從對應(yīng)的沉積源12沉積到襯底6上的材料的所需圖案。
[0037] 各個陰影掩模16可由例如儀、銘、鋼、銅、科瓦鐵儀鉆合金（Kovar夠）或因瓦合金 (inva悚）制成，并具有優(yōu)選在20和200微米之間的厚度，更優(yōu)選地在20和50微米之間的厚 度?？仆哞F儀鉆合金和因瓦合金可從例如俄勒岡州阿什蘭的ESPICo巧Inc.獲得。在美國， Kovar影是特拉華州威爾明頓的CRS化Idings，Inc.擁有的注冊號為337，962的注冊商標(biāo)， 1 η Va憤是法國Imphy S. A. Co巧orat ion目前擁有的注冊號為63,970的注冊商標(biāo)。
[0038] 本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解的是，陰影掩模沉積系統(tǒng)2可W包括附加平臺（未示出），例 如公知的退火平臺、測試平臺、一個或多個清潔平臺、切割與安裝平臺等等。此外，沉積真空 容器4的數(shù)量、用途、布置可由本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員根據(jù)需要進(jìn)行修改，W根據(jù)具體應(yīng) 用中所需要的期望順序沉積一種或多種材料。授予化ody等人的美國專利N〇.6,943,066中 披露了一種示例性的陰影掩模沉積系統(tǒng)及使用方法，該美國專利通過引用方式并入本文。
[0039] 沉積真空容器4可用于在襯底6上沉積材料，從而在襯底6上形成電子設(shè)備的一個 或多個電子元件。各個電子元件可W是例如薄膜晶體管(TFT)、存儲元件、電容器等等?？沙?積一個或多個電子元件的組合，W形成高級電子元件，例如但不局限于電子設(shè)備的子像素 或像素。如美國專利No. 6，943，066 (通過引用方式并入本文）中所披露，可僅僅通過沉積真 空容器4中的連續(xù)沉積事件在襯底6上連續(xù)沉積多種材料，來形成多層電路。
[0040] 各個沉積真空容器4與真空源(未示出）相連，真空源用于在其中建立適當(dāng)?shù)恼婵眨?從而使得設(shè)置在對應(yīng)沉積源12中的裝載的材料能夠通過對應(yīng)陰影掩模16中的一個或多個 開口、W本領(lǐng)域內(nèi)已知的方式(例如，瓣射或汽相沉積)沉積在襯底6上。
[0041] 無論襯底6的構(gòu)成如何，例如為連續(xù)的層還是單獨的襯底，各個沉積真空容器4都 可包括用于防止襯底6在平移通過沉積真空容器4時下垂的支撐物或?qū)蛭铩?br>[0042] 在陰影掩模沉積系統(tǒng)2運(yùn)行期間，當(dāng)所述襯底6前進(jìn)通過對應(yīng)的沉積真空容器4時， 設(shè)置在各個沉積源12中的材料在存在適當(dāng)真空的情況下在對應(yīng)沉積真空容器4中通過對應(yīng) 陰影掩模16中的一個或多個開口沉積在襯底6上，于是在襯底6上形成多個漸進(jìn) (progreSSive)圖案。更具體地，襯底6 W預(yù)定的時間間隔置于各個沉積真空容器4中。在該 預(yù)定的時間間隔期間，材料從對應(yīng)的沉積源12沉積到襯底6上。在運(yùn)個預(yù)定的時間間隔之 后，襯底6前進(jìn)到一系列真空容器中的下一個W進(jìn)行其他處理(如果適用）。運(yùn)種前進(jìn)繼續(xù)進(jìn) 行，直到襯底6通過所有的沉積真空容器4為止，隨后襯底6離開該系列沉積真空容器4中的 最后一個。
[0043] 參照圖2并且繼續(xù)參照圖1A和圖1B，掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)15包括一個或多個運(yùn)動平臺20， 運(yùn)動平臺20用于控制襯底6、陰影掩模16或者運(yùn)兩者的定向和位置，從而W下文中描述的方 式使襯底6和陰影掩模16對準(zhǔn)。掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)15的一個可取的、非限制性實施例包括聯(lián)接至 Υ-Θ平臺20A的襯底6W及聯(lián)接至X-Z平臺20B的陰影掩模16。一個或多個平臺20用于實現(xiàn)襯 底6、陰影掩模16或者運(yùn)兩者在X方向、Y方向、Z方向和/或Θ方向（在本實例中Θ方向是襯底6 在X-Y平面上的旋轉(zhuǎn)平移)上的平移、定向和定位，運(yùn)在本技術(shù)領(lǐng)域中是公知的，為了簡明起 見，不在此進(jìn)一步描述。
[0044] Υ-Θ平臺20A和X-Z平臺20B在控制器22的控制下運(yùn)行，控制器22可W通過硬件和/ 或軟件的任何合適的和/或可取的組合來實施，從而W下文中描述的方式實現(xiàn)對運(yùn)動平臺 20A和20B的控制。
[0045] 掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)15還包括一個或多個光源24W及一個或多個光接收器26。各個光源 24置于與一個光接收器26對準(zhǔn)的位置，從而限定了光源24-光接收器26對。各個光源24-光 接收器26對之間限定了光路36。
[0046] 在掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)的使用中，襯底6和陰影掩模16位于每個光源24-光接收器26對的 光路36中。在一個可取的實施例中，掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)15包括四個光源24和四個光接收器26，共 計有限定四條光路36的四個光源24-光接收器26對。然而，運(yùn)不應(yīng)理解為限制本發(fā)明。
[0047] 參照圖3A和圖3B并且繼續(xù)參照圖1A、圖1B和圖2，襯底6包括一個或多個格柵28，并 且陰影掩模16包括一個或多個格柵30。在一個非限制性實施例中，襯底6包括四個格柵28A 至28D，并且陰影掩模16包括四個格柵30A至30D。在圖3A所示的實施例中，襯底6具有矩形形 狀或正方形形狀，并且各個格柵28A至28D與襯底6的四個角中的一個角相鄰地定位。同樣， 陰影掩模16具有矩形形狀或正方形形狀，并且各個格柵30A至30D與陰影掩模16的四個角中 的一個角相鄰地定位。襯底6的用附圖標(biāo)記32表示的中央部分是襯底6上將要發(fā)生沉積事件 的位置。陰影掩模16的用附圖標(biāo)記34表示的中央部分是陰影掩模16包括一個或多個開口的 圖案的位置，來自沉積源12的材料通過上述開口，W與陰影掩模16的區(qū)域34的一個或多個 開口相同的圖案沉積在區(qū)域32上。
[0048] 在圖3A所示的襯底6的實施例中，格柵28B關(guān)于圖3A所示的Y軸是格柵28A的鏡像； 并且格柵28C和28D關(guān)于圖3A所示的X軸分別是格柵28B和28A的鏡像。然而，運(yùn)不應(yīng)理解為限 制本發(fā)明。
[0049] 同樣，在圖3B所示的陰影掩模16的實施例中，格柵30B關(guān)于圖3B所示的Y軸是格柵 30A的鏡像;并且格柵30C和30D關(guān)于圖3B所示的X軸分別是格柵30B和30A的鏡像。然而，運(yùn)不 應(yīng)理解為限制本發(fā)明。
[0050] 現(xiàn)在將描述用于將具有一個或多個格柵28的襯底6和具有一個或多個格柵30的陰 影掩模16對準(zhǔn)的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)15的使用。
[0051] 首先，如圖2中所示，將襯底6移動至一個或多個光源24與一個或多個光接收器26 之間的光路36中的與陰影掩模16間隔開、粗略(或籠統(tǒng))對準(zhǔn)的位置。如圖2中所示，當(dāng)襯底6 與陰影掩模16在光路36中粗略對準(zhǔn)時，襯底6的各個格柵28和陰影掩模16的各個格柵30位 于一個光源24-光接收器26對的一個光路36中。例如，當(dāng)掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)15包括分別限定四個 光路36A至3抓的四個光源-光接收器對24A-26A、24B-26B、24C-26C和24D-26D，并且襯底6包 括格柵28A至28D，并且陰影掩模16包括格柵30A至30D時:格柵28A和30A位于從光源24A通向 光接收器26A的光路36A中；格柵28B和30B位于從光源24B通向光接收器26B的光路36B中；格 柵28C和30C位于從光源24C通向光接收器26C的光路36C中；并且格柵28D和30D位于從光源 24D通向光接收器2抓的光路3抓中。
[0052] 圖4為在光源24A至24D與光接收器26A至26D(用虛線示出）之間與陰影掩模16粗略 對準(zhǔn)的襯底6 W及每個光源-光接收器對的光路36A至3抓的位置的俯視圖。在圖4中，應(yīng)當(dāng)理 解的是，格柵28A和30A位于光路36A中；格柵28B和30B位于光路36B中；格柵28C和30C位于光 路36C中；并且格柵28D和30D位于光路3抓中。
[0053] 參照圖5,現(xiàn)在將描述沿著一條光路36放置的襯底6的一個格柵28和陰影掩模16的 一個格柵30(即，一個格柵對28-30)的精細(xì)對準(zhǔn)。然而，應(yīng)當(dāng)理解的是，圖5中所示的沿著光 路36放置的格柵對28-30的精細(xì)對準(zhǔn)同樣適用于位于每個光路36中的每個格柵對28-30的 對準(zhǔn)。
[0054] 在適當(dāng)?shù)臅r間，各個光源24被激活，從而沿著它的光路36輸出光。在一個非限制性 實施例中，每個光源包括LED 38，L抓38向準(zhǔn)直器光學(xué)部件/透鏡40輸出光，準(zhǔn)直器光學(xué)部 件/透鏡40對LED 38所輸出的光進(jìn)行準(zhǔn)直并且沿著光路36輸出所述準(zhǔn)直光。
[0055] 襯底6的各個格柵28包括多個間隔直條42,期望的是相互隔開的平行的直條。各對 間隔直條42W間隙44分隔開。理想地，各個間隙44的寬度是相同的。同樣，各個格柵30包括 多個間隔直條46,期望的是相互隔開的平行的直條。各對間隔直條46W間隙48分隔開。理想 地，各個間隙48的寬度是相同的。理想地，各個間隙44的寬度和各個間隙48的寬度也是相同 的。然而，格柵28、格柵30或者格柵28和格柵30運(yùn)兩者中的間隙的寬度相同不應(yīng)被理解為限 制本發(fā)明。
[0056] 繼續(xù)參照圖5,并再次參照圖3A和圖3B，無需使襯底6和陰影掩模16的各個直條或 各個間隙W與其相應(yīng)的X軸成相同的角度來定向或定位。例如，理想地，襯底6的各個直條42 和各個間隙44的縱軸線在標(biāo)稱上W與圖3A所示的X軸成45度的Θ1角度定向或定位。然而，各 個直條42和各個間隙44的縱軸線的定向角Θ1可相對于與X軸成45度的標(biāo)稱定向角Θ1改變± 15度。此外，各個直條42和各個間隙44可不同角度Θ1定向或定位。然而，理想地，襯底6 的各個格柵的直條42和間隙44是平行的。
[0057] 同樣，理想地，陰影掩模16的各個直條46和各個間隙48的縱軸線在標(biāo)稱上W與圖 3B所示的X軸成45度的目2角度定向或定位。然而，各個直條46和各個間隙48的縱軸線的定向 角目2可相對于與X軸成45度的標(biāo)稱定向角目2改變±15度。而且，各個直條46和各個間隙48可 不同角度92定向或定位。然而，理想地，陰影掩模16的各個格柵的直條46和間隙48是平 行的。
[005引更總體地說，理想地，各個直條42、46的縱軸線和各個間隙44、48的縱軸線分別相 對于襯底6和陰影掩模16的中屯、徑向地延伸±15度。理想地，對于各個格柵而言，所述格柵 的直條和間隙是平行的。然而，還可W設(shè)想可能出現(xiàn)如下的情況:所述格柵的直條和間隙可 W相對于襯底6或陰影掩模16的中屯、W輪福狀(spoke-like)的圖案徑向地延伸。于是，在角 度Θ1-Θ2(例如，但不局限于與對應(yīng)的X軸成30度的角度定向或定位的情況下，各個直條 42、46的縱軸線和各個間隙44、