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一種改進(jìn)的噴絲頭的制作方法

文檔序號(hào):1778490閱讀:880來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種改進(jìn)的噴絲頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及熔噴法生產(chǎn)無(wú)紡布噴絲頭,尤其是一種適用于寬體模塊組合的噴絲頭。
背景技術(shù)
噴絲頭是熔噴法無(wú)紡布生產(chǎn)設(shè)備中的重要部件。通常,熔體通過(guò)一種合適的模具組件被擠壓或紡絲,模具組件中包括一個(gè)生產(chǎn)成形材料的噴絲頭。噴絲頭的作用是將熔融狀態(tài)下的高分子物料經(jīng)模塊組件中的流道分配給模頭一字排列的一列噴孔,在壓力下經(jīng)這列孔將熔體噴出,在高溫高壓氣流的作用下,形成纖維束,最后在接收裝置上形成無(wú)紡布材料。所以,噴絲頭的結(jié)構(gòu)和性能直接影響到生產(chǎn)無(wú)紡布的技術(shù)水平。
目前,現(xiàn)有的噴絲頭,尤其是寬體的噴絲頭,在生產(chǎn)過(guò)程中的氣體分配中存在著模頭整體寬度上氣流量不均勻的普遍問(wèn)題。由于氣體流量分配不均勻,從而導(dǎo)致產(chǎn)品整幅寬度上的絲徑不均勻,最終導(dǎo)致成品的合格率底?,F(xiàn)有技術(shù)中有很多提高設(shè)備性能的發(fā)明,而未見有通過(guò)調(diào)整氣體分配均勻性從而提高產(chǎn)品品質(zhì)的技術(shù)方案。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種通過(guò)調(diào)整寬體模塊組合件寬度上氣體流量的均勻性,從而可提高產(chǎn)品性能和質(zhì)量的改進(jìn)的噴絲頭。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的它包括寬體模塊組合件,以及設(shè)置在該寬體模塊組合件兩側(cè)相對(duì)位置至少兩個(gè)或兩個(gè)以上成雙數(shù)的氣體分配調(diào)節(jié)裝置。所述的氣體分配調(diào)節(jié)裝置包括一個(gè)進(jìn)氣室、至少一個(gè)環(huán)形氣體通道、和一個(gè)與噴絲頭噴口處相通的出氣通道,其中所述的進(jìn)氣室與環(huán)形氣體通道、環(huán)形氣體通道與出氣通道之間開有數(shù)個(gè)微孔。其中,所述微孔的孔徑為4mm-12mm。所述相鄰兩環(huán)形氣體通道的間距為6mm-20mm。
進(jìn)一步,所述的氣體分配調(diào)節(jié)裝置還包括一個(gè)設(shè)置在出氣通道中的氣體梳理裝置。所述氣體梳理裝置是設(shè)置在出氣通道中的呈S型或波浪型的通氣道。
所述的氣體分配調(diào)節(jié)裝置還包括一個(gè)設(shè)置在出氣通道外側(cè)的溫控裝置。所述的溫控裝置是電加熱溫控裝置。
采用本實(shí)用新型的噴絲頭,采用了氣體分配調(diào)節(jié)裝置,解決了寬體熔噴法噴絲模頭整體寬度上氣體流量不均勻的問(wèn)題,提高了成品的性能和質(zhì)量。由于其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,易于操作,不僅大大提高了成品的產(chǎn)量和質(zhì)量,而且制造成本不會(huì)增加。


圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的說(shuō)明。
參見附圖,本實(shí)用新型包括寬體模塊組合件1,以及設(shè)置在該寬體模塊組合件兩側(cè)相對(duì)位置至少兩個(gè)或兩個(gè)以上成雙數(shù)的氣體分配調(diào)節(jié)裝置2。所述的氣體分配調(diào)節(jié)裝置2包括一個(gè)進(jìn)氣室21、至少一個(gè)環(huán)形氣體通道22、和一個(gè)與噴絲頭噴口處相通的出氣通道23,其中所述的進(jìn)氣室21與環(huán)形氣體通道22、環(huán)形氣體通道22與出氣通道23之間開有數(shù)個(gè)微孔24,所述微孔24的孔徑為4mm-12mm。優(yōu)選的方案是這樣的小孔要開一排,且直徑取中間為好。圖中示出的技術(shù)方案是在模塊組合件兩側(cè)相對(duì)位置設(shè)置了兩個(gè)氣體分配調(diào)節(jié)裝置2,也可以設(shè)置四個(gè)。其中的環(huán)形氣體通道22為兩個(gè),以使得氣體流量得以充分的均勻。當(dāng)然也可采用三個(gè)環(huán)形氣體通道。所述相鄰兩環(huán)形氣體通道22的間距為6mm-20mm,過(guò)大或過(guò)小會(huì)影響氣體的均勻性。出氣通道23為一狹長(zhǎng)的通道,其一端與環(huán)形氣體通道22上的微孔24相通,另一端與噴絲頭噴口處相通。進(jìn)一步,在出氣通道23中設(shè)置氣體梳理裝置3,使得氣流得到進(jìn)一步的梳理。圖中所示的氣體梳理裝置3是設(shè)置在出氣通道23中的呈S型的通氣道,當(dāng)然也可以是波浪型的通氣道。
為了控制氣流的均勻性,還包括一個(gè)設(shè)置在出氣通道23外側(cè)的溫控裝置4,溫控裝置4可以是電加熱溫控裝置,也可以是其它現(xiàn)有技術(shù)的控制方式。
工作中,當(dāng)氣流從噴頭兩側(cè)進(jìn)入進(jìn)氣室21后,通過(guò)一排的微孔24將氣體梳理后進(jìn)入第一環(huán)形氣體通道22,再流向下面設(shè)置的一排微孔24′,使氣體在流動(dòng)的過(guò)程中得到均壓,也就是氣體由壓力高的地方流到壓力低的地方。氣體從第一環(huán)形氣體通道22的微孔24′流向第二環(huán)形氣體通道22′,在第二環(huán)形氣體通道22′中得到與第一環(huán)形氣體通道22相同的作用。當(dāng)氣體經(jīng)過(guò)幾次梳理后到達(dá)噴絲頭的氣體噴口處,使得噴絲模頭整體寬度上氣體流量達(dá)到均勻、一致。
為了使得氣體分配的效果更好,本實(shí)用新型還在出氣通道23中設(shè)置氣體梳理裝置3,以及設(shè)置在出氣通道23外側(cè)的溫控裝置4。這樣,當(dāng)氣體經(jīng)過(guò)S型的通氣道后,相信氣體會(huì)更加均勻、平穩(wěn)。
雖然以上對(duì)本實(shí)用新型作了詳細(xì)描述,但本技術(shù)領(lǐng)域中普通技術(shù)人員顯然可以認(rèn)識(shí)到,前述實(shí)施例僅僅是為了說(shuō)明本發(fā)明,而非限定本發(fā)明。對(duì)前述實(shí)施例做出的多種變化或變型,都應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種改進(jìn)的噴絲頭,其特征在于它包括寬體模塊組合件,以及設(shè)置在該寬體模塊組合件兩側(cè)相對(duì)位置至少兩個(gè)或兩個(gè)以上成雙數(shù)的氣體分配調(diào)節(jié)裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進(jìn)的噴絲頭,其特征在于所述的氣體分配調(diào)節(jié)裝置包括一個(gè)進(jìn)氣室、至少一個(gè)環(huán)形氣體通道、和一個(gè)與噴絲頭噴口處相通的出氣通道,其中所述的進(jìn)氣室與環(huán)形氣體通道、環(huán)形氣體通道與出氣通道之間開有數(shù)個(gè)微孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種改進(jìn)的噴絲頭,其特征在于所述微孔的孔徑為4mm-12mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種改進(jìn)的噴絲頭,其特征在于所述相鄰兩環(huán)形氣體通道的間距為6mm-20mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種改進(jìn)的噴絲頭,其特征在于所述的氣體分配調(diào)節(jié)裝置還包括一個(gè)設(shè)置在出氣通道中的氣體梳理裝置。
6.據(jù)權(quán)利要求5所述的一種改進(jìn)的噴絲頭,其特征在于所述的氣體梳理裝置是設(shè)置在出氣通道中的呈S型或波浪型的通氣道。
7.據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種改進(jìn)的噴絲頭,其特征在于所述的氣體分配調(diào)節(jié)裝置還包括一個(gè)設(shè)置在出氣通道外側(cè)的溫控裝置。
8.據(jù)權(quán)利要求7所述的一種改進(jìn)的噴絲頭,其特征在于所述的溫控裝置是電加熱溫控裝置。
專利摘要本實(shí)用新型涉及熔噴法生產(chǎn)無(wú)紡布噴絲頭,尤其是一種適用于寬體模塊組合的噴絲頭。它包括寬體模塊組合件,以及設(shè)置在該寬體模塊組合件兩側(cè)相對(duì)位置至少兩個(gè)或兩個(gè)以上成雙數(shù)的氣體分配調(diào)節(jié)裝置。所述的氣體分配調(diào)節(jié)裝置包括一個(gè)進(jìn)氣室、至少一個(gè)環(huán)形氣體通道、和一個(gè)與噴絲頭噴口處相通的出氣通道,其中所述的進(jìn)氣室與環(huán)形氣體通道、環(huán)形氣體通道與出氣通道之間開有數(shù)個(gè)微孔。采用本實(shí)用新型的噴絲頭,解決了寬體熔噴法噴絲模頭整體寬度上氣體流量不均勻的問(wèn)題,提高了成品的性能和質(zhì)量。
文檔編號(hào)D01D4/00GK2621186SQ03261249
公開日2004年6月23日 申請(qǐng)日期2003年5月19日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月19日
發(fā)明者侯慕毅 申請(qǐng)人:侯慕毅
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