本發(fā)明涉及玻璃檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種超薄浮法玻璃彎曲度檢測(cè)方法。

背景技術(shù)：

在超薄浮法玻璃基板導(dǎo)電膜行業(yè)中，彎曲度是一項(xiàng)考量玻璃質(zhì)量重要的功能性指標(biāo)。對(duì)于厚度在0.55mm以下的超薄浮法玻璃，其彎曲度指標(biāo)一般要求為≤0.15%，而目前黑箱點(diǎn)陣法中白色圓斑的直徑為6.35mm，這導(dǎo)致檢測(cè)方法往往達(dá)不到彎曲度指標(biāo)的精度，不能夠有效地反映出被檢測(cè)玻璃的彎曲度質(zhì)量，給玻璃生產(chǎn)工藝的調(diào)整造成了困難。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種超薄浮法玻璃彎曲度檢測(cè)方法，該方法能夠檢測(cè)超薄浮法玻璃的彎曲度，主要用于滿足厚度在0.55mm以下彎曲度的檢測(cè)指標(biāo)。

本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：

一種超薄浮法玻璃彎曲度檢測(cè)方法，包括以下步驟：

a)取符合規(guī)定尺寸的玻璃試樣置于黑箱中；所述黑箱為五面封閉、一面敞開(kāi)的矩形箱體，矩形箱體內(nèi)的頂部涂有中間帶十字星的第一白色圓斑點(diǎn)陣與第二白色圓斑點(diǎn)陣，第一白色圓斑點(diǎn)陣中白色圓斑的直徑為6.35mm，第二白色圓斑點(diǎn)陣中白色圓斑的直徑為9.52mm，第一白色圓斑點(diǎn)陣與第二白色圓斑點(diǎn)陣間隔設(shè)置；

b) 所述玻璃試樣放置于黑箱的平面反射板上，根據(jù)鏡面成像原理，玻璃試樣存在彎曲時(shí)，觀察其圖像；

c) 當(dāng)白色圓斑點(diǎn)直徑為9.52mm的反射圖像和測(cè)試圖像相切時(shí)彎曲度為≤0.15%；當(dāng)白色圓斑點(diǎn)直徑為6.35mm的反射圖像和測(cè)試圖像相切時(shí)彎曲度≤0.10%，當(dāng)反射圖像和測(cè)試圖像重合部分等于一半時(shí)，彎曲度≤0.05%；當(dāng)反射圖像和測(cè)試圖像完全重合時(shí)，彎曲度為0。

本發(fā)明的有益效果是，通過(guò)增加直徑為9.52mm的白色圓斑點(diǎn)陣，可以有效地檢測(cè)出厚度在0.55mm以下超薄浮法玻璃的彎曲度，充分提高了超薄浮法玻璃基板的使用性能，使生產(chǎn)調(diào)整也更加清晰、直觀、有效；能夠用于超薄浮法玻璃原片彎曲度生產(chǎn)水平的控制與提高，增加了超薄浮法玻璃彎曲度的輔助檢測(cè)與調(diào)整手段；為穩(wěn)定和提高超薄浮法玻璃的產(chǎn)、質(zhì)量奠定了基礎(chǔ)。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明：

圖1是本發(fā)明中白色圓斑點(diǎn)陣的示意圖。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明提供一種超薄浮法玻璃彎曲度檢測(cè)方法，包含以下步驟：

a)取符合規(guī)定尺寸的玻璃試樣置于黑箱中；所述黑箱為五面封閉、一面敞開(kāi)的矩形箱體，結(jié)合圖1所示，矩形箱體內(nèi)的頂部涂有中間帶十字星的第一白色圓斑點(diǎn)陣與第二白色圓斑點(diǎn)陣，第一白色圓斑點(diǎn)陣中白色圓斑的直徑為6.35mm，第二白色圓斑點(diǎn)陣中白色圓斑的直徑為9.52mm，第一白色圓斑點(diǎn)陣與第二白色圓斑點(diǎn)陣間隔設(shè)置；

b) 所述玻璃試樣放置于黑箱的平面反射板上，根據(jù)鏡面成像原理，玻璃試樣存在彎曲時(shí)，觀察其圖像；

c) 當(dāng)白色圓斑點(diǎn)直徑為9.52mm的反射圖像和測(cè)試圖像相切時(shí)彎曲度≤0.15%；當(dāng)白色圓斑點(diǎn)直徑為6.35mm的反射圖像和測(cè)試圖像相切時(shí)彎曲度≤0.10%，當(dāng)反射圖像和測(cè)試圖像重合部分等于一半時(shí)，彎曲度≤0.05%；當(dāng)反射圖像和測(cè)試圖像完全重合時(shí)，彎曲度為0。

以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制；任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案做出許多可能的變動(dòng)和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同替換、等效變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。