支撐模塊一 1、支撐模塊 二 2、配合件3、組合噴淋頭4和支撐爪5，所述支撐模塊一 1和支撐模塊二 2圍繞組合噴淋 頭4設(shè)置，支撐模塊一 1和支撐模塊二 2之間通過配合件3連接，支撐模塊一 1和支撐模塊 二 2上分別安裝有支撐爪5，支撐爪5上設(shè)置有凹槽。所述支撐模塊一 1和支撐模塊二 2上分別安裝有三個(gè)支撐爪5。所述支撐模塊一 1和支撐模塊二 2由BPU材料制成。
權(quán)利要求1.一種可加強(qiáng)石英坩堝清洗能力的裝置，其特征在于包括支撐模塊一(1)、支撐模塊 二 O)、配合件(3)、組合噴淋頭(4)和支撐爪(5)，所述支撐模塊一(1)和支撐模塊二(2) 圍繞組合噴淋頭(4)設(shè)置，支撐模塊一(1)和支撐模塊二( 之間通過配合件( 連接，支 撐模塊一(1)和支撐模塊二( 上分別安裝有支撐爪(5)，支撐爪( 上設(shè)置有凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可加強(qiáng)石英坩堝清洗能力的裝置，其特征在于所述支 撐模塊一(1)和支撐模塊二( 上分別安裝有三個(gè)支撐爪(5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可加強(qiáng)石英坩堝清洗能力的裝置，其特征在于所述支 撐模塊一(1)和支撐模塊二 O)由BPU材料制成。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種可加強(qiáng)石英坩堝清洗能力的裝置，包括支撐模塊一、支撐模塊二、配合件、組合噴淋頭和支撐爪，所述支撐模塊一和支撐模塊二圍繞組合噴淋頭設(shè)置，支撐模塊一和支撐模塊二之間通過配合件連接，支撐模塊一和支撐模塊二上分別安裝有支撐爪，支撐爪上設(shè)置有凹槽。本實(shí)用新型承載石英坩堝的支撐模塊選用無毒環(huán)保、耐磨、彈性較好的BPU材料制成，具有良好的防撞性能，可減小石英坩堝與支撐模塊相接觸形成的后天應(yīng)力，而且通過兩組支撐模塊的上下位置互換，可在清洗過程中實(shí)現(xiàn)升降切換，徹底消除整個(gè)系統(tǒng)的清洗死角。
文檔編號(hào)C03C23/00GK201842775SQ20102053469
公開日2011年5月25日 申請(qǐng)日期2010年9月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月16日
發(fā)明者楊業(yè)林, 陳寶昌 申請(qǐng)人:揚(yáng)州華爾光電子材料有限公司