專利名稱：浮法玻璃的制造方法和制造裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及浮法玻璃的制造方法和制造裝置，尤其涉及在緩冷爐中形成用于防瑕 疵的保護(hù)膜的浮法玻璃的制造方法和制造裝置。
背景技術(shù)：
關(guān)于浮法玻璃，如圖4所示，將熔融玻璃供給至浮拋槽42的熔融錫43上，成形為 具有期望厚度和寬度的帶狀玻璃44。已成形的帶狀玻璃44從浮拋槽42的出口被與浮拋 槽42相鄰設(shè)置的提升部45的提升輥48拉起后，通過(guò)緩冷爐46退火和冷卻，而形成玻璃帶 (浮法玻璃)41。然后，該玻璃帶41再通過(guò)退火窯47冷卻到能夠被切斷的室溫后通過(guò)切斷 裝置53切斷為規(guī)定的尺寸。這期間，通過(guò)搬運(yùn)輥51牽引并搬運(yùn)玻璃帶41，從而能夠連續(xù)地 進(jìn)行制造。公知在上述的浮法玻璃制造工序中，為了防止因上述搬運(yùn)輥51產(chǎn)生瑕疵和在之 后的搬運(yùn)時(shí)或輸送時(shí)產(chǎn)生瑕疵，向已成形的玻璃帶41的板面噴吹亞硫酸氣體(SO2)形成硫 酸鹽保護(hù)被膜。例如，在專利文獻(xiàn)1中記載了如下的結(jié)構(gòu)，即，如圖4所示，在緩冷爐46的 上游區(qū)域設(shè)置用于噴吹亞硫酸氣體的噴嘴54，從該噴嘴54向在緩冷爐46內(nèi)通過(guò)搬運(yùn)輥51 進(jìn)行搬運(yùn)中的玻璃帶41噴吹亞硫酸氣體形成保護(hù)被膜。在高溫的緩冷爐46內(nèi)，噴吹在玻 璃帶41上的亞硫酸氣體與玻璃的構(gòu)成成分等發(fā)生反應(yīng)，在玻璃帶41的表面形成硫酸鈉等 硫酸鹽保護(hù)被膜。該硫酸鹽保護(hù)被膜最終通過(guò)清洗而除去。專利文獻(xiàn)1 國(guó)際公開(kāi)第02/051767號(hào)小冊(cè)子

發(fā)明內(nèi)容
在浮法玻璃制造裝置的緩冷爐內(nèi)形成硫酸鹽保護(hù)被膜的情況下，在溫度高的緩冷 爐的上游噴吹亞硫酸氣體。在專利文獻(xiàn)1中，通過(guò)在緩冷爐上游的由間隔壁劃分的區(qū)域內(nèi) 設(shè)置有噴嘴而噴吹亞硫酸氣體，來(lái)增大該區(qū)域內(nèi)的亞硫酸氣體的濃度而提高與玻璃的反應(yīng) 效率，從而在玻璃帶的表面高效地形成保護(hù)被膜。但是，即使在由間隔壁劃分的區(qū)域內(nèi)噴吹 亞硫酸氣體，剩余的亞硫酸氣體也寬廣地流出到緩冷爐內(nèi)，該亞硫酸氣體滯留在緩冷爐內(nèi)， 或者再?gòu)木徖錉t泄漏到外部。這樣的緩冷爐內(nèi)的剩余亞硫酸氣體會(huì)腐蝕緩冷爐的結(jié)構(gòu)件，或者從搬運(yùn)輥的間隙 流入與緩冷爐相鄰的提升部而同樣地腐蝕提升部的結(jié)構(gòu)件，不僅產(chǎn)生大的損害，而且由于 被腐蝕的結(jié)構(gòu)件的銹或腐蝕物落在玻璃帶的表面上，或者附著、粘接在輥表面上，而產(chǎn)生在 玻璃帶表面上附著異物或產(chǎn)生瑕疵等缺點(diǎn)，導(dǎo)致得到的浮法玻璃的品質(zhì)下降和成品率降 低。因此，在專利文獻(xiàn)1中記載了如下內(nèi)容，即，在密閉退火窯“sealedlehr”(提升部) 中噴吹亞硫酸氣體形成保護(hù)被膜的情況下，為了防止亞硫酸氣體從密閉退火窯流入浮拋槽 而污染浮拋槽中的熔融錫，而與噴嘴相鄰地設(shè)置吸引嘴，吸引噴吹的亞硫酸氣體中的未用 于形成玻璃帶的保護(hù)被膜的剩余的亞硫酸氣體，排出至系統(tǒng)外。但是，通過(guò)這樣的方法難以消除緩冷爐內(nèi)的上述問(wèn)題。本發(fā)明是鑒于上述問(wèn)題而提出的，其目的在于提供浮法玻璃的制造方法和制造裝 置，其能夠在玻璃帶的板面上可靠地形成足夠厚度的保護(hù)被膜并且能夠減輕或防止亞硫酸 氣體從緩冷爐內(nèi)泄露至外部和腐蝕緩冷爐的結(jié)構(gòu)件。本發(fā)明是根據(jù)為了達(dá)到上述目的專心研究的結(jié)果得到的，提供一種浮法玻璃的制 造方法，包括將在浮拋槽中成形并通過(guò)提升部從所述浮拋槽拉起的玻璃帶搬運(yùn)至緩冷爐的 工序，該緩冷爐用于將所述玻璃帶緩冷到玻璃的應(yīng)變點(diǎn)溫度以下，其中，從在該緩冷爐的上 游部設(shè)置的噴嘴向正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運(yùn)的所述玻璃帶的下表面供給亞硫酸氣體，進(jìn) 而在設(shè)置所述噴嘴的位置的下游的區(qū)域設(shè)置排氣室而吸引所述緩冷爐內(nèi)的氣氛，由此在所 述玻璃帶的周?chē)厮霾ＡУ陌徇\(yùn)方向形成所述亞硫酸氣體的氣流，且將所述氣流引導(dǎo) 至所述排氣室，將剩余的所述亞硫酸氣體排出至外部。優(yōu)選在所述排氣室的下游側(cè)設(shè)置有供氣室，從該供氣室向所述玻璃帶供給外部氣 體，由此在所述排氣室的后方形成相對(duì)于外部為正壓的氣氛。優(yōu)選對(duì)在與所述排氣室連通的排氣管道內(nèi)設(shè)置的排氣扇的轉(zhuǎn)速和/或在所述排 氣管道內(nèi)設(shè)置的風(fēng)擋的開(kāi)度進(jìn)行控制以調(diào)節(jié)排氣量。優(yōu)選對(duì)在與所述供氣室連通的供氣管道內(nèi)設(shè)置的供氣扇的轉(zhuǎn)速和/或在所述供 氣管道內(nèi)設(shè)置的風(fēng)擋的開(kāi)度進(jìn)行控制以調(diào)節(jié)供氣量。優(yōu)選在所述緩冷爐內(nèi)將所述排氣室內(nèi)的溫度保持為所述亞硫酸氣體的酸露點(diǎn)以 上。另外，本發(fā)明提供一種浮法玻璃制造裝置，其具有緩冷爐，該緩冷爐用于將在浮拋 槽中成形并通過(guò)提升部從所述浮拋槽拉起的玻璃帶緩冷到玻璃的應(yīng)變點(diǎn)溫度以下，其中， 在該緩冷爐的上游部設(shè)置有噴嘴，該噴嘴向正在該緩冷爐內(nèi)通過(guò)搬運(yùn)輥進(jìn)行搬運(yùn)的所述玻 璃帶的下表面噴吹亞硫酸氣體，在設(shè)置所述噴嘴的位置的下游區(qū)域?qū)⑽鼍徖錉t內(nèi)的 氣氛的排氣室設(shè)置在所述玻璃帶的上方。優(yōu)選在所述排氣室的下游側(cè)設(shè)置有供氣室，該供氣室用于向所述玻璃帶供給外部 氣體并在所述排氣室的后方形成相對(duì)于外部為正壓的氣氛。優(yōu)選在所述排氣室的下游側(cè)，在正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運(yùn)的所述玻璃帶的上方 和/或下方設(shè)置有隔板。優(yōu)選暴露于正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運(yùn)的所述玻璃帶的上方的氣氛中的結(jié)構(gòu)件 由耐酸性的不燃材料形成。優(yōu)選在與所述排氣室連通的排氣管道之前，與該排氣管道連通而設(shè)置有用于對(duì)所 述亞硫酸氣體進(jìn)行廢氣處理的洗氣器。根據(jù)本發(fā)明，因?yàn)樵诓ＡУ闹車(chē)夭ＡУ陌徇\(yùn)方向形成含有亞硫酸氣體的氣 氛的氣流，所以還能夠通過(guò)該氣流中擔(dān)載的亞硫酸氣體形成保護(hù)被膜。結(jié)果，尤其在玻璃帶 的下表面高效地形成保護(hù)被膜，因而能夠防止因搬運(yùn)輥產(chǎn)生的瑕疵。而且，能夠減輕或防止 亞硫酸氣體從緩冷爐內(nèi)泄露到外部以及腐蝕緩冷爐的結(jié)構(gòu)件等。


圖1是本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方式的浮法玻璃制造裝置的縱剖面說(shuō)明圖。
圖2是圖1中的A-A部的俯視圖(僅圖示了一半)。圖3是本發(fā)明其他優(yōu)選的實(shí)施方式的浮法玻璃制造裝置的緩冷爐的末端部的剖 面說(shuō)明圖。圖4是現(xiàn)有的浮法玻璃制造裝置的剖面說(shuō)明圖。標(biāo)號(hào)說(shuō)明1 玻璃帶2 浮拋槽3 熔融錫4 帶狀玻璃5 提升部6 緩冷爐7:退火窯8 提升輥9 罩構(gòu)件10 罩構(gòu)件11 搬運(yùn)輥12 排氣室13 切斷裝置14 噴嘴15 排氣管道16 風(fēng)擋17:排氣扇18 驅(qū)動(dòng)馬達(dá)19 供氣室20 供氣管道21 供氣扇22 風(fēng)擋23 驅(qū)動(dòng)馬達(dá)26:隔板27 筒狀構(gòu)件28 筒狀構(gòu)件
具體實(shí)施例方式下面，參照

本發(fā)明的實(shí)施方式。此外，在本說(shuō)明書(shū)中，所說(shuō)的玻璃帶的下 表面指玻璃帶與搬運(yùn)輥接觸一側(cè)的表面，所說(shuō)的下方指所述下表面朝向的方向，所說(shuō)的玻 璃帶的上方指所述下表面的相反側(cè)的面(上表面)朝向的方向。圖1是本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方式的浮法玻璃制造裝置的縱剖面說(shuō)明圖，圖2是圖1 中的A-A部的俯視圖。在圖2中僅圖示了緩冷爐的一半，未圖示的一半與之對(duì)稱，是相同的。 如圖所示，在浮拋槽2的熔融錫3上成形為帶狀玻璃4的玻璃帶1被在浮拋槽2的出口處的提升部5上設(shè)置的提升輥8從熔融錫3拉起，移送至與提升部5連續(xù)設(shè)置的緩冷爐6中。 在提升部5內(nèi)，提升輥8配置在高于浮拋槽2的熔融錫表面的高度上，在浮拋槽2中成形為 帶狀玻璃4的玻璃帶1被提升輥8拉起后，在具有罩構(gòu)件9的提升部5中冷卻直到變?yōu)榉€(wěn) 定的狀態(tài)，然后搬運(yùn)至緩冷爐6。緩冷爐6是與制造大多數(shù)玻璃產(chǎn)品中一般使用的緩冷爐同樣具有罩構(gòu)件10的溫 度可調(diào)的設(shè)備，在內(nèi)部并列設(shè)置有多個(gè)搬運(yùn)輥11。這些搬運(yùn)輥11由驅(qū)動(dòng)馬達(dá)(未圖示)在 恒定速度下驅(qū)動(dòng)，從而以決定的恒定速度牽引或搬運(yùn)帶狀的玻璃帶1。在這種情況下，可以 使一部分搬運(yùn)輥不與驅(qū)動(dòng)馬達(dá)連結(jié)以被驅(qū)動(dòng)，從而自由旋轉(zhuǎn)。該緩冷爐6的長(zhǎng)度為數(shù)十m， 在具有罩構(gòu)件10的緩冷爐6內(nèi)進(jìn)行溫度管理，以獲得溫度從上游部的高溫(例如，約600 7500C )遞減到下游部的末端溫度(例如，約200 400°C )的溫度分布。由此，玻璃帶1在 緩冷爐6內(nèi)通過(guò)搬運(yùn)輥11搬運(yùn)期間，緩冷到玻璃的應(yīng)變點(diǎn)溫度以下的溫度，使得在玻璃內(nèi) 不殘留不希望的熱應(yīng)力。并且，通常在到達(dá)緩冷爐6的出口前，玻璃帶1被冷卻到更加低于 玻璃的應(yīng)變點(diǎn)溫度的溫度。因?yàn)橥ㄟ^(guò)緩冷爐6中的退火工序冷卻了的玻璃帶1如上所述， 在緩冷爐6的出口還具有約200 400°C的高溫，因而再通過(guò)退火窯7冷卻到能夠切斷的溫 度后，通過(guò)切斷裝置13切斷為規(guī)定的大小。退火窯7如果能夠?qū)⒁丫徖涞牟ＡЮ鋮s到接 近室溫，則可以不是像緩冷爐6那樣的具有罩構(gòu)件10的溫度可調(diào)的設(shè)備。本發(fā)明如圖1所示，在緩冷爐6的上游部設(shè)置有用于向玻璃帶1的下表面噴吹亞 硫酸氣體的噴嘴14，而且在設(shè)置噴嘴14的位置(亞硫酸氣體噴吹位置)的下游區(qū)域設(shè)置有 排氣室12來(lái)吸引緩冷爐6內(nèi)的氣氛，從而將上游部的亞硫酸氣體在玻璃帶1的周?chē)鳛楹?有亞硫酸氣體的氣氛的氣流而在玻璃帶1的搬運(yùn)方向上形成，并且引導(dǎo)至排氣室12，從排 氣室12排出至外部。由此，在緩冷爐6中的緩冷工序中，通過(guò)噴嘴14向上游部的處于高溫 狀態(tài)的玻璃帶1的下表面噴吹亞硫酸氣體而形成由硫酸鹽構(gòu)成的防瑕疵用保護(hù)層(保護(hù)被 膜)，防止因搬運(yùn)輥產(chǎn)生的瑕疵和之后在搬運(yùn)時(shí)或輸送時(shí)產(chǎn)生的瑕疵。本發(fā)明通過(guò)在緩冷爐6的上游部設(shè)置所述噴嘴14，向高溫的玻璃帶1的下表面噴 吹亞硫酸氣體，能夠良好地形成保護(hù)被膜。越高溫，越容易在玻璃帶1的下表面形成由產(chǎn)生 自亞硫酸氣體的硫酸鹽形成的保護(hù)被膜。在本發(fā)明中，緩冷爐6的上游部是上述那樣管理 為高溫的區(qū)域。作為適于形成保護(hù)被膜的玻璃帶1的溫度，根據(jù)玻璃種類(lèi)等稍有不同，但優(yōu) 選500 750°C，更優(yōu)選600 750 "C。作為形成保護(hù)被膜所使用的氣體優(yōu)選亞硫酸氣體。亞硫酸氣體與玻璃中的化學(xué) 成分發(fā)生反應(yīng)而在玻璃帶1的板面上形成硫酸鈉等硫酸鹽被膜，該被膜易于通過(guò)水清洗除 去。亞硫酸氣體通常單獨(dú)使用，但是可以根據(jù)需要含有其他氣體。在緩冷爐6的上游部向 玻璃帶1噴吹亞硫酸氣體的情況下，為了快速冷卻溫度為應(yīng)變點(diǎn)以上的玻璃帶而不破壞緩 冷處理，優(yōu)選亞硫酸氣體預(yù)熱到例如400 600°C左右。本發(fā)明在設(shè)置噴嘴14的位置的下游區(qū)域設(shè)置有排氣室12。圖1是將排氣室12設(shè) 置在緩冷爐6的下游部的例子。在緩冷爐6的上游部從噴嘴14向玻璃帶1噴吹的亞硫酸 氣體大多與玻璃帶1的玻璃成分發(fā)生反應(yīng)而在玻璃帶1的下表面形成硫酸鹽被膜，但是剩 余的亞硫酸氣體包含在緩冷爐6上游部的爐內(nèi)的氣氛中。排氣室12具有如下的功能，即， 通過(guò)向下游方向吸引該上游部的爐內(nèi)的含有亞硫酸氣體的氣氛，在玻璃帶1的周?chē)⒀夭?璃帶1的搬運(yùn)方向形成含有亞硫酸氣體的氣氛的氣流，以免在緩冷爐6內(nèi)產(chǎn)生亞硫酸氣體的停滯狀態(tài)，并且通過(guò)在玻璃帶1的周?chē)纬傻暮衼喠蛩釟怏w的氣氛的氣流也形成保護(hù) 被膜，并進(jìn)一步將剩余的亞硫酸氣體排出到外部。若排氣室12設(shè)置在緩冷爐6的末端(下 游端)，則含有亞硫酸氣體的氣氛的氣流被引導(dǎo)至緩冷爐6的末端，通過(guò)排氣室12排出，因 而能夠避免氣流的一部分向排氣室12的后方(下游側(cè))流動(dòng)。但是，排氣室12的設(shè)置位 置只要是氣體噴吹位置的下游區(qū)域即可，也可以是緩冷爐6的中游部或下游部。但是，優(yōu)選 設(shè)置在溫度低于適于形成保護(hù)皮膜的玻璃帶溫度的玻璃溫度區(qū)域(小于500°C )。所述排氣室12具有筒狀構(gòu)件27，以便高效吸引緩冷爐6內(nèi)的含有亞硫酸氣體的氣 氛，在該筒狀構(gòu)件27的上部設(shè)置有用于將吸引的氣氛排出到外部的排氣管道15。排氣管 道15與排氣室12連通。筒狀構(gòu)件27的形狀不特別限定，但是為了盡可能在緩冷爐6的整 個(gè)寬度方向上均勻地吸引緩冷爐6內(nèi)的氣氛，如圖2所示橫截面形狀為矩形，兩側(cè)邊優(yōu)選為 玻璃帶寬度以上，更優(yōu)選具有從搬運(yùn)輥11的端部突出到外側(cè)的大小。筒狀構(gòu)件27的寬度 a主要由緩冷爐6的爐內(nèi)容量決定，但優(yōu)選其大小為0. 5 4m。如果a具有這樣的大小，則 能夠在不妨礙緩冷操作的情況下緩慢地吸引緩冷爐6內(nèi)的氣氛。若a過(guò)小，則產(chǎn)生壓力損 失，不優(yōu)選。并且，為了在距離玻璃帶1比較近的位置吸引緩冷爐6內(nèi)的氣氛，盡可能地在 玻璃帶1的附近形成含有亞硫酸氣體的氣氛的氣流，優(yōu)選設(shè)定為筒狀構(gòu)件27的下端與玻璃 帶1間隔規(guī)定的間隔(優(yōu)選10 100mm，更優(yōu)選10 50mm)。此時(shí)，優(yōu)選筒狀構(gòu)件27的上 游側(cè)的下端比下游側(cè)的下端更遠(yuǎn)離玻璃帶，尤其優(yōu)選遠(yuǎn)離20 70mm。通過(guò)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)18驅(qū)動(dòng)設(shè)置在排氣管道15內(nèi)的排氣扇17，排出所述排氣室12內(nèi) 的氣體。還能夠在排氣管道15內(nèi)設(shè)置風(fēng)擋16以調(diào)整排氣室12的排氣量。像這樣在排氣 管道15內(nèi)設(shè)置了風(fēng)擋16的情況下，能夠通過(guò)控制排氣扇17的轉(zhuǎn)速和/或風(fēng)擋16的開(kāi)度， 調(diào)整排氣室12的排氣量。一邊考慮噴嘴14噴吹的亞硫酸氣體的噴吹量等一邊調(diào)整排氣室 12的排氣量。以在圖1所示的緩冷爐6中如上述那樣將排氣室12設(shè)置在緩冷爐6末端的例子 說(shuō)明了將排氣室12設(shè)置在緩冷爐6內(nèi)部的情況，但是在本發(fā)明中，排氣室12能夠設(shè)置在緩 冷爐6的爐外。該方法未圖示，將排氣室12設(shè)置在與作為緩冷爐6末端的出口相鄰的退火 窯7中，具體地說(shuō)拆除緩冷爐6的罩構(gòu)件10的末端部的全部或下部而設(shè)置排氣室12，其中， 緩冷爐6的罩構(gòu)件10劃分緩冷爐6和沒(méi)有罩構(gòu)件的退火窯7之間。結(jié)果，排氣室12形成 緩冷爐6的末端而形成緩冷爐6的罩構(gòu)件10的一部分。在本發(fā)明中所說(shuō)的將排氣室12設(shè) 置在緩冷爐6的末端包括上述將排氣室12與緩冷爐6的出口部相鄰地設(shè)置在退火窯中的 情況。根據(jù)該方法，緩冷爐6內(nèi)的全部氣氛被引導(dǎo)至排氣室12而在緩冷爐6的上游部到 末端的整個(gè)區(qū)域流動(dòng)，而在玻璃帶1的周?chē)纬珊衼喠蛩釟怏w的氣流，剩余的亞硫酸氣 體從緩冷爐6的末端排出。因而，如將排氣室12設(shè)置在緩冷爐6內(nèi)的中游部或下游部的情 況那樣，實(shí)際上不用擔(dān)心亞硫酸氣體的一部分繞至排氣室12的后方而殘留在緩冷爐6內(nèi)。 另外，該方法因?yàn)槟軌蚶脹](méi)有罩構(gòu)件的退火窯設(shè)置排氣室12，因而具有不用大幅度改造 緩冷爐6的優(yōu)點(diǎn)。圖3示出了本發(fā)明其他的優(yōu)選實(shí)施方式。關(guān)于本例，如圖所示，在緩冷爐6的下游 部設(shè)置的排氣室12的下游側(cè)設(shè)置有供氣室19，從該供氣室19向排氣室12后方的玻璃帶1 供給外部氣體，在排氣室12的后方形成相對(duì)于外部為正壓的氣氛。在此，所說(shuō)的排氣室12的后方指玻璃帶1的搬運(yùn)方向上的排氣室12的后側(cè)，具體指在緩冷爐6中設(shè)置的排氣室12 的下游側(cè)(與浮拋槽2相反的一側(cè))附近的部位。在將排氣室12設(shè)置于緩冷爐6的情況 下，在排氣室12的后方，通常通過(guò)排氣室12的吸引作用易于形成負(fù)壓狀態(tài)。因此，如上所 述，在將排氣室12設(shè)置在緩冷爐6末端的情況下，粉塵等可能與外部氣體一起從緩冷爐6 的出口部流入緩冷爐6內(nèi)，而附著在玻璃帶1的表面。本例通過(guò)供氣室19防止這樣的粉塵 等流入。S卩，如圖3所示，在排氣室12的下游側(cè)并列設(shè)置有供氣室19，從該供氣室19向排 氣室12后方的玻璃帶1供給外部氣體，使排氣室12的后方相對(duì)于外部為正壓。該供氣室 19具有與所述排氣室12同樣的筒狀構(gòu)件28，該筒狀構(gòu)件28的形狀和設(shè)置方法也與排氣室 12基本相同(其中，優(yōu)選筒狀構(gòu)件28的下游側(cè)的下端比上游側(cè)的下端更遠(yuǎn)離玻璃帶，尤其 優(yōu)選遠(yuǎn)離20 70mm)，在筒狀構(gòu)件28的上部設(shè)置有供氣用的供氣管道20。供氣管道20與 供氣室19連通。在供氣管道20內(nèi)設(shè)置有供氣扇21和風(fēng)擋22。通過(guò)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)23驅(qū)動(dòng)供氣 扇21向供氣室19供氣，通過(guò)控制供氣扇21的轉(zhuǎn)速和/或改變風(fēng)擋22的開(kāi)度而調(diào)整供氣 室19的供氣量。而且，優(yōu)選在排氣室12的下游側(cè)(在具有供氣室19的情況下為排氣室12與供氣 室19之間)，在緩冷爐6內(nèi)進(jìn)行搬運(yùn)中的玻璃帶1的上方和/或下方設(shè)置隔板26 (在圖3 中玻璃帶上方的隔板未圖示)。這是為了提高排氣效率或供氣效率。在將隔板26設(shè)置在玻璃帶1上方的情況下，優(yōu)選隔板26與玻璃帶1之間的間隔 為10 100mm，更優(yōu)選為10 50mm，在將隔板26設(shè)置在玻璃帶1的下方的情況下，優(yōu)選隔 板26與玻璃帶1之間的間隔或隔板前端與搬運(yùn)輥外周間的間隔為10 100mm，更優(yōu)選為 10 50mm。優(yōu)選隔板26的寬度寬于排氣室12的寬度。如本例所示，通過(guò)與排氣室12并列地設(shè)置供氣室19，而通過(guò)供氣室19的供氣使排 氣室12的后方(下游側(cè))保持相對(duì)于外部為1 IOPa左右的正壓，因而能夠防止引導(dǎo)至 排氣室12的亞硫酸氣體的一部分流動(dòng)到排氣室12的后方。尤其是，在排氣室12和供氣室 19像本例那樣設(shè)置于緩冷爐6末端的情況下，能夠防止亞硫酸氣體的一部分流動(dòng)到排氣室 12的后方之后再?gòu)木徖錉t6的末端部流出到退火窯側(cè)。另外，因?yàn)榫徖錉t6的末端部或供 氣室19的后方部相對(duì)于外部形成正壓，所以能夠防止粉塵等從外部流入緩冷爐6內(nèi)。以上，說(shuō)明了本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方式，但優(yōu)選暴露于緩冷爐6的至少玻璃帶1上方 的氣氛中的排氣室12和供氣室19等結(jié)構(gòu)件由耐酸性的不燃材料形成。這是因?yàn)?，若由?酸性差的材料形成，則會(huì)被亞硫酸氣體腐蝕，其腐蝕物落在玻璃帶上，或者附著、粘接在輥 表面上，從而產(chǎn)生在玻璃帶表面上附著異物或產(chǎn)生瑕疵等缺點(diǎn)，導(dǎo)致得到的浮法玻璃的品 質(zhì)降低和成品率下降。作為該耐酸性的不燃材料可以列舉不銹鋼或混凝土澆筑、陶瓷內(nèi)襯、 特氟龍(Teflon，注冊(cè)商標(biāo))加工等。另外，若緩冷爐6內(nèi)、排氣室12內(nèi)、排氣管道15內(nèi)和供氣管道20內(nèi)等的溫度形成 為亞硫酸氣體的酸露點(diǎn)溫度(100 200°C )以下，則在緩冷爐6內(nèi)噴吹到玻璃帶1的下表 面上的亞硫酸氣體在與上述構(gòu)件接觸時(shí)結(jié)露，并且結(jié)露落到玻璃帶上污染玻璃帶，因而優(yōu) 選緩冷爐6內(nèi)、排氣室12內(nèi)、供氣室19內(nèi)、排氣管道15內(nèi)和供氣管道20的溫度保持為高 于亞硫酸氣體的酸露點(diǎn)的溫度。此外，優(yōu)選在與排氣室12連通的排氣管道15之前與該排氣管道15連通而設(shè)置有用于對(duì)亞硫酸氣體進(jìn)行廢氣處理的洗氣器。參照特定的實(shí)施方式詳細(xì)地說(shuō)明了本發(fā)明，但本領(lǐng)域技術(shù)人員公知能夠在不脫離 本發(fā)明宗旨和范圍的情況下加入各種變形和修正。本申請(qǐng)基于2009年12月14日提出的日本專利申請(qǐng)2009-282459，在此參照并引 入其內(nèi)容。本發(fā)明適用于在浮法玻璃制造裝置的緩冷爐的高溫區(qū)域向浮法玻璃噴吹亞硫酸 氣體以通過(guò)其硫酸鹽形成防瑕疵用的保護(hù)被膜的浮法加工法。
權(quán)利要求
1.一種浮法玻璃的制造方法，包括將在浮拋槽中成形并在提升部從所述浮拋槽拉起的 玻璃帶搬運(yùn)至緩冷爐的工序，該緩冷爐用于將所述玻璃帶緩冷到玻璃的應(yīng)變點(diǎn)溫度以下， 其中，從在該緩冷爐的上游部設(shè)置的噴嘴向正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運(yùn)的所述玻璃帶的下 表面供給亞硫酸氣體，進(jìn)而在設(shè)置所述噴嘴的位置的下游的區(qū)域設(shè)置排氣室而吸引所述緩 冷爐內(nèi)的氣氛，由此在所述玻璃帶的周?chē)厮霾ＡУ陌徇\(yùn)方向形成所述亞硫酸氣體的 氣流，且將所述氣流引導(dǎo)至所述排氣室，將剩余的所述亞硫酸氣體排出至外部。
2.如權(quán)利要求1所述的浮法玻璃的制造方法，其中，在所述排氣室的下游側(cè)設(shè)置有供氣室，從該供氣室向所述玻璃帶供給外部氣體，由此 在所述排氣室的后方形成相對(duì)于外部為正壓的氣氛。
3.如權(quán)利要求1或2所述的浮法玻璃的制造方法，其中，對(duì)在與所述排氣室連通的排氣管道內(nèi)設(shè)置的排氣扇的轉(zhuǎn)速和/或在所述排氣管道內(nèi) 設(shè)置的風(fēng)擋的開(kāi)度進(jìn)行控制以調(diào)節(jié)排氣量。
4.如權(quán)利要求2所述的浮法玻璃的制造方法，其中，對(duì)在與所述供氣室連通的供氣管道內(nèi)設(shè)置的供氣扇的轉(zhuǎn)速和/或在所述供氣管道內(nèi) 設(shè)置的風(fēng)擋的開(kāi)度進(jìn)行控制以調(diào)節(jié)供氣量。
5.如權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的浮法玻璃的制造方法，其中，在所述緩冷爐內(nèi)將所述排氣室內(nèi)的溫度保持為所述亞硫酸氣體的酸露點(diǎn)以上。
6.一種浮法玻璃制造裝置，具有緩冷爐，該緩冷爐用于將在浮拋槽中成形并在提升部 從所述浮拋槽拉起的玻璃帶緩冷到玻璃的應(yīng)變點(diǎn)溫度以下，其中，在該緩冷爐的上游部設(shè)置有噴嘴，該噴嘴向正在該緩冷爐內(nèi)通過(guò)搬運(yùn)輥進(jìn)行搬運(yùn)的所 述玻璃帶的下表面噴吹亞硫酸氣體，在設(shè)置所述噴嘴的位置的下游的區(qū)域?qū)⑽鼍徖?爐內(nèi)的氣氛的排氣室設(shè)置在所述玻璃帶的上方。
7.如權(quán)利要求6所述的浮法玻璃制造裝置，其中，在所述排氣室的下游側(cè)設(shè)置有供氣室，該供氣室用于向所述玻璃帶供給外部氣體并在 所述排氣室的后方形成相對(duì)于外部為正壓的氣氛。
8.如權(quán)利要求6或7所述的浮法玻璃制造裝置，其中，在所述排氣室的下游側(cè)，在正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運(yùn)的所述玻璃帶的上方和/或下 方設(shè)置有隔板。
9.如權(quán)利要求6 8中任一項(xiàng)所述的浮法玻璃制造裝置，其中，暴露于正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運(yùn)的所述玻璃帶的上方的氣氛中的結(jié)構(gòu)件由耐酸性 的不燃材料形成。
10.如權(quán)利要求6 9中任一項(xiàng)所述的浮法玻璃制造裝置，其中，在與所述排氣室連通的排氣管道之前，與該排氣管道連通而設(shè)置有用于對(duì)所述亞硫酸 氣體進(jìn)行廢氣處理的洗氣器。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種浮法玻璃的制造方法和制造裝置，該制造方法包括將在浮拋槽中成形并通過(guò)提升部從所述浮拋槽拉起的玻璃帶搬運(yùn)至緩冷爐的工序，該緩冷爐用于將所述玻璃帶緩冷到玻璃的應(yīng)變點(diǎn)溫度以下，其中，從在該緩冷爐的上游部設(shè)置的噴嘴向正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運(yùn)的所述玻璃帶的下表面供給亞硫酸氣體，進(jìn)而在設(shè)置所述噴嘴的位置的下游的區(qū)域設(shè)置排氣室而吸引所述緩冷爐內(nèi)的氣氛，由此在所述玻璃帶的周?chē)厮霾ＡУ陌徇\(yùn)方向形成所述亞硫酸氣體的氣流，且將所述氣流引導(dǎo)至所述排氣室，將剩余的所述亞硫酸氣體排出至外部。
文檔編號(hào)C03B18/00GK102092921SQ20101059305
公開(kāi)日2011年6月15日 申請(qǐng)日期2010年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月14日
發(fā)明者瀧口哲史 申請(qǐng)人:旭硝子株式會(huì)社