本發(fā)明涉及透明導(dǎo)電膜層疊用膜、其制造方法及透明導(dǎo)電性膜。更詳細(xì)而言，涉及在可見光的短波長區(qū)域的透射率高、透明導(dǎo)電膜的圖案形狀不明顯的觸摸面板用透明導(dǎo)電性膜，特別是用于提供靜電容量方式觸摸面板用透明導(dǎo)電性膜的透明導(dǎo)電膜層疊用膜及其有效的制造方法。

背景技術(shù)：
可通過與圖像顯示部直接接觸而輸入信息的觸摸面板將透射光的輸入裝置配置于各種顯示器上，作為代表性的形式，列舉將兩張透明導(dǎo)電基板以透明導(dǎo)電層面對(duì)面的方式設(shè)置間隙而配置的電阻膜式觸摸面板、或利用在透明導(dǎo)電膜和手指之間產(chǎn)生的靜電容量的變化的靜電容量式類型。在上述那樣的觸摸面板的透明導(dǎo)電膜中使用摻雜有氧化錫的氧化銦(下面，有時(shí)也簡稱為“ITO”)等，它們層疊于玻璃基體材料或塑料基體材料等透明基體材料上，構(gòu)成透明導(dǎo)電基板。作為透明導(dǎo)電膜，在層疊有ITO等金屬氧化物的透明導(dǎo)電基板中，在可見光的短波長區(qū)域透射率普遍降低，因此，黃色變強(qiáng)。為了解決該問題，公開了在透明基板和透明導(dǎo)電膜之間設(shè)置折射率不同的光學(xué)層疊體的方法(專利文獻(xiàn)1)。對(duì)于透明基體材料的整個(gè)面層疊透明導(dǎo)電膜的電阻膜式觸摸面板，這是有效的方法。另一方面，在靜電容量式觸摸面板中，為了檢測手指的觸摸位置，將具備被圖案化為線狀的透明導(dǎo)電膜的兩張透明導(dǎo)電性膜以相互交叉的方式配置，形成了格子狀的圖案。這樣得到的靜電容量式觸摸面板存在具有透明導(dǎo)電膜的部位和沒有透明導(dǎo)電膜的部位，且由于透明導(dǎo)電膜的有無，反射率及透射率不同，因此，識(shí)別利用兩個(gè)透明導(dǎo)電性膜形成的透明導(dǎo)電膜的格子狀圖案，其結(jié)果，存在作為顯示器的可視性降低的問題。關(guān)于觸摸面板的著色防止，在電阻膜式觸摸面板中，由于在透明基板的整個(gè)面上層疊有透明導(dǎo)電膜，因此，如果力求以整體不產(chǎn)生不適感的級(jí)別防止著色，則是充分的。相比之下，在靜電容量式觸摸面板中，要達(dá)到不識(shí)別透明導(dǎo)電膜本身的級(jí)別，需要使透明導(dǎo)電基板(透明導(dǎo)電性膜)的反射率及透射率與沒有透明導(dǎo)電膜的部分無差別。上述專利文獻(xiàn)1所記載的透明導(dǎo)電基板中，難以識(shí)別由透明導(dǎo)電膜形成的格子狀圖案，因此是不充分的?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：日本特開2011-98563號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
發(fā)明要解決的技術(shù)問題如上所述，在靜電容量式觸摸面板中，當(dāng)識(shí)別由透明導(dǎo)電性膜形成的格子狀圖案時(shí)，會(huì)導(dǎo)致觸摸面板顯示器的可視性降低等不良情況。本發(fā)明在這種狀況下進(jìn)行，其目的在于，提供一種在可見光的短波長區(qū)域的透射率高、透明導(dǎo)電膜的層疊部分不明顯的觸摸面板用透明導(dǎo)電性膜，特別是用于提供靜電容量方式觸摸面板用透明導(dǎo)電性膜和所述透明導(dǎo)電性膜的透明導(dǎo)電膜層疊用膜及其有效的制造方法。解決問題的方法為了達(dá)到所述目的，本發(fā)明人等進(jìn)行了深入研究，結(jié)果得到下述的見解。即，發(fā)現(xiàn)了一種透明導(dǎo)電膜層疊用膜，其是在透明基體材料的至少一面依次層疊低折射率層及高折射率層而成的，所述高折射率層的折射率和所述低折射率層的折射率之差為某個(gè)值以上的透明導(dǎo)電膜層疊用膜可以適于該目的；而且，所述透明導(dǎo)電膜層疊用膜可以通過具有特定工序的制造方法有效地制造；進(jìn)而，通過在所述透明導(dǎo)電膜層疊用膜的高折射率層上層疊透明導(dǎo)電膜，得到所述透明導(dǎo)電膜的層疊部分不明顯的觸摸面板用透明導(dǎo)電性膜，特別是用于靜電容量方式觸摸面板的透明導(dǎo)電性膜。本發(fā)明基于上述見解而完成。即，本發(fā)明提供：[1]一種透明導(dǎo)電膜層疊用膜，其特征在于，在透明基體材料的至少一面依次層疊(A)低折射率層、折射率比所述(A)低折射率層高0.2以上的(B)高折射率層；[2]如所述[1]項(xiàng)所記載的透明導(dǎo)電膜層疊用膜，其中，(A)低折射率層的折射率為1.30以上且小于1.60、膜厚為10nm以上且小于150nm，并且(B)高折射率層的折射率為1.60以上且小于2.00、膜厚為30nm以上且小于130nm；[3]一種透明導(dǎo)電性膜，其是在所述[1]或[2]項(xiàng)所記載的透明導(dǎo)電膜層疊用膜的(B)高折射率層上層疊(C)透明導(dǎo)電膜而成的；以及[4]所述[1]或[2]項(xiàng)所記載的透明導(dǎo)電膜層疊用膜的制造方法，其特征在于，具有：(a)在透明基體材料的至少一面涂布低折射率層用涂布劑并進(jìn)行干燥，然后照射活性能量射線使之固化，從而形成(A)低折射率層的工序；(b)在所述(a)工序中形成的(A)低折射率層上涂布高折射率層用涂布劑并進(jìn)行干燥，然后照射活性能量射線使之固化，從而形成(B)高折射率層的工序。即，本發(fā)明包括下述方面。<1>一種透明導(dǎo)電膜層疊用膜，其包含透明基體材料、(A)低折射率層和(B)高折射率層，其特征在于，在所述透明基體材料的至少一方面層疊所述(A)低折射率層，在所述(A)低折射率層上進(jìn)一步層疊所述(B)高折射率層，所述(B)高折射率層的折射率比所述(A)低折射率層的折射率高0.2以上；<2>如<1>所記載的透明導(dǎo)電膜層疊用膜，其中，所述(A)低折射率層的折射率為1.30以上且小于1.60，所述(A)低折射率層的膜厚為10nm以上且小于150nm，且所述(B)高折射率層的折射率為1.60以上且小于2.00，所述(B)高折射率層的膜厚為30nm以上且小于130nm；<3>如<1>或<2>所記載的透明導(dǎo)電膜層疊用膜，其中，所述(A)低折射率層包含活性能量射線固化型化合物、硅溶膠、中空二氧化硅微粒及多孔二氧化硅微粒中的至少1種；<4>如<1>～<3>中任一項(xiàng)所記載的透明導(dǎo)電膜層疊用膜，其中，所述(B)高折射率層含有活性能量射線固化型化合物和金屬氧化物；<5>一種透明導(dǎo)電性膜，其特征在于，在<1>～<4>中任一項(xiàng)所記載的透明導(dǎo)電膜層疊用膜的(B)高折射率層上層疊(C)透明導(dǎo)電膜；<6><1>～<4>中任一項(xiàng)所記載的透明導(dǎo)電膜層疊用膜的制造方法，其特征在于，具有：(a)在透明基體材料的至少一面涂布低折射率層用涂布劑并進(jìn)行干燥，然后對(duì)所述低折射率層用涂布劑照射活性能量射線使之固化，而形成(A)低折射率層的工序；(b)在所述(a)工序中形成的(A)低折射率層上涂布高折射率層用涂布劑并進(jìn)行干燥，然后對(duì)所述高折射率層用涂布劑照射活性能量射線使之固化，而形成(B)高折射率層的工序。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，可以提供在可見光的短波長區(qū)域的透射率高、透明導(dǎo)電膜的層疊部分不明顯的觸摸面板用透明導(dǎo)電性膜，特別是用于靜電容量方式觸摸面板的透明導(dǎo)電性膜和用于提供所述透明導(dǎo)電性膜的透明導(dǎo)電膜層疊用膜及其有效的制造方法。附圖說明圖1是表示本發(fā)明透明導(dǎo)電性膜的構(gòu)成的一例的剖面示意圖。符號(hào)說明1透明基體材料2低折射率層3高折射率層4透明導(dǎo)電膜5透明導(dǎo)電膜層疊用膜10透明導(dǎo)電性膜具體實(shí)施方式首先，對(duì)本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜層疊用膜進(jìn)行說明。[透明導(dǎo)電膜層疊用膜]本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜層疊用膜的特征在于，包含：透明基體材料、(A)低折射率層和(B)高折射率層，在上述透明基體材料的至少一面層疊上述(A)低折射率層，在上述(A)低折射率層上進(jìn)一步層疊上述(B)高折射率層，上述(B)高折射率層的折射率比上述(A)低折射率層的折射率高0.2以上。(透明基體材料)作為上述透明導(dǎo)電膜層疊用膜中使用的透明基體材料，優(yōu)選為透明塑料膜。作為這種透明塑料膜，只要具有本發(fā)明的效果就沒有特別限制，可以從作為現(xiàn)有的光學(xué)用基體材料而公知的塑料膜中適當(dāng)選擇具有透明性的基體材料進(jìn)行使用。例如，可以優(yōu)選列舉：聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(下面，有時(shí)也簡稱為“PET”)、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(下面、也有時(shí)簡稱為“PEN”)等聚酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、賽璐玢、二乙酰纖維素膜、三乙酰纖維素膜、乙酸丁酸纖維素膜、聚氯乙烯膜、聚偏氯乙烯膜、聚乙烯醇膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜、聚甲基戊烯膜、聚砜膜、聚醚醚酮膜、聚醚砜膜、聚醚酰亞胺膜、聚酰亞胺膜、氟樹脂膜、聚酰胺膜、丙烯酸樹脂膜、降冰片烯系樹脂膜、環(huán)烯烴樹脂膜等塑料膜。其中，從耐熱性的觀點(diǎn)來看，進(jìn)一步優(yōu)選為：聚酯膜、聚碳酸酯膜、聚酰亞胺膜、降冰片烯系樹脂膜、環(huán)烯烴樹脂膜等，當(dāng)還考慮到膜在工序過程中破裂那樣的操作性時(shí)，特別優(yōu)選為聚酯膜。關(guān)于這些透明基體材料的厚度，只要具有本發(fā)明的效果就沒有特別限制，可根據(jù)情況適當(dāng)選定，通常為15～300μm，優(yōu)選為30～250μm的范圍。另外，就該透明基體材料而言，出于提高與設(shè)于其表面的(A)低折射率層的密合性為目的，可以根據(jù)需要，通過氧化法或凹凸化法等對(duì)透明基體材料的一面或兩面實(shí)施表面處理。另外，還可以實(shí)施底涂處理。作為上述氧化法，例如使用：電暈放電處理、鉻酸處理(濕式)、火焰處理、熱風(fēng)處理、臭氧或紫外線照射處理等。作為凹凸化法，例如使用噴砂法、溶劑處理法等。這些表面處理法根據(jù)透明基體材料的種類適當(dāng)選擇，但從密合性的提高效果及操作性等方面來看，通常優(yōu)選使用電暈放電處理法。((A)低折射率層)在上述透明導(dǎo)電膜層疊用膜中，對(duì)于形成(A)低折射率層(下面，有時(shí)也簡稱為“(A)層”)的材料，只要具有本發(fā)明的效果就沒有特別限定，例如優(yōu)選通過利用活性能量射線使活性能量射線固化型化合物固化而得到的固化物形成。另外，為了調(diào)整折射率，也可以通過使混合有硅溶膠、多孔二氧化硅微粒、中空二氧化硅微粒等中的至少1種的活性能量射線固化型化合物固化而成的固化物形成。即，(A)層更優(yōu)選包含活性能量射線固化型化合物、硅溶膠、多孔二氧化硅微粒及中空二氧化硅微粒中的至少1種。(A)低折射率層的折射率優(yōu)選為1.30以上且小于1.60。在上述折射率小于1.30的情況下，可以作為(A)低折射率層使用的材料等受到限制，因此，與透明基體材料的密合性及膜的透明性等其它特性有時(shí)惡化。另一方面，在折射率超過1.60的情況下，與后述的(B)高折射率層的折射率差變小，有時(shí)不能充分發(fā)揮使透明導(dǎo)電膜的層疊部分不明顯的效果。即，(A)低折射率層的折射率如果為1.30以上且小于1.60，則可以使用與透明基體材料的密合性及膜的透明性等特性優(yōu)異的材料形成上述低折射率層，另外，與(B)高折射率層的折射率之差成為0.2以上，因此，可充分發(fā)揮使透明導(dǎo)電膜的層疊部分不明顯的效果，故優(yōu)選。另外，(A)低折射率層的折射率更優(yōu)選為1.35～1.55，特別優(yōu)選為1.38～1.50，最優(yōu)選為1.39～1.49。另外，(A)低折射率層的膜厚優(yōu)選為10nm以上且小于150nm。在上述膜厚小于10nm的情況下，(A)層表面的平滑性惡化，有時(shí)得不到本發(fā)明的效果。另一方面，在上述膜厚為150nm以上的情況下，有時(shí)不能得到使透明導(dǎo)電膜的層疊部分不明顯的效果。即，如果(A)低折射率層的膜厚為10nm以上且小于150nm，則不使(A)層表面的平滑性惡化，且可以得到使透明導(dǎo)電膜的層疊部分不明顯的效果，故優(yōu)選。另外，(A)低折射率層的膜厚更優(yōu)選為15～130nm，特別優(yōu)選為17～115nm。<活性能量射線固化型化合物>在本發(fā)明中，優(yōu)選用于(A)低折射率層的形成的活性能量射線固化型化合物是指，電磁波或帶電粒子束中具有能量量子的化合物，即通過照射紫外線或電子束等而交聯(lián)、固化的聚合性化合物。作為這種活性能量射線固化型化合物，例如可以列舉，光聚合性預(yù)聚物和/或光聚合性單體。另外，還可以使用鍵合有含聚合性不飽和基團(tuán)的有機(jī)化合物的二氧化硅微粒(有機(jī)無機(jī)復(fù)合樹脂化合物)。上述光聚合性預(yù)聚物包括自由基聚合型和陽離子聚合型，作為自由基聚合型的光聚合性預(yù)聚物，例如可以列舉：聚酯丙烯酸酯系、環(huán)氧丙烯酸酯系、聚氨酯丙烯酸酯系、多元醇丙烯酸酯系等。其中，作為聚酯丙烯酸酯系預(yù)聚物，例如，可以使用通過下述方法而得到的化合物：將由多元羧酸和多元醇縮合而得到的兩末端具有羥基的聚酯低聚物的羥基利用(甲基)丙烯酸進(jìn)行酯化；或?qū)⑾蚨嘣人嵘霞映裳趸┒玫降牡途畚锏哪┒肆u基利用(甲基)丙烯酸進(jìn)行酯化。作為環(huán)氧丙烯酸酯系預(yù)聚物，例如，可以使用通過使(甲基)丙烯酸與分子量較低的雙酚型環(huán)氧樹脂或酚醛清漆型環(huán)氧樹脂的環(huán)氧乙烷環(huán)反應(yīng)，進(jìn)行酯化而得到的化合物。作為聚氨酯丙烯酸酯系預(yù)聚物，例如，可以使用通過下述方法而得到的化合物：將聚醚多元醇或聚酯多元醇與聚異氰酸酯反應(yīng)而得到的聚氨酯低聚物利用(甲基)丙烯酸進(jìn)行酯化。另外，作為多元醇丙烯酸酯系預(yù)聚物，可以使用將聚醚多元醇的羥基部分利用(甲基)丙烯酸進(jìn)行酯化而得到的化合物。這些自由基聚合型的光聚合性預(yù)聚物可以使用1種，也可以組合兩種以上進(jìn)行使用。另一方面，作為陽離子聚合型的光聚合性預(yù)聚物，通常使用環(huán)氧系樹脂。作為該環(huán)氧系樹脂，例如可以列舉，將直鏈狀烯烴化合物、環(huán)狀烯烴化合物、利用表氯醇等使雙酚樹脂或酚醛清漆樹脂等多元酚類化合物環(huán)氧化而成的化合物通過過氧化物等進(jìn)行氧化而得到的化合物等。另外，作為光聚合性單體，例如可以列舉：1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二環(huán)戊基二(甲基)丙烯酸酯、己內(nèi)酯改性二環(huán)戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化環(huán)己基二(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸酯二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧丙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)異氰脲酸酯、丙酸改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內(nèi)酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯。這些光聚合性單體可以使用1種，也可以組合兩種以上使用，另外，還可以與上述光聚合性預(yù)聚物組合使用。另外，作為鍵合有含聚合性不飽和基團(tuán)的有機(jī)化合物的二氧化硅微粒(有機(jī)無機(jī)復(fù)合樹脂化合物)，可以使用通過使平均粒徑0.005～1μm左右的二氧化硅微粒表面的硅烷醇基與具有可與上述硅烷醇基反應(yīng)的官能團(tuán)且含聚合性不飽和基團(tuán)的有機(jī)化合物反應(yīng)而得到的二氧化硅微粒。作為具有可與硅烷醇基反應(yīng)的官能團(tuán)的聚合性不飽和基團(tuán)，可以列舉例如自由基聚合性的丙烯?；凹谆；?。這些聚合性化合物可以根據(jù)需要組合使用光聚合引發(fā)劑。作為該光聚合引發(fā)劑，對(duì)于自由基聚合型的光聚合性預(yù)聚物或光聚合性單體，例如可以列舉：苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻正丁醚、苯偶姻異丁醚、苯乙酮、二甲基氨基苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2-(羥基-2-丙基)酮、二苯甲酮、對(duì)苯基二苯甲酮、4，4’-二乙基氨基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-甲基噻噸酮、2-乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2，4-二甲基噻噸酮、2，4-二乙基噻噸酮、芐基二甲基縮酮、苯乙酮二甲基縮酮、對(duì)二甲基氨基苯甲酸酯等。另外，作為針對(duì)陽離子聚合型的光聚合性預(yù)聚物的光聚合引發(fā)劑，例如可以列舉，由芳香族锍離子、芳香族氧代锍離子(oxosulfoniumion)、芳香族碘離子等與四氟硼酸酯、六氟磷酸酯、六氟銻酸酯、六氟砷酸酯等陰離子形成的化合物。這些化合物可以使用1種，也可以組合兩種以上使用，另外，相對(duì)于100質(zhì)量份的上述光聚合性預(yù)聚物和/或光聚合性單體，其配合量通常在0.2～10質(zhì)量份的范圍中選擇。<硅溶膠>在本發(fā)明中，在含有硅溶膠和活性能量射線固化型化合物的情況下，作為用于(A)低折射率層的形成的上述硅溶膠，優(yōu)選使用平均粒徑為0.005～1μm左右、優(yōu)選為10nm～100nm的二氧化硅微粒在醇系或溶纖劑系的有機(jī)溶劑中以膠體狀態(tài)混懸而成的膠體二氧化硅。另外，上述平均粒徑可以通過ζ電位測定法求得。<中空二氧化硅微粒、多孔二氧化硅微粒>在本發(fā)明中，也可以將具有空隙的中空二氧化硅微?；蚨嗫锥趸栉⒘！⑴c活性能量射線固化型化合物用于(A)低折射率層的形成。中空二氧化硅微粒是指具有球(中空)結(jié)構(gòu)的二氧化硅微粒，在球內(nèi)部的空隙中填充有氣體例如折射率為1的空氣。另一方面，多孔二氧化硅微粒在其表面以開口的狀態(tài)或閉口的狀態(tài)具有微細(xì)的空隙，在該空隙內(nèi)填充有上述折射率為1的空氣。由于空隙內(nèi)填充有空氣，因此，這些中空二氧化硅微粒或多孔二氧化硅微粒具有本身的折射率低的特征。將上述中空二氧化硅微?；蚨嗫锥趸栉⒘＞鶆蚍稚⒃谕磕ぶ卸恍纬删奂w的情況下，降低涂膜的折射率的效果高，同時(shí)透明性也優(yōu)異。當(dāng)與沒有空隙的普通膠體二氧化硅粒子(折射率n＝1.46左右)相比時(shí)，上述那樣具有空隙的中空二氧化硅微粒的折射率具有微粒本身的折射率低的特征。具有空隙的中空二氧化硅微?；蚨嗫锥趸栉⒘Ｊ瞧骄綖?nm～300nm左右，優(yōu)選為5nm～200nm，特別優(yōu)選為10nm～100nm的微粒。填充于這些微粒的空隙中的氣體優(yōu)選折射率為1的空氣。在本發(fā)明中，通過使用向活性能量射線固化型化合物中添加上述中空二氧化硅微?；蚨嗫锥趸栉⒘６玫降幕旌衔镄纬?A)層，即使在活性能量射線固化型化合物的固化物具有1.45以上的高折射率的情況下，也能夠降低(A)層的折射率。另外，在本發(fā)明中使用的具有空隙的二氧化硅微粒由于平均粒徑為5nm～300nm左右，優(yōu)選為5nm～200nm，特別優(yōu)選非常小為10nm～100nm，所述分散有二氧化硅微粒的(A)層的透明性也優(yōu)異。另外，上述平均粒徑可以通過ζ電位測定法求得。上述中空二氧化硅微粒及多孔二氧化硅微粒優(yōu)選使用在溶劑中分散而成為膠體狀態(tài)(溶膠)的微粒。((B)高折射率層)在本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜層疊用膜中，(B)高折射率層(下面，有時(shí)也稱為“(B)層”)的特征在于，其是折射率比上述的(A)低折射率層高0.2以上的層。在(A)層和(B)層的折射率之差小于0.2的情況下，有時(shí)不能充分發(fā)揮有效利用(A)層及(B)層中的光的干涉作用而使透明導(dǎo)電膜的層疊部分不明顯的本發(fā)明的效果。另外，對(duì)于形成(B)高折射率層的材料，只要具有本發(fā)明的效果，就沒有特別限定，優(yōu)選通過例如混合活性能量射線固化型化合物和金屬氧化物而成的固化物形成。即，(B)層優(yōu)選含有活性能量射線固化型化合物和金屬氧化物。(B)高折射率層的折射率優(yōu)選為1.60以上且小于2.00。在上述折射率小于1.60的情況下，與(A)低折射率層的折射率之差過小，因此，有時(shí)不能充分發(fā)揮使透明導(dǎo)電膜的層疊部分不明顯的效果。另一方面，在上述折射率為2.00以上的情況下，可以作為(B)層選擇的材料等受到限制，因此，有時(shí)使與(A)低折射率層等的密合性及透明性等其它物性惡化。即，如果(B)高折射率層的折射率為1.60以上且小于2.00，則可以使用與(A)層的密合性及透明性等物性優(yōu)異的材料形成上述(B)高折射率層，還由于與(A)低折射率層的折射率之差成為某個(gè)值以上，因此，可充分發(fā)揮使透明導(dǎo)電膜的層疊部分不明顯的效果，故優(yōu)選。另外，(B)高折射率層的折射率優(yōu)選為1.60～1.90，特別優(yōu)選為1.65～1.89，最優(yōu)選為1.69～1.88。另外，(B)高折射率層的膜厚優(yōu)選為30nm以上且小于130nm。在上述膜厚小于30nm的情況下，(B)層表面的平滑性不充分，有時(shí)不能得到本發(fā)明的效果。另一方面，在上述膜厚為130nrn以上的情況下，有時(shí)不能得到使透明導(dǎo)電膜的層疊部分明顯的效果。即，如果(B)高折射率層的膜厚為30nm以上且小于130nm，則在(B)層表面得到充分的平滑性，能夠得到使透明導(dǎo)電膜的層疊部分不明顯的效果，故優(yōu)選。從這種觀點(diǎn)出發(fā)，(B)高折射率層的膜厚進(jìn)一步優(yōu)選為35～120nm，特別優(yōu)選為40～110nm。(B)高折射率層的形成所使用的活性能量射線固化型化合物可以使用與在上述的(A)低折射率層的說明中示出的活性能量射線固化型化合物相同的物質(zhì)，優(yōu)選的例子也相同。<金屬氧化物>在本發(fā)明中，(B)高折射率層的形成所使用的金屬氧化物沒有特別限定，可以列舉：氧化鈦、氧化鋯、氧化鉭、氧化鋅、氧化銦、氧化鉿、氧化鈰、氧化錫、氧化鈮、氧化銦錫(ITO)、銻錫氧化物(ATO)等。這些金屬氧化物可以使用1種，也可以組合兩種以上使用。另外，相對(duì)于活性能量射線固化型化合物的上述金屬化合物的配合比例也可以以形成的(B)高折射率層的折射率為上述的范圍即1.60以上且小于2.00的方式選擇。(A)低折射率層和(B)高折射率層的折射率差為0.2以上。另外，(A)層和(B)層的折射率之差的上限為0.7左右。即，(A)層和(B)層的折射率之差更優(yōu)選為0.2～0.7。當(dāng)(A)層和(B)層的折射率之差超過0.7時(shí)，透明導(dǎo)電膜和(B)高折射率層的折射率過于接近，不能充分發(fā)揮(B)高折射率層的光的干涉作用，有時(shí)損壞本發(fā)明的效果即透明導(dǎo)電膜的層疊部分不明顯的效果。接著，對(duì)本實(shí)施方式的透明導(dǎo)電膜層疊用膜的制造方法進(jìn)行說明。[透明導(dǎo)電膜層疊用膜的制造方法]透明導(dǎo)電膜層疊用膜的制造方法的特征在于，具有：(a)在透明基體材料的至少一面涂布低折射率層用涂布劑并進(jìn)行干燥，然后對(duì)上述低折射率層用涂布劑照射活性能量射線使之固化，而形成(A)低折射率層的工序；(b)在上述(a)工序中形成的(A)低折射率層上涂布高折射率層用涂布劑并進(jìn)行干燥，然后對(duì)上述高折射率層用涂布劑照射活性能量射線使之固化，從而形成(B)高折射率層的工序。下面，省略與目前為止的內(nèi)容重復(fù)的部分，只詳細(xì)敘述不同的部分。((a)工序)(a)工序如下，將在上述透明基體材料的至少一面形成低折射率層的上述材料使用規(guī)定溶劑稀釋溶解成規(guī)定的濃度，制備低折射率層涂布劑之后，使用目前公知的方法，例如：棒涂法、刀涂法、輥涂法、刮板涂布法、模涂法、凹版涂布法等，在上述透明基體材料的至少一面涂布上述低折射率層用涂布劑形成涂膜，進(jìn)行干燥，然后對(duì)其照射活性能量射線，使上述涂膜固化，由此，形成(A)低折射率層。在本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜層疊用膜的制造方法中，作為低折射率層涂布劑，優(yōu)選含有上述活性能量射線固化型化合物和溶劑，更優(yōu)選含有硅溶膠、中空二氧化硅微粒及多孔二氧化硅微粒中的至少1種、活性能量射線固化型化合物和溶劑。在上述低折射率層用涂布劑含有硅溶膠、中空二氧化硅微粒及多孔二氧化硅微粒中的至少1種、活性能量射線固化型化合物、和溶劑的情況下，相對(duì)于100質(zhì)量份的活性能量射線固化型化合物，低折射率層用涂布劑中上述硅溶膠、中空二氧化硅微?；蚨嗫锥趸栉⒘５呐浜狭績?yōu)選為50～500質(zhì)量份，更優(yōu)選為80～300質(zhì)量份，特別優(yōu)選為100～250質(zhì)量份。相對(duì)于100質(zhì)量份的活性能量射線固化型化合物，配合上述硅溶膠、中空二氧化硅微粒或多孔二氧化硅微粒50～500質(zhì)量份，由此，易于將使用本發(fā)明的低折射率層用涂布劑形成的(A)層的折射率調(diào)整為上述范圍，故優(yōu)選。作為上述溶劑，例如可以列舉：己烷、庚烷等脂肪烴、甲苯、二甲苯等芳香族烴、二氯甲烷、氯乙烯等鹵代烴、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、丙二醇單甲基醚等醇、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、2-戊酮、異佛爾酮、環(huán)己酮等酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯、乙基溶纖劑等溶纖劑系溶劑等。溶劑也可以只使用1種，也可以組合使用兩種以上。在組合使用兩種以上溶劑的情況下，例如，通過組合使用常溫下的蒸氣壓不同的兩種溶劑，能夠提高涂膜的干燥速度和表面平滑性。在組合使用兩種以上溶劑的情況下，優(yōu)選列舉組合使用例如20℃下的蒸氣壓為1.5kPa以上的溶劑和小于1.0kPa的溶劑。作為使用比例，以質(zhì)量比計(jì)，優(yōu)選20℃下的蒸氣壓為1.5kPa以上的溶劑∶20℃下的蒸氣壓小于1.0kPa的溶劑＝30∶70～70∶30，特別優(yōu)選為40∶60～60∶40。作為上述溶劑組合的具體例，優(yōu)選列舉，甲基異丁基酮(20℃下的蒸氣壓為2.1kPa)和環(huán)己酮(20℃下的蒸氣壓為0.7kPa)的組合。作為低折射率層用涂布劑中的固體成分濃度，只要調(diào)節(jié)固體成分濃度使其成為可涂布程度的粘度即可，可以根據(jù)情況適當(dāng)調(diào)整。例如，從將得到的(A)低折射率層的膜厚調(diào)節(jié)成上述10nm以上且小于150nm范圍的觀點(diǎn)來看，固體成分濃度優(yōu)選為0.05～10質(zhì)量％，特別優(yōu)選為0.1～8質(zhì)量％。另外，上述涂膜的干燥優(yōu)選在60～150℃下進(jìn)行10秒鐘～10分鐘左右。另外，作為活性能量射線，例如可以列舉，紫外線或電子束等。上述紫外線由高壓汞燈、無電極燈、金屬鹵化物燈、氙氣燈等得到，照射量通常為100～500mJ/cm2。另一方面，電子束由電子束加速器等得到，照射量通常為150～350kV。在該活性能量射線中，紫外線特別適合。另外，在使用電子束的情況下，不添加光聚合引發(fā)劑，就能夠得到(A)低折射率層。((b)工序)(b)工序如下，將形成高折射率層的上述材料使用規(guī)定溶劑稀釋溶解成規(guī)定濃度，制備高折射率層用涂布劑后，使用目前公知的方法，例如：棒涂法、刀涂法、輥涂法、刮板涂布法、模涂法、凹版涂布法等涂布在上述(a)工序中形成的(A)低折射率層上，形成涂膜，進(jìn)行干燥，然后對(duì)其照射活性能量射線，使上述涂膜固化，由此，形成(B)高折射率層。作為高折射率層涂布劑，優(yōu)選含有上述活性能量射線固化型化合物、金屬氧化物和溶劑。溶劑種類、溶劑的稀釋條件、干燥條件及活性能量射線照射條件均與上述(a)工序相同。通過以上具有(a)～(b)工序的制造方法，能夠適宜地制作上述透明導(dǎo)電膜層疊用膜。接著，對(duì)本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜進(jìn)行說明。[透明導(dǎo)電性膜]本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜的特征在于，在上述透明導(dǎo)電膜層疊用膜的(B)高折射率層上層疊(C)透明導(dǎo)電膜而成。即，本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜的特征在于，含有上述透明基體材料、上述(A)低折射率層、上述(B)高折射率層、(C)透明導(dǎo)電膜，在上述透明基體材料上層疊上述(A)低折射率層，在上述(A)低折射率層上層疊上述(B)高折射率層，在上述(B)高折射率層上進(jìn)一步層疊(C)透明導(dǎo)電膜，上述(B)高折射率層的折射率比上述(A)低折射率層的折射率高0.2以上。圖1是表示本發(fā)明透明導(dǎo)電性膜的構(gòu)成的一例的剖面示意圖。透明導(dǎo)電性膜10具有如下構(gòu)成，即，在透明基體材料1的一個(gè)面上依次層疊低折射率層2及高折射率層3而形成透明導(dǎo)電膜層疊用膜5，在透明導(dǎo)電膜層疊用膜5的高折射率層3上層疊有透明導(dǎo)電膜4。通過將高折射率的透明導(dǎo)電膜4和高折射率層3以相接的方式層疊，在通過蝕刻處理等將透明導(dǎo)電膜4圖案化的情況下，能夠?qū)⒙冻龅母哒凵渎蕦?的部分和透明導(dǎo)電膜4的層疊部分的各自的折射率保持在比較接近的狀態(tài)。因此，實(shí)現(xiàn)兩者的反射特性一致，且透明導(dǎo)電膜4的層疊部分不明顯的效果。另外，在如此構(gòu)成的透明導(dǎo)電性膜10中，通過將低折射率層2和高折射率層3的折射率差及各自的膜厚控制在上述規(guī)定的范圍中，可以減少對(duì)于透明導(dǎo)電膜4的入射光在各界面處的反射光并使其發(fā)生干涉。同樣，可以減少對(duì)于除去了透明導(dǎo)電膜4而露出的高折射率層3的入射光在各界面處的反射光并使其發(fā)生干涉。作為其結(jié)果，能夠抑制因透明導(dǎo)電膜4的入射光引起的來自透明導(dǎo)電性膜10的反射光、和因高折射率層3的入射光引起的來自透明導(dǎo)電性膜10的反射光的各自強(qiáng)度，并且使其可見光區(qū)域的反射率一致。因此，可見光區(qū)域中的透射率高且透明導(dǎo)電膜4的層疊部分不明顯，上述透明導(dǎo)電性膜10能夠適用于例如觸摸面板，特別是靜電容量方式觸摸面板等。((C)透明導(dǎo)電膜)在本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜中，作為層疊于(B)高折射率層上的(C)透明導(dǎo)電膜，只要是兼具透明性和導(dǎo)電性的材料，且具有本發(fā)明的效果，就可以沒有特別限制地使用，作為代表性的材料，可以列舉，氧化銦、氧化鋅、氧化錫、銦-錫復(fù)合氧化物、錫-銻復(fù)合氧化物、鋅-鋁復(fù)合氧化物、銦-鋅復(fù)合氧化等膜作為優(yōu)選的材料。已知這些化合物薄膜通過采用適當(dāng)?shù)某赡l件，制成兼具透明性和導(dǎo)電性的透明導(dǎo)電膜。上述(C)透明導(dǎo)電膜的膜厚優(yōu)選為4nm以上，更優(yōu)選為5nm以上，特別優(yōu)選為10nrn以上，且優(yōu)選為800nm以下，更優(yōu)選為500nm以下，特別優(yōu)選為100nm以下。在上述膜厚小于4nm的情況下，難以制成連續(xù)的膜，有時(shí)得不到穩(wěn)定的導(dǎo)電性，相反，當(dāng)超過800nm而變得過厚時(shí)，有時(shí)透明性降低。即，如果(C)透明導(dǎo)電膜的膜厚為4～800nm，則易于形成連續(xù)的膜，且透明性不會(huì)降低，故優(yōu)選。[透明導(dǎo)電膜的制造方法]在本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜中，作為(C)透明導(dǎo)電膜的形成法，只要根據(jù)上述材料的種類及需要膜厚適當(dāng)選擇采用真空蒸鍍法、濺射法、CVD法、離子鍍法、噴霧法、溶膠-凝膠法等公知的方法即可。在本發(fā)明中，優(yōu)選使用濺射法形成透明導(dǎo)電膜。在使用濺射法形成(C)透明導(dǎo)電膜的情況下，可采用使用化合物的通常的濺射法或使用金屬靶的反應(yīng)性濺射法等。此時(shí)，作為反應(yīng)性氣體，導(dǎo)入氧、氮、水蒸氣等，或組合使用臭氧添加及離子輔助等也是有效的。另外，上述透明導(dǎo)電膜在如上述那樣制膜后，也可以通過光刻法形成規(guī)定圖案的抗蝕掩膜，通過公知的方法實(shí)施蝕刻處理，形成線狀等。就本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜而言，在波長為450～650nm的范圍中，透明導(dǎo)電性膜的(C)透明導(dǎo)電膜的層疊部分和透明導(dǎo)電性膜的(C)透明導(dǎo)電膜的非層疊部分的透射率之差的絕對(duì)值優(yōu)選為5以下。透明導(dǎo)電膜和塑料膜(透明導(dǎo)電膜層疊用膜)由于材質(zhì)大為不同，因此，可見光區(qū)域中的折射率的波長分散特性通常不同。因此，發(fā)現(xiàn)由于可見光區(qū)域內(nèi)的波長分散特性不同的區(qū)域的作用，得到的透明導(dǎo)電性膜發(fā)生著色現(xiàn)象。在本發(fā)明中，通過選擇上述透明導(dǎo)電膜層疊用膜的構(gòu)成，在波長為450～650nm的范圍中，可以將透明導(dǎo)電性膜的(C)透明導(dǎo)電膜層疊前后的透射率差的絕對(duì)值設(shè)為5以下。即，在本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜層疊用膜中，即使層疊透明導(dǎo)電膜后，在波長為450～600nm的范圍的透射率也不降低，能夠維持高透明性。由此，能夠有效防止透明導(dǎo)電膜引起的著色。如上述圖1所示，本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜是在構(gòu)成極其簡單的透明導(dǎo)電膜層疊用膜的(B)高折射率層上層疊具有例如線狀等的透明導(dǎo)電膜而成的，可見光在短波長區(qū)域的透射率高，且識(shí)別不到上述透明導(dǎo)電膜的層疊部分，適用于觸摸面板，特別是靜電容量方式觸摸面板用途。實(shí)施例接著，通過實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)地進(jìn)行說明，但不是通過這些例子限定本發(fā)明。另外，折射率根據(jù)JISK7142：2008的A法使用ATAGO公司制折射率儀進(jìn)行測定。另外，(A)低折射率層及(B)高折射率層的膜厚使用偏振光橢圓率測量儀進(jìn)行測定。另外，對(duì)在各例子中得到的導(dǎo)電性膜進(jìn)行下述的評(píng)價(jià)。(1)透射率差在制作的透明導(dǎo)電性膜的(C)透明導(dǎo)電膜的層疊部分及非層疊部分，測定透射光譜，求得波長為450～650nm范圍的透射率差的絕對(duì)值的最大值。作為透射率測定儀器，使用(株式會(huì)社)島津制作所制，產(chǎn)品型號(hào)“UV-3600”。(2)目視評(píng)價(jià)根據(jù)各例子，得到長寬90mm×90mm的透明導(dǎo)電膜層疊用膜，并得到在其中央層疊有長寬60mm×60mm的透明導(dǎo)電膜的透明導(dǎo)電性膜。對(duì)于膜，以目視，1)在反射光下及2)在透射光下，基于下面的判定基準(zhǔn)評(píng)價(jià)透明導(dǎo)電膜的有無，色調(diào)是否發(fā)生變化。(評(píng)價(jià)條件)1)在反射光下的評(píng)價(jià)：將透明導(dǎo)電性膜設(shè)置在距白色熒光燈1m的距離，使白色熒光燈映入透明導(dǎo)電性膜，從相對(duì)于透明導(dǎo)電性膜與白色熒光燈相同一側(cè)，在離透明導(dǎo)電性膜30cm的位置對(duì)透明導(dǎo)電膜的有無進(jìn)行評(píng)價(jià)。2)在透射光下的評(píng)價(jià)：將透明導(dǎo)電性膜設(shè)置在距白色熒光燈1m的距離，從相對(duì)于透明導(dǎo)電性膜與白色熒光燈相反側(cè)，以隔著透明導(dǎo)電性膜能觀察到白色熒光燈的方式，在距透明導(dǎo)電性膜30cm的位置對(duì)透明導(dǎo)電膜的有無進(jìn)行評(píng)價(jià)(評(píng)價(jià)基準(zhǔn))A：1)在反射光下、及2)在透射光下均不能識(shí)別透明導(dǎo)電膜的著色和界限。B：1)在反射光下、或2)在透射光下的任意情況下可識(shí)別透明導(dǎo)電膜局部著色。C：1)在反射光下、及2)在透射光下均可識(shí)別透明導(dǎo)電膜的界限。(3)光線透射率對(duì)在各例中得到的透明導(dǎo)電性膜的透明導(dǎo)電膜層疊部分，根據(jù)JISK7105測定波長550nm的光線透射率。另外，對(duì)于得到的結(jié)果，在光線透射率為86％以上的情況下，設(shè)為A，小于86％設(shè)為B，進(jìn)行評(píng)價(jià)。制備例L-1低折射率層用涂布劑1作為活性能量射線固化型化合物，添加100質(zhì)量份的硬涂劑(大日精化工業(yè)(株)制，商品名“SEIKABEAMXF-01L(NS)”，固體成分濃度100質(zhì)量％，含有多官能丙烯酸酯的活性能量射線固化型化合物95質(zhì)量％，光聚合引發(fā)劑5質(zhì)量％)及660質(zhì)量份的硅膠(日產(chǎn)化學(xué)(株)制，商品名“PGM-ST”，平均粒徑15nm的二氧化硅微粒30質(zhì)量％，丙二醇單甲基醚70質(zhì)量％)、0.3質(zhì)量份的光聚合引發(fā)劑(BASF公司制，商品名“Irgacure907”，固體成分濃度100質(zhì)量％)，作為稀釋溶劑，添加2600質(zhì)量份的甲基異丁基酮、2600質(zhì)量份的環(huán)己酮并均勻混合，制作了固體成分濃度約為5.0質(zhì)量％的低折射率層用涂布劑L-1。制備例L-2低折射率層用涂布劑2作為活性能量射線固化型化合物，添加10質(zhì)量份的硬涂劑(荒川化學(xué)工業(yè)(株)制，商品名“Beamset575CB”，固體成分濃度100質(zhì)量％，含有聚氨酯丙烯酸酯的活性能量射線固化型化合物95質(zhì)量％，光聚合引發(fā)劑5質(zhì)量％)及50質(zhì)量份的中空硅溶膠(日揮觸媒化成(株)制，商品名“ThruRear4320”，平均粒徑60nm的中空二氧化硅微粒20質(zhì)量％，甲基異丁基酮80質(zhì)量％)、0.03質(zhì)量份的光聚合引發(fā)劑(BASF公司制，商品名“Irgacure907”，固體成分濃度100質(zhì)量％)，作為稀釋溶劑，添加5000質(zhì)量份的甲基異丁基酮，5000質(zhì)量份的環(huán)己酮并均勻混合，制作了固體成分濃度約為0.2質(zhì)量％的低折射率層用涂布劑L-2。制備例L-3低折射率層用涂布劑3除了使用4000質(zhì)量份的甲基異丁基酮、4000質(zhì)量份的環(huán)己酮作為稀釋溶劑以外，與制備例L-1一樣地制備，制作了固體成分濃度約為3.4質(zhì)量％的低折射率層用涂布劑L-3。制備例L-4低折射率層用涂布劑4除了使用330質(zhì)量份的硅溶膠(日產(chǎn)化學(xué)(株)制，商品名“PGM-ST”，平均粒徑15nm的二氧化硅微粒30質(zhì)量％，丙二醇單甲基醚70質(zhì)量％)，使用4750質(zhì)量份的甲基異丁基酮，4750質(zhì)量份的環(huán)己酮作為稀釋溶劑以外，與制備例L-1一樣地制備，制作了固體成分濃度約為2.0質(zhì)量％的低折射率層用涂布劑L-4。制備例H-1高折射率層用涂布劑1作為活性能量射線固化型化合物，添加100質(zhì)量份含有氧化鋯的高折射率涂布劑(Atomix(株)制，商品名“アトムコンポブリツドHUVSRZ100”，氧化鋯的固體成分濃度30質(zhì)量％)及0.9質(zhì)量份的光聚合引發(fā)劑(BASF公司制，商品名“Irgacure907”，固體成分濃度100質(zhì)量％)，作為稀釋溶劑，添加450質(zhì)量份的甲基異丁基酮、450質(zhì)量份的環(huán)己酮并均勻混合，制作了固體成分濃度約為3.1質(zhì)量％的高折射率層用涂布劑H-1。制備例H-2高折射率層用涂布劑2作為活性能量射線固化型化合物，添加100質(zhì)量份的硬涂劑(大日精化工業(yè)(株)制，商品名“SEIKABEAMXF-01L(NS)”，固體成分濃度100質(zhì)量％，含有多官能丙烯酸酯的活性能量射線固化型化合物95質(zhì)量％，光聚合引發(fā)劑5質(zhì)量％)及455質(zhì)量份的氧化鈦漿液(Tayca(株)制，平均粒徑10nm的氧化鈦微粒33質(zhì)量％，丙二醇單甲基醚67質(zhì)量％)、0.3質(zhì)量份的光聚合引發(fā)劑(BASF公司制，商品名“Irgacure907”，固體成分濃度100質(zhì)量％)，作為稀釋溶劑，添加3000質(zhì)量份的甲基異丁基酮、3000質(zhì)量份的環(huán)己酮并均勻混合，制作了固體成分濃度約為3.8質(zhì)量％的高折射率層用涂布劑H-2。實(shí)施例1在厚度125μm的PET膜(東洋紡織(株)制，“CosmoshineA4300”)的表面上，以麥耶棒#4涂布在制備例L-1中制備的上述低折射率層用涂布劑1。在70℃的烘箱中干燥1分鐘后，在氮氛圍下，利用高壓汞燈照射200mJ/cm2的紫外線，得到(A)低折射率層處理PET。在(A)低折射率層上以麥耶棒#6涂布在制備例H-1中制備的上述高折射率層用涂布劑1。在70℃的烘箱中干燥1分鐘后，在氮氛圍下利用高壓汞燈照射200mJ/cm2的紫外線，由此，得到在(A)層上層疊有(B)層的透明導(dǎo)電膜層疊用膜。使用ITO靶材(氧化錫10質(zhì)量％)在得到的透明導(dǎo)電膜層疊用膜上進(jìn)行濺射，在(B)高折射率層上形成厚度30nm的(C)透明導(dǎo)電膜，制作了透明導(dǎo)電性膜。將該透明導(dǎo)電性膜的評(píng)價(jià)結(jié)果在表1中示出。實(shí)施例2除了使用在制備例L-2中制備的上述低折射率層用涂布劑2形成(A)低折射率層以外，進(jìn)行與實(shí)施例1一樣的操作，制作了透明導(dǎo)電性膜。將該透明導(dǎo)電性膜的評(píng)價(jià)結(jié)果在表1中示出。實(shí)施例3除了使用在制備例H-2中制備的上述高折射率層用涂布劑2形成(B)高折射率層以外，進(jìn)行與實(shí)施例2一樣的操作，制作了透明導(dǎo)電性膜。將該透明導(dǎo)電性膜的評(píng)價(jià)結(jié)果在表1中示出。比較例1在厚度125μm的PET膜(東洋紡織(株)制，“CosmoshineA4300”)的表面上，以麥耶棒#6涂布在制備例H-1中制備的上述高折射率層用涂布劑1。在70℃的烘箱中干燥1分鐘后，在氮氛圍下利用高壓汞燈照射200mJ/cm2的紫外線，得到高折射率層處理PET。在高折射率層上以麥耶棒#4涂布在制備例L-3中制備的上述低折射率層用涂布劑3。在70℃的烘箱中干燥1分鐘后，在氮氛圍下利用高壓汞燈照射200mJ/cm2的紫外線，由此，得到在高折射率層上層疊有低折射率層的透明導(dǎo)電膜層疊用膜。使用ITO靶材(氧化錫10質(zhì)量％)對(duì)得到的透明導(dǎo)電膜層疊用膜進(jìn)行濺射，在低折射率層上形成厚度30nm的透明導(dǎo)電膜，制作了透明導(dǎo)電性膜。將該透明導(dǎo)電性膜的評(píng)價(jià)結(jié)果在表1中示出。比較例2在厚度125μm的PET膜(東洋紡織(株)制，“CosmoshineA4300”)的表面上以麥耶棒#6涂布在制備例H-1中制備的上述高折射率層用涂布劑1。在70℃的烘箱中干燥1分鐘后，在氮氛圍下利用高壓汞燈照射200mJ/cm2的紫外線，得到高折射率層處理PET。使用ITO靶材(氧化錫10質(zhì)量％)對(duì)得到的高折射率層處理PET進(jìn)行濺射，在高折射率層上形成厚度30nm的透明導(dǎo)電膜，制作了透明導(dǎo)電性膜。將該透明導(dǎo)電性膜的評(píng)價(jià)結(jié)果在表1中示出。比較例3除了使用在制備例L-4中制備的上述低折射率層用涂布劑4形成低折射率層以外，進(jìn)行與實(shí)施例3一樣的操作，制作了透明導(dǎo)電性膜。將該透明導(dǎo)電性膜的評(píng)價(jià)結(jié)果在表1中示出。[表1]如表1所示，在(A)低折射率層上層疊(B)高折射率層、且在(B)層和(A)層的折射率之差為0.2以上的透明導(dǎo)電膜層疊用膜的(B)層上層疊(C)透明導(dǎo)電膜而得到的實(shí)施例1～3的透明導(dǎo)電性膜在反射光下及在透射光下均未識(shí)別到透明導(dǎo)電膜的界限及著色。工業(yè)實(shí)用性本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜是在構(gòu)成極其簡單的透明導(dǎo)電膜層疊用膜的高折射率層上層疊具有例如線狀等的透明導(dǎo)電膜而成的，其在可見光的短波長區(qū)域的透射率高且未識(shí)別到利用上述透明導(dǎo)電膜形成的圖案形狀，適于作為觸摸面板，特別是靜電容量方式觸摸面板用途。