專利名稱：用于制造浮法玻璃的設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于制造浮法玻璃的設備，更具體而言，涉及一種用于使用浮法 玻璃生產法來制造浮法玻璃的設備。相關申請的互相參引本申請要求于2009年2月13日在大韓民國提交的韓國專利申請 No. 10-2009-0011980的優(yōu)先權，其全部內容通過參引納入本說明書。
背景技術：
通常，一種用于使用浮法玻璃生產法來制造浮法玻璃(也稱為玻璃片、平板玻璃 或板玻璃)的設備用于通過如下方法來制造具有預定寬度的帶狀的連續(xù)玻璃片向存儲在 浮槽中的流動熔融金屬(熔融錫等)上連續(xù)供給熔融玻璃，同時使熔融玻璃浮在熔融金屬 上，由于表面張力和重力從而形成達到大約均衡厚度的熔融玻璃帶；并且將熔融玻璃帶拉 起至浮槽出口附近的退火爐。這里，所述熔融金屬包括，例如，熔融錫或熔融錫合金，并具有大于所述熔融玻璃 的比重。所述熔融金屬被接收在一個浮室中，將氫氣(H2)和/或氮氣(N2)組成的還原介質 引入該浮室。在浮室中的浮槽被構造為在其中容納熔融金屬。該浮槽具有水平延伸的結構， 并且其中包括高熱阻材料(例如，底部大塊磚)。在從浮槽的上游端移動至下游端的同時， 所述熔融玻璃在熔融金屬的表面上形成一熔融玻璃帶。所述熔融玻璃帶在設置在浮槽的下 游端的一位置——被稱為離開點——處被提起，以從所述熔融金屬移出，并被遞送至下一 工序的退火爐。然而，因為浮室中的熔融金屬處于高溫狀態(tài)(例如，大約600到1100°C )，所以在 熔融金屬、熔融玻璃、介質的H2和N2、非常少量的02、H2O和S之間發(fā)生化學反應，從而產生 被稱為“浮渣”的雜質。具體而言，在浮槽的下游端(冷端)的離開點處和周圍的溫度低于 上游端(熱端)的溫度。由此，熔融金屬的溶解性在下游端減小，因此，易于在下游端產生 并積累金屬氧化物——例如SnO2等。當熔融玻璃帶從所述離開點被提起時，浮渣附接至熔 融玻璃帶的底部并伴隨所述熔融玻璃帶從浮槽被拉起。因此，這導致刮傷、玷污等——這會 不利地影響隨后的工序和/或浮法玻璃產品的質量。為了解決所述問題，迄今為止已研發(fā)了各種技術。例如，如在日本專利公布文本 No. S045-30711中公開的，一種常規(guī)的用于制造浮法玻璃的設備包括一個收集通道，該收集 通道具有近似T形的型腔，該型腔的一個平面在寬度方向上稍微伸展浮槽的縱向端部的側 壁和后壁。所述收集通道以預定角度形成，使得從暴露的排放區(qū)域聚集到收集通道中的浮 渣可被導引至所述型腔。所述浮渣從型腔排出到浮槽外。如在日本專利特許公開公布文本No. 2000-128552中公開的，另一常規(guī)的用于制 造浮法玻璃的設備包括一個第一流道，其在相對于浮法玻璃被拉出的方向的橫向方向上 延伸；以及一個第二流道，其連接至第一流道的一端并與從一側壁外側開始的壩連通。該設 備通過分立的流道使熔融金屬從浮槽的下游端流回至上游端。
然而，這些常規(guī)技術在浮槽的下游端的兩側處去除由浮槽中的污染物導致的浮 渣。然而，該常規(guī)技術在去除下游端熔融玻璃中央下面積累的浮渣方面具有困難，為了去除 這種浮渣，應打開具有分立的木制帶狀工具的側部密封件。在該工作環(huán)境下，當所述側部密 封件打開時，所述浮槽可進一步被污染并且不能保障工作安全性。因此，浮法玻璃產品的質 量以及程序穩(wěn)定性會惡化。

發(fā)明內容
本發(fā)明被設計以解決上述問題，并且因此本發(fā)明的一個目的在于提供一種改進的 用于制造浮法玻璃的設備，該設備具有一個排出口，其形成在一個“支撐墊塊”的中央處， 所述支撐墊塊位于下游端處在浮槽的地板大磚塊之間；以及一對側通道，其連通所述排出 口和所述浮槽的側部，使得熔融金屬的流動從所述浮槽的中央被導引至所述浮槽的側部， 由此穩(wěn)定地去除浮在熔融金屬上的 浮渣。為了實現該目的，一種根據本發(fā)明的用于制造浮法玻璃的設備，包括一個用于存 儲熔融金屬的浮槽，熔融玻璃在所述熔融金屬上流動，其中所述熔融金屬在所述浮槽中流 動，該設備包括一個排出口，其貫穿所述浮槽的下游端的一個壁在該壁的中央處形成，從 而將碰到所述壁的熔融金屬以及浮在所述熔融金屬上的浮渣排出；以及一對側通道，其在 所述壁的內側形成并與所述排出口和所述浮槽的兩側連通。優(yōu)選地，本發(fā)明的設備還包括一個導引構件，其用于將所述浮渣導引至所述排出□。優(yōu)選地，所述導引構件具有一個在所述排出口的進口處形成的圓弧部分。優(yōu)選地，所述導引構件具有一個錐形的導引壁，其從所述壁的兩個邊緣向位于所 述壁的中央處的所述排出口向內傾斜。優(yōu)選地，所述導引構件具有一個漏斗形的排出口，該排出口的出口具有小于入口 的寬度。優(yōu)選地，本發(fā)明的設備還包括一個加熱單元，其布置在相應的側通道處，用于加熱 流經所述側通道的所述熔融金屬。優(yōu)選地，所述加熱單元具有一個加熱器。優(yōu)選地，本發(fā)明的設備還包括一個循環(huán)構件，其用于通過向所述熔融金屬施加一 行進磁場而使在所述排出口和側通道中的熔融金屬和浮渣產生回流。優(yōu)選地，所述循環(huán)構件具有一個線性電動機。本發(fā)明的效果根據本發(fā)明的用于制造浮法玻璃的設備使積累在位于浮槽下游端的支撐墊塊中 央處和附近的浮渣(雜質)有效地流回至浮槽的兩側，由此改善浮法玻璃的質量并確保程 序穩(wěn)定性。


附圖示出了本發(fā)明的優(yōu)選實施方案，以及包括這些附圖以與本發(fā)明的詳細描述一 起提供對本發(fā)明主旨的進一步理解，因此，本發(fā)明不應局限地被認為是附圖中所示的內容。圖1是一種根據本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方案的用于制造浮法玻璃的設備的示意性平面圖。圖2是圖1的側視圖。圖3到5是根據本發(fā)明的各實施方案的導引構件的視圖，其分別示出了一個支撐墊塊或一個排出口的變型。
具體實施例方式在下文中，將參考附圖詳細描述本發(fā)明的優(yōu)選實施方案。在描述之前，應理解的 是，在本說明書和所附權利要求書中所用的術語不應被認為受限于常規(guī)含義和字典含義， 而應在發(fā)明人被允許將術語適當定義以供最佳解釋的原則基礎上、基于相應于本發(fā)明技術 方面的含義和概念來詮釋。因此，這里所進行的描述僅是出于闡釋目的的優(yōu)選實施例，并不 意在限制本發(fā)明的范圍，因此應理解的是，在不背離本發(fā)明的主旨和范圍的情況下其它等 效物或變型可用于本發(fā)明。圖1是一種根據本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方案的用于制造浮法玻璃的設備的示意 性平面圖。圖2是圖1的側視圖。參見圖1和2，根據本發(fā)明的一個實施方案的用于制造浮法玻璃的設備100被構造 為使用所謂的浮法玻璃生產法來制造浮法玻璃。該設備100包括一個浮室，所述浮室具有 一個位于其下部的浮槽110以及一個覆蓋所述浮槽110頂部的頂蓋120。所述浮室是氣密 型的，其具有一個輸入口(未示出)和一個輸出口 112。浮槽110存儲熔融金屬(M)，諸如熔融錫、熔融錫合金等。所述熔融金屬(M)從該 浮槽110的上游端被提供(示出在附圖的左側)并通過熔融玻璃(G)移動至下游端(示出 在附圖的右側)。由于在該浮槽110中的溫度梯度，所述熔融金屬(M)從該浮槽110的上游 端流至下游端，同時，從該浮槽110的中央流至該浮槽110的兩側。所述溫度梯度是在保持 相對較高溫度的上游端和下游端之間的溫度差。所述熔融玻璃(G)也從該浮槽110的上游 端流至下游端，并在離開點(TO)被向上拉起以從熔融金屬(M)的表面移出，并隨后被拉出 至下一工序(見箭頭C)的退火爐(未示出)。在浮室中的介質由氮氣和氫氣的混合氣體形成。該混合氣體保持在略高于外部大 氣的壓力，熔融金屬(M)以及熔融玻璃(G)帶通過電加熱器(未示出)保持在大約800到 1300°C。所述熔融玻璃(G)是非堿性玻璃、蘇打-石灰玻璃等。用于在浮槽110中產生熔 融金屬(M)流動的原理和結構，以及熔融玻璃(G)的輸入、成帶狀、移動以及排出，在一般浮 法玻璃生產法中都是熟知的，在此省略了詳細描述。該浮槽110具有一個排出口 130和一對側通道140。所述排出口 130貫穿下游端 的一個壁形成，或在支撐墊塊114中央貫穿該支撐墊塊114形成。所述側通道140基本平 行于該浮槽110的寬度方向形成。所述排出口 130被構造為排出碰到支撐墊塊114——其為下游端的一個壁——中 央的熔融金屬(M)以及排出可能浮在熔融金屬(M)上的浮渣。該排出口 130具有的預定尺 寸相應于支撐墊塊114的預定長度。也即，該排出口 130形成為具有預定的寬度以及以矩 形、方形或圓形為形狀的橫截面，然而本發(fā)明在這點上并不受限。所述排出口 130可具有各 種形狀，特別地，該排出口 130優(yōu)選具有這樣的線性形狀，其引向基本平行于浮法玻璃的行 進方向的特定位置。
所述側通道140與排出口 130連通，并形成在支撐墊塊114的內側基本平行于該 浮槽110的寬度方向，使得熔融金屬(M)流回并且使通過所述排出口 130流入的雜質或浮 渣(D)流向該浮槽110的兩側。并且，各側通道140都具有一個與其一端部連通的側孔142。 所述側孔142也與浮槽110的各相對側連通。所述排出口 130和所述一對側通道140可通過處理支撐墊塊114并為該處理過的 支撐墊塊設置管道而形成，或者可從一開始就被設計并形成。
在一個替換性實施方案中，本發(fā)明的設備還包括一個循環(huán)構件150，用于將通過排 出口 130排出的熔融金屬(M)流至側通道140。所述循環(huán)構件150被構造為通過向通過排出口 130流入的熔融金屬(M)施加一行 進磁場而使在排出口 130和側通道140中的熔融金屬(M)和浮渣(D)產生回流。典型地， 該循環(huán)構件150具有一個線性電動機。該循環(huán)構件150的線性電動機可在熔融金屬(M)的 表面上、或在浮槽110的排出口 130和/或側通道140中的側部、底部或其它位置設有任意 數量。具有線性電動機的循環(huán)構件150可以非接觸的方式直接驅動熔融金屬(M)，并由此具 有簡易的流動控制的優(yōu)點。所述線性電動機通過以下方法在預定方向上產生行進磁場，即 圍繞鐵芯形成梳狀主線圈，向所述線圈施加三相交流電壓，并使該線圈磁化。所產生的行進 磁場向熔融金屬(M)提供一驅動力。根據需要，熔融金屬(M)的流動控制可在操作該用于 制造浮法玻璃的設備之前進行預設置，或在操作該用于制造浮法玻璃的設備之后在生產玻 璃的中間進行設置。當該線性電動機運行以激勵該行進磁場時，在排出口 130和側通道140中產生一 熔融金屬(M)的回流。也即，浮渣(D)可浮于其上的熔融金屬(M)從下游端經過排出口 130、 沿側通道140移動并通過側孔142流回至浮槽110的兩側。因此，根據本發(fā)明的所述優(yōu)選實施方案，可防止浮渣(D)停留在并圍繞離開點 (TO)，尤其停留在熔融玻璃(G)的中央處，由此減小浮法玻璃的缺陷率。同時，浮在熔融金屬(M)上的浮渣(D)可通過一個收集裝置(未示出)而被收集。 該收集裝置可設在排出口 130或側通道140附近或者設在浮槽110的下游端的兩側。這里， 該收集裝置可包括例如一個用于通過加熱熔融金屬(M)而分解浮渣(D)的裝備；一個用于 通過冷卻熔融金屬(M)分離浮渣(D)、機械地俘獲被分離的浮渣(D)并物理地去除被俘獲的 浮渣⑶的裝備等。根據本發(fā)明的該優(yōu)選實施方案，該用于制造浮法玻璃的設備100還包括加熱單元 160。該加熱單元160布置在相應的側通道140處，以提高沿側通道140流動時冷卻的熔融 金屬(M)的溫度。該加熱單元160可為一個電加熱器，并被構造以解決如下問題，即由于熔 融金屬(M)在浮槽110的下游端溫度降低而可能產生不必要的氣體。在上述實施方案中，支撐墊塊114表示為一個基本垂直于浮槽110寬度方向的壁， 并具有線性的布置。在替換性實施方案中，可構思各種變型以更有效地排出雜質——諸如 存在于浮槽110的下游端的浮渣(D)。圖3到5是根據本發(fā)明的各實施方案的導引構件的視圖，其分別示出了一個支撐 墊塊或一個排出口的變型。與圖1和2相同的參考數字指示相同功能的相同部件。如圖3所示，一種根據本發(fā)明的一個替換性實施方案的用于制造浮法玻璃的設備 還包括一個導引構件170。該導引構件170具有一個在排出口 132的進口處形成的圓弧部分134。該圓弧部分134具有預定的曲率，由此該排出口 132的進口大于該排出口 132的出 口。該排出口 132的這一圓弧進口相對于排出口 132的成角的進口提供了導引功能以及用 于通過排出口 132更容易地排出浮渣(D)的作用。 如圖4所示，根據本發(fā)明的另一替換性實施方案，一個導引構件172具有漏斗形的 排出口 136，該排出口的出口具有小于進口的寬度。以類似于上述實施方案的圓弧部分134 的方式，由于通過改變排出口 130的進口和出口的寬度而改變了流率，該漏斗形的排出口 136便于浮渣⑶排出。如圖5所示，根據本發(fā)明的又一替換性實施方案，一個導引構件174具有錐形的導 引壁，其從支撐墊塊114的相對邊緣朝位于支撐墊塊114中央的排出口 130向內傾斜。在 熔融金屬(M)碰到浮槽110下游端的支撐墊塊114之后，這一錐形導引壁允許熔融金屬(M) 沿其流向排出口 130。這一錐形的構造提供了一個如下的下游端的壁，其相對于浮槽110的 寬度方向(W)以預定角度(θ )傾斜。同時，本發(fā)明并不局限于上述實施方案，可對其進行適當的變型和改進。并且，在 實現本發(fā)明目的的范圍內可任意地選擇浮槽、熔融金屬、熔融玻璃、離開點、排出口、側通 道、循環(huán)構件等的材料、形狀、尺寸、類型、數量、位置等，無論如何本發(fā)明在這點上并不受 限。如上所述，一種根據本發(fā)明的用于制造浮法玻璃的設備使用循環(huán)構件使熔融金屬 流經排出口和側通道流回至浮槽兩側。相應地，可防止熔融金屬上的浮渣停留在浮槽的下 游端并減小浮法玻璃的缺陷率。在上文中，參考有限的實施方案和附圖描述了本發(fā)明。然而，這里所進行的描述僅 是出于闡釋目的的優(yōu)選實施例，并不意在限制本發(fā)明的范圍，因此應該理解的是，在不背離 本發(fā)明的主旨和范圍的情況下其它等價物和變型可用于本發(fā)明。
權利要求
一種用于制造浮法玻璃的設備，其包括一個用于存儲熔融金屬的浮槽，熔融玻璃在所述熔融金屬上流動，所述熔融金屬在所述浮槽中流動，該設備包括一個排出口，其貫穿所述浮槽的下游端的一個壁在該壁的中央處形成，從而將碰到所述壁的熔融金屬以及浮在所述熔融金屬上的浮渣排出；以及一對側通道，其在所述壁的內部形成并與所述排出口和所述浮槽的兩側連通。
2.根據權利要求1所述的用于制造浮法玻璃的設備，還包括 一個導引構件，其用于將所述壁附近的浮渣導引至所述排出口。
3.根據權利要求2所述的用于制造浮法玻璃的設備，其中所述導引構件具有一個在所述排出口的進口處形成的圓弧部分。
4.根據權利要求2所述的用于制造浮法玻璃的設備，其中所述導引構件具有一個錐形的導引壁，其從所述壁的兩個邊緣朝位于所述壁的中 央處的所述排出口向內傾斜。
5.根據權利要求2所述的用于制造浮法玻璃的設備，其中所述導引構件具有一個漏斗形的排出口，該排出口的出口具有小于進口的寬度。
6.根據權利要求1所述的用于制造浮法玻璃的設備，還包括一個加熱單元，其布置在相應的側通道處，用于加熱流經所述側通道的熔融金屬。
7.根據權利要求6所述的用于制造浮法玻璃的設備， 其中所述加熱單元具有一個加熱器。
8.根據權利要求1所述的用于制造浮法玻璃的設備，還包括一個循環(huán)構件，其用于通過向所述熔融金屬施加一行進磁場而使在排出口和側通道中 的所述熔融金屬和浮渣產生回流。
9.根據權利要求8所述的用于制造浮法玻璃的設備， 其中所述循環(huán)構件具有一個線性電動機。
全文摘要
一種用于制造浮法玻璃的設備，其包括一個用于存儲熔融金屬的浮槽，熔融玻璃在所述熔融金屬上流動，其中所述熔融金屬在該浮槽中流動，該設備包括一個排出口，其貫穿所述浮槽的下游端的一個壁在該壁的中央處形成，從而將碰到所述壁的熔融金屬以及浮在所述熔融金屬上的浮渣排出；以及一對側通道，其形成在所述壁的內部并與所述排出口和所述浮槽的兩側連通。
文檔編號C03B18/18GK101805112SQ20101011998
公開日2010年8月18日 申請日期2010年2月22日 優(yōu)先權日2009年2月13日
發(fā)明者吳亨泳, 文元載, 樸熙俊, 李昌熙, 羅相業(yè), 金吉鎬, 金洋漢, 金英植 申請人:株式會社Lg化學