技術領域
本發(fā)明涉及一種電子元件,尤其涉及一種吸合接觸式電子元件配套裝置,屬于電子元件領域。
背景技術:
電子元件是組成電子產(chǎn)品的基礎,常用的電子元件有:電阻、電容、電感、電位器、變壓器、三極管、二極管、IC 等?,F(xiàn)有的電子元件往往是安裝在電路板上,通過焊錫將電子元件的引腳焊接在電路板電路上,發(fā)揮電子元件的正常功能,但這種安裝方式較為麻煩,需將焊錫點在引腳與電路板接觸部位,同時用手或器械固定電子元件,待焊錫凝固后才能將電子元件固定,生產(chǎn)效率低下;焊錫過程中還會導致焊錫的滴落、電路板高溫燒毀的情況,影響正常使用;另外,在用焊錫將電子元件焊固過程中,還會產(chǎn)生有害氣體,對人體造成傷害。
技術實現(xiàn)要素:
本發(fā)明正是針對現(xiàn)有技術存在的不足,提供了一種吸合接觸式電子元件配套裝置。
為解決上述問題,本發(fā)明所采取的技術方案如下:
一種吸合接觸式電子元件配套裝置,包括電路板和電子元件,所述電路板包括基板層和導電層,所述基板層面板上電子元件對應安裝位置設有凹槽,凹槽中設有固定安裝的第一磁體,導電層覆蓋在基板層上凹槽面,所述電子元件包括元件和引腳,引腳接入元件一端,所述引腳上設有一個具有磁性的第二磁體,引腳通過第一磁體和第二磁體的吸引力吸合在電路板導電層上。
進一步的,所述凹槽設為方便加工的圓孔腔。
進一步的,所述凹槽中設有便于固定第一磁體的絕緣膠體。
進一步的,所述第二磁體為方便引腳穿入的磁柱,引腳穿入磁柱內(nèi)腔,并用膠體固定在引腳末端。
進一步的,所述引腳末端為方便第二磁體固定的L型結構,磁體夾固在引腳末端。
進一步的,所述第一磁體或第二磁體至少存在一組。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比較,本發(fā)明的實施效果如下:
本發(fā)明所述的一種吸合接觸式電子元件配套裝置,在電路板導電層下方的基板上電子元件安裝位置處開有凹槽,第一磁體安裝在凹槽中,且電子元件引腳末端固定有第二磁體,實現(xiàn)電子元件與電路板快速定位吸合安裝,便于更換,同時電子元件安裝牢固可靠,電性能良好,安裝過程中不使用焊錫焊固,降低了成本,提高了生產(chǎn)效率,避免焊接過程中產(chǎn)生的有害氣體對人體造成傷害。
附圖說明
圖1為本發(fā)明所示的一種吸合接觸式電子元件配套裝置結構示意圖;
圖2為電路板示意圖;
圖3為電子元件引腳磁體環(huán)繞式結構示意圖;
圖4為電子元件引腳磁體夾固式結構示意圖。
其中,10—電路板、11—基層、12—導電層、13—凹槽、14—第一磁體、20—電子元件、21—元件、22—引腳、23—第二磁體。
具體實施方式
下面將結合具體的實施例來說明本發(fā)明的內(nèi)容。
如圖1和圖2所示,所述一種吸合接觸式電子元件配套裝置,包括電路板10和電子元件20,所述電路板10包括基板層11和導電層12,所述基板層11面板上電子元件20對應安裝位置設有凹槽13,凹槽13中設有固定安裝的第一磁體14,導電層12覆蓋在基板層11上凹槽13面,所述電子元件20包括元件21和引腳22,引腳22接入元件21一端,所述引腳22上設有一個具有磁性的第二磁體23,引腳22通過第一磁體14和第二磁體23的吸引力吸合在電路板導電層12上。在電路板10的基板11上電子元件20安裝位置處開有凹槽13,第一磁體14安裝在凹槽13中,且電子元件20的引腳22末端固定有第二磁體23,實現(xiàn)電子元件20與電路板10快速定位吸合安裝,便于更換,同時電子元件20安裝牢固可靠,電性能良好,安裝過程中不使用焊錫焊固,降低了成本,提高了生產(chǎn)效率,避免焊接過程中產(chǎn)生的有害氣體對人體造成傷害。
所述凹槽13設為方便加工的圓孔腔,采用機械鉆孔加工,孔型容易保證,操作簡便,加工效率高,滿足電路板基板11的批量加工制作,保證供應需求。
所述凹槽13中設有便于固定磁體14的絕緣膠體,磁體14至于凹槽13中,由于存在間隙,造成磁體晃動,容易造成導電層12破損,在凹槽13中注入絕緣膠體,能夠?qū)⒋朋w14固定牢固,不發(fā)生晃動,保證電路板的性能可靠性。
如圖3電子元件引腳磁體環(huán)繞式結構示意圖所示,所述磁體13為方便引腳12穿入的磁柱,引腳12穿入磁柱內(nèi)腔,并用膠體固定在引腳12末端,引腳12末端露出磁體一部分,保證電子元件的電聯(lián)接可靠。
如圖4電子元件引腳磁體夾固式結構示意圖所示,所述引腳12末端為方便磁體13固定的L型結構,磁體13夾固在引腳末端,磁體13安裝拆卸方便,電子元件的安裝效率得到提高。
所述第一磁體14或第二磁體23至少存在一組,進一步降低生產(chǎn)成本,提高使用率。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等,均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。