專利名稱：無轉(zhuǎn)盤的微波均勻加熱裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種能將磁控管產(chǎn)生的微波均勻分布于腔內(nèi)被加熱物體上的裝置。
背景技術(shù)：
利用微波對(duì)物體進(jìn)行烘干加熱的裝置，一般具有如下結(jié)構(gòu)一腔室，它具有一微波進(jìn)入口，其內(nèi)部放置被加熱物體；一波導(dǎo)器，設(shè)置在腔室外壁、且覆蓋微波進(jìn)入口；一帶天線的磁控管，設(shè)置在波導(dǎo)器上。磁控管產(chǎn)生的微波，經(jīng)波導(dǎo)器引導(dǎo)由微波進(jìn)入口進(jìn)入腔室加熱物體。由于腔室內(nèi)微波能量分配不均勻，使得被加熱物體容易或因過熱而烤焦，或因受熱不足而延長(zhǎng)加熱時(shí)間，耗費(fèi)能量。為解決上述問題，現(xiàn)有的微波加熱裝置在腔室內(nèi)設(shè)置一個(gè)可轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)盤，加熱時(shí)將被加熱物體置于轉(zhuǎn)盤上，邊加熱邊轉(zhuǎn)動(dòng)使其均勻受熱，但這種裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜，成本高。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種無轉(zhuǎn)盤的微波均勻加熱裝置。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供無轉(zhuǎn)盤的微波均勻加熱裝置，包括腔室，具有微波進(jìn)入口；波導(dǎo)器，設(shè)置在腔室外壁、且覆蓋微波進(jìn)入口；帶天線的磁控管，設(shè)置在波導(dǎo)器上；其特征是還包括一微波分配板，它設(shè)置在腔室內(nèi)、且將腔室內(nèi)部空間分隔為一微波分配室及一放置被加熱物體的加熱室；微波分配室具有一微波反射壁，它相對(duì)于微波分配板傾斜一預(yù)定角度；所述的微波進(jìn)入口開設(shè)在與微波反射壁相對(duì)的一個(gè)微波分配室壁上；微波分配板上開設(shè)有多個(gè)槽孔，槽孔的面積按照與微波進(jìn)入口的距離由近至遠(yuǎn)而逐漸增大。
磁控管產(chǎn)生的微波，經(jīng)波導(dǎo)器引導(dǎo)由微波進(jìn)入口進(jìn)入微波分配室，微波在微波反射壁與微波分配板之間來回反射、向前傳播，從微波分配板上的槽孔進(jìn)入加熱室加熱物體。由于槽孔的面積按照與微波進(jìn)入口的距離由近至遠(yuǎn)而逐漸增大，由此可使加熱室內(nèi)的微波能量均勻分布。該裝置與現(xiàn)有產(chǎn)品相比，無需轉(zhuǎn)盤機(jī)構(gòu)，即可實(shí)現(xiàn)對(duì)物體均勻加熱，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，便于制造，實(shí)用的特點(diǎn)。


圖1是無轉(zhuǎn)盤的的微波均勻加熱裝置的主視圖。
圖2是沿圖1中A-A方向的剖視圖。
具體實(shí)施方式
如圖1、圖2所示，無轉(zhuǎn)盤的的微波均勻加熱裝置，包括腔室，其內(nèi)部由微波分配板1分隔為上下兩部分，上下部為微波分配室2及上部為加熱室3。加熱室3內(nèi)設(shè)置有放置被加熱物體的非金屬支架10。微波分配室2具有一微波反射壁9，它相對(duì)于微波分配板2傾斜一預(yù)定角度。在與微波反射壁9相對(duì)的一個(gè)微波分配室壁上開設(shè)有多個(gè)微波進(jìn)入口4。波導(dǎo)器5設(shè)置在腔室外壁，每個(gè)微波進(jìn)入口4均覆蓋有一個(gè)波導(dǎo)器5。每個(gè)波導(dǎo)器5上均設(shè)置有帶天線6的磁控管7。微波分配板1上開設(shè)有多個(gè)槽孔8，槽孔的面積按照與微波進(jìn)入口4的距離由近至遠(yuǎn)而逐漸增大。
微波反射壁9與微波分配板2的傾角，根據(jù)加熱室3的長(zhǎng)度決定，在5°-20°之間。當(dāng)槽孔采用長(zhǎng)方形時(shí)，其孔的寬度按照與微波進(jìn)入口4的距離由近至遠(yuǎn)而逐漸增大。
該裝置的工作原理如下磁控管產(chǎn)生的微波，經(jīng)波導(dǎo)器引導(dǎo)由微波進(jìn)入口進(jìn)入微波分配室，微波在微波反射壁與微波分配板之間來回反射、向前傳播，從微波分配板上的槽孔進(jìn)入加熱室加熱物體。由于槽孔的面積按照與微波進(jìn)入口的距離由近至遠(yuǎn)而逐漸增大，在距離微波進(jìn)入口近的槽孔處雖然微波強(qiáng)度較強(qiáng)，但槽孔的面積較小，在距離微波進(jìn)入口遠(yuǎn)的槽孔處雖然微波強(qiáng)度較弱，但槽孔的面積較大，由此可使加熱室內(nèi)各處的微波能量均勻分布。從而實(shí)現(xiàn)對(duì)物體均勻加熱。
權(quán)利要求1.無轉(zhuǎn)盤的微波均勻加熱裝置，包括腔室，具有微波進(jìn)入口；波導(dǎo)器，設(shè)置在腔室外壁、且覆蓋微波進(jìn)入口；帶天線的磁控管，設(shè)置在波導(dǎo)器上；其特征是還包括一微波分配板，它設(shè)置在腔室內(nèi)、且將腔室內(nèi)部空間分隔為一微波分配室及一放置被加熱物體的加熱室；微波分配室具有一微波反射壁，它相對(duì)于微波分配板傾斜一預(yù)定角度；所述的微波進(jìn)入口開設(shè)在與微波反射壁相對(duì)的一個(gè)微波分配室壁上；微波分配板上開設(shè)有多個(gè)槽孔，槽孔的面積按照與微波進(jìn)入口的距離由近至遠(yuǎn)而逐漸增大。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無轉(zhuǎn)盤的微波均勻加熱裝置，其特征是所述與微波反射壁相對(duì)的微波分配室壁上設(shè)置有多個(gè)微波進(jìn)入口，每一微波進(jìn)入口均覆蓋有波導(dǎo)器，每一個(gè)波導(dǎo)器上設(shè)置有帶天線的磁控管。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的無轉(zhuǎn)盤的微波均勻加熱裝置，其特征是所述微波反射壁與所述微波分配板的傾角為5°-20°。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的無轉(zhuǎn)盤的微波均勻加熱裝置，其特征是所述槽孔為長(zhǎng)方形，其孔的寬度按照與所述微波進(jìn)入口的距離由近至遠(yuǎn)而逐漸增大。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無轉(zhuǎn)盤的微波均勻加熱裝置，其特征是加熱室內(nèi)設(shè)置有放置被加熱物體的非金屬支架。
專利摘要無轉(zhuǎn)盤的微波均勻加熱裝置，包括腔室，覆蓋微波進(jìn)入口的波導(dǎo)器，設(shè)置在波導(dǎo)器上的帶天線磁控管；腔室內(nèi)部由分配板分隔為分配室和加熱室，分配室具有與分配板傾斜一預(yù)定角度設(shè)置的反射壁，微波進(jìn)入口設(shè)置在與反射壁相對(duì)的一個(gè)分配室壁上；分配板上開設(shè)有多個(gè)槽孔，槽孔的面積按照與微波進(jìn)入口的距離由近至遠(yuǎn)而逐漸增大。該裝置無需轉(zhuǎn)盤機(jī)構(gòu)，即可實(shí)現(xiàn)對(duì)物體均勻加執(zhí)，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，便于制造，實(shí)用的特點(diǎn)。
文檔編號(hào)H05B6/64GK2643599SQ03268948
公開日2004年9月22日 申請(qǐng)日期2003年7月7日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月7日
發(fā)明者林清矯 申請(qǐng)人:林清矯