發(fā)聲器件的制作方法
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及電聲轉(zhuǎn)換技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種發(fā)聲器件。
【【背景技術(shù)】】
[0002]近年來，便攜移動電子產(chǎn)品越來越受人們喜愛，人們對多功能性產(chǎn)品的期望也越來越高，對于音樂欣賞方面，帶音樂模式的移動產(chǎn)品成為了很多人的首選要求，為此發(fā)聲器件相應(yīng)的匹配技術(shù)也不斷發(fā)展。
[0003]相關(guān)技術(shù)的發(fā)聲器件，包括具有腔體的外殼和安裝于所述外殼上的發(fā)聲單體，發(fā)聲單體包括主磁鋼、與主磁鋼產(chǎn)生磁間隙的副磁鋼、置于磁間隙中的音圈、與音圈相連接的振膜。當(dāng)音圈中通入交變電流時，處在磁間隙中的音圈會因?yàn)榇艌龅淖饔卯a(chǎn)生運(yùn)動，隨著電流的變化，這種運(yùn)動也會隨之發(fā)生變化，從而帶動振膜上下振動，導(dǎo)致聲音的產(chǎn)生。
[0004]振膜振動過程中，后腔中的空氣會被壓縮或擴(kuò)張，因此，盆架上開設(shè)泄漏孔以便空氣的流通，而外殼內(nèi)通常需要填充吸聲粉料增加后腔體積以降低共振。然而，相關(guān)技術(shù)的發(fā)聲器件對泄漏孔密封處理不佳，往往會使得吸聲粉料進(jìn)入發(fā)聲單體；此外，因工藝的進(jìn)步，發(fā)聲單體的個體體積不斷減小，促使振膜下方的氣體流動受阻，進(jìn)而影響發(fā)聲器件的聲學(xué)效果。
[0005]因此，實(shí)有必要提供一種新的發(fā)聲器件解決上述問題。
【【實(shí)用新型內(nèi)容】】
[0006]本實(shí)用新型的目的在于提供一種低頻性能好、聲學(xué)效果優(yōu)良、穩(wěn)定性好及可靠性高的發(fā)聲器件。
[0007]本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:本實(shí)用新型提供了一種發(fā)聲器件，包括具有腔體的外殼和安裝于所述外殼上的發(fā)聲單體，所述發(fā)聲單體包括具收容空間的盆架、收容于所述盆架內(nèi)的磁路系統(tǒng)和振動系統(tǒng)，所述磁路系統(tǒng)包括設(shè)置于所述盆架底部的下夾板、貼設(shè)于所述下夾板上的主磁鋼、貼設(shè)于所述下夾板上圍繞所述主磁鋼設(shè)置的副磁鋼和與所述下夾板相對設(shè)置貼設(shè)于所述副磁鋼上的上夾板，所述下夾板和盆架之間密封安裝，所述振動系統(tǒng)包括固接于所述盆架上的振膜和驅(qū)動所述振膜振動的音圈，所述盆架設(shè)有連通所述腔體和發(fā)聲單體內(nèi)部的泄露孔，所述發(fā)聲器件進(jìn)一步包括填充于所述腔體內(nèi)的吸聲粉料，所述發(fā)聲單體進(jìn)一步包括設(shè)置于所述盆架上并覆蓋所述泄露孔的網(wǎng)膜，所述網(wǎng)膜隔離所述吸聲粉料進(jìn)入所述發(fā)聲單體內(nèi)部，所述副磁鋼設(shè)有第一缺口，所述第一缺口與所述泄露孔相連通，所述上夾板在所述第一缺口處設(shè)有第二缺口，所述泄露孔、第一缺口和第二缺口形成第一泄露通道，所述第一泄露通道將所述振膜下方的氣體泄漏到所述腔體內(nèi)。
[0008]在本實(shí)用新型提供的發(fā)聲器件的一種較佳實(shí)施例中，所述盆架設(shè)有向所述磁路系統(tǒng)方向延伸的卡合所述上夾板的突出部，所述突出部設(shè)有貫穿其上的槽口，所述槽口與所述泄露孔相通，所述槽口與所述泄露孔形成第二泄露通道，所述第二泄露通道將所述振膜下方的氣體泄漏到所述腔體內(nèi)。
[0009]在本實(shí)用新型提供的發(fā)聲器件的一種較佳實(shí)施例中，所述網(wǎng)膜采用注塑方式設(shè)置于所述盆架上。
[0010]在本實(shí)用新型提供的發(fā)聲器件的一種較佳實(shí)施例中，所述下夾板和盆架之間采用打膠密封。
[0011]與相關(guān)技術(shù)相比，本實(shí)用新型的發(fā)聲器件通過設(shè)置所述第一泄露通道、第二泄露通道使得所述振膜下方的的空氣更快的向所述腔體流動，配合所述吸聲粉料能有效平衡氣壓；所述網(wǎng)膜采用注塑方式設(shè)置于所述盆架上，同時所述下夾板和盆架之間采用打膠密封，在制作發(fā)聲器件時，方便往所述外殼中填入吸聲粉料，防止吸聲粉料進(jìn)入發(fā)聲單體中，吸聲粉料可以填充滿腔體，進(jìn)一步提高所述發(fā)聲器件的效率，改善其聲學(xué)性能。
【【附圖說明】】
[0012]圖1是本實(shí)用新型提供的發(fā)聲器件的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖2為圖1所示發(fā)聲器件的發(fā)聲單體的分解示意圖。
[0014]圖3為圖1所示發(fā)聲器件的發(fā)聲單體的俯視示意圖。
[0015]圖4為圖1所示發(fā)聲器件的發(fā)聲單體的側(cè)面示意圖。
[0016]圖5為圖3所示發(fā)聲單體沿A-A線的部分剖面示意圖。
[0017]圖6為圖3所示發(fā)聲單體沿B-B線的部分剖面示意圖。
【【具體實(shí)施方式】】
[0018]下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
[0019]請參閱圖1，是本實(shí)用新型提供的發(fā)聲器件的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。所述發(fā)聲器件1包括具有腔體10的外殼11、安裝于所述外殼11上的發(fā)聲單體12、以及填充于所述腔體10內(nèi)的吸聲粉料13。
[0020]請一并參閱圖2、圖3、圖4和圖5，其中，圖2為圖1所示發(fā)聲器件的發(fā)聲單體的分解示意圖；圖3為圖1所示發(fā)聲器件的發(fā)聲單體的俯視示意圖；圖4為圖1所示發(fā)聲器件的發(fā)聲單體的側(cè)面示意圖；圖5為圖3所示發(fā)聲單體沿A-A線的部分剖面示意圖。所述發(fā)聲單體12包括具收容空間的盆架121、收容于所述盆架121內(nèi)的磁路系統(tǒng)122和振動系統(tǒng)123、以及貼附于盆架121上的網(wǎng)膜124。所述網(wǎng)膜124采用注塑方式設(shè)置于所述盆架121上，隔離所述吸聲粉料13進(jìn)入所述發(fā)聲單體12內(nèi)部。
[0021]所述磁路系統(tǒng)122包括設(shè)置于所述盆架121底部的下夾板1221、貼設(shè)于所述下夾板1221上的主磁鋼1222、貼設(shè)于所述下夾板1221上圍繞所述主磁鋼1222設(shè)置的副磁鋼1223和與所述下夾板1221相對設(shè)置貼設(shè)于所述副磁鋼1223上的上夾板1224。所述下夾板1221和所述盆架121之間密封安裝，在本實(shí)施方式中，優(yōu)選打膠方式密封。
[0022]所述振動系統(tǒng)123包括固接于所述盆架121上的振膜1231和驅(qū)動所述振膜1231振動的音圈1232。
[0023]所述盆架121設(shè)有連通所述腔體10和發(fā)聲單體12內(nèi)部的泄露孔1211、向所述磁路系統(tǒng)122方向延伸的卡合所述上夾板1224的突出部1212，所述泄露孔1211被所述網(wǎng)膜124覆蓋。
[0024]所述副磁鋼1223設(shè)有第一缺口 12231，所述第一缺口 12231與所述泄露孔1211相連通，所述上夾板1224在所述第一缺口 12231處設(shè)有第二缺口 12241，所述泄露孔1211、第一缺口 12231和第二缺口 12241形成第一泄露通道，所述第一泄露通道將所述振膜1231下方的氣體泄漏到所述腔體10內(nèi)。
[0025]所述突出部1212設(shè)有貫穿其上的槽口 12121，所述槽口 12121與所述泄露孔1211相通，所述槽口 12121與所述泄露孔1211形成第二泄露通道，所述第二泄露通道將所述振膜1231下方的氣體泄漏到所述腔體10內(nèi)。
[0026]當(dāng)所述音圈1232通入電流時，處在所述主磁鋼1222與所述副磁鋼1223之間的所述音圈1232會因?yàn)榇艌龅淖饔卯a(chǎn)生運(yùn)動，從而帶動所述振膜1231上下振動，進(jìn)而產(chǎn)生聲音。所述振膜1231在振動過程時所述腔體10內(nèi)的空氣會被壓縮或擴(kuò)張，所述腔體10內(nèi)的空氣分子濃度增加或減少，此時所述吸聲粉料13會吸附或釋放空氣分子，以平衡所述腔體10內(nèi)氣壓改變。
[0027]請?jiān)俅螀㈤唸D5，為圖3所示發(fā)聲單體沿A-A線的部分剖面示意圖，當(dāng)所述振膜1231振動時，所述振膜1231下方的氣體通過所述第一泄露通道將泄漏到所述腔體10內(nèi)。
[0028]請參閱圖6，為圖3所示發(fā)聲單體沿B-B線的部分剖面示意圖，當(dāng)所述振膜1231振動時，所述振膜1231下方的氣體通過所述第二泄露通道泄漏到所述腔體10內(nèi)。
[0029]與相關(guān)技術(shù)相比，本實(shí)用新型的發(fā)聲器件1通過設(shè)置所述第一泄露通道、第二泄露通道使得所述振膜1231下方的的空氣更快的向所述腔體10流動，配合所述吸聲粉料13能有效平衡氣壓；所述網(wǎng)膜124采用注塑方式設(shè)置于所述盆架121上，同時所述下夾板1221和盆架121之間采用打膠密封處理，在制作發(fā)聲器件1時，方便往所述外殼11中填入吸聲粉料13，防止吸聲粉料13進(jìn)入發(fā)聲單體12中，吸聲粉料13可以填充滿腔體10，進(jìn)一步提高所述發(fā)聲器件1的效率，改善其聲學(xué)性能。
[0030]以上所述的僅是本發(fā)明的實(shí)施方式，在此應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出改進(jìn)，但這些均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種發(fā)聲器件，包括具有腔體的外殼和安裝于所述外殼上的發(fā)聲單體，其特征在于:所述發(fā)聲單體包括具收容空間的盆架、收容于所述盆架內(nèi)的磁路系統(tǒng)和振動系統(tǒng)，所述磁路系統(tǒng)包括設(shè)置于所述盆架底部的下夾板、貼設(shè)于所述下夾板上的主磁鋼、貼設(shè)于所述下夾板上圍繞所述主磁鋼設(shè)置的副磁鋼和與所述下夾板相對設(shè)置貼設(shè)于所述副磁鋼上的上夾板，所述下夾板和盆架之間密封安裝，所述振動系統(tǒng)包括固接于所述盆架上的振膜和驅(qū)動所述振膜振動的音圈，所述盆架設(shè)有連通所述腔體和發(fā)聲單體內(nèi)部的泄露孔，所述發(fā)聲器件進(jìn)一步包括填充于所述腔體內(nèi)的吸聲粉料，所述發(fā)聲單體進(jìn)一步包括設(shè)置于所述盆架上并覆蓋所述泄露孔的網(wǎng)膜，所述網(wǎng)膜隔離所述吸聲粉料進(jìn)入所述發(fā)聲單體內(nèi)部，所述副磁鋼設(shè)有第一缺口，所述第一缺口與所述泄露孔相連通，所述上夾板在所述第一缺口處設(shè)有第二缺口，所述泄露孔、第一缺口和第二缺口形成第一泄露通道，所述第一泄露通道將所述振膜下方的氣體泄漏到所述腔體內(nèi)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器件，其特征在于:所述盆架設(shè)有向所述磁路系統(tǒng)方向延伸的卡合所述上夾板的突出部，所述突出部設(shè)有貫穿其上的槽口，所述槽口與所述泄露孔相通，所述槽口與所述泄露孔形成第二泄露通道，所述第二泄露通道將所述振膜下方的氣體泄漏到所述腔體內(nèi)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器件，其特征在于:所述網(wǎng)膜采用注塑方式設(shè)置于所述盆架上。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器件，其特征在于:所述下夾板和盆架之間采用打膠密封。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種發(fā)聲器件。發(fā)聲器件包括具有腔體的外殼和安裝于外殼上的發(fā)聲單體，發(fā)聲單體包括盆架、收容于盆架內(nèi)的磁路系統(tǒng)和振動系統(tǒng)，磁路系統(tǒng)包括下夾板、貼設(shè)于下夾板上的主磁鋼、貼設(shè)于下夾板上圍繞主磁鋼設(shè)置的副磁鋼和貼設(shè)于副磁鋼上的上夾板，振動系統(tǒng)包括固接于盆架上的振膜，盆架設(shè)有連通腔體和發(fā)聲單體內(nèi)部的泄露孔，發(fā)聲單體進(jìn)一步包括設(shè)于盆架上并覆蓋泄露孔的網(wǎng)膜，副磁鋼設(shè)有第一缺口，第一缺口與泄露孔相連通，上夾板在第一缺口處設(shè)有第二缺口，泄露孔、第一缺口和第二缺口形成第一泄露通道，第一泄露通道將振膜下方的氣體泄漏到腔體內(nèi)。與相關(guān)技術(shù)相比，本實(shí)用新型發(fā)聲器件，提高了低頻性能，穩(wěn)定性好、可靠性高。
【IPC分類】H04R9/06, H04R9/02
【公開號】CN205142500
【申請?zhí)枴緾N201520843664
【發(fā)明人】任璋
【申請人】瑞聲光電科技(常州)有限公司
【公開日】2016年4月6日
【申請日】2015年10月28日