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半導(dǎo)體器件的制作方法

文檔序號:9107219閱讀:353來源:國知局
半導(dǎo)體器件的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種半導(dǎo)體器件。
【背景技術(shù)】
[0002]由于化合物半導(dǎo)體具有諸多優(yōu)點(diǎn),比如可以在高溫高頻下工作,具有更大的禁帶寬度和電子迀移率,因此化合物半導(dǎo)體被普遍用于制造微波體效應(yīng)器件、高效紅外發(fā)光二極管和半導(dǎo)體激光器等半導(dǎo)體器件,這些半導(dǎo)體器件被廣泛的用于航天航空,通信,電力電子等領(lǐng)域。
[0003]半導(dǎo)體器件一般包含一個(gè)半導(dǎo)體基底,基底上為外延層,在外延層上形成有源區(qū),然后再通過光刻、薄膜、蝕刻等工藝形成柵極,源極和漏極,并在完成柵極,源極和漏極后,通過干法蝕刻、PVD(Physical Vapor Deposit1n,物理氣相沉積)、鍍金等工藝在基底上形成背面通孔,該背面通孔在源極下方,且其表面鍍金屬使源極接地。由于半導(dǎo)體器件在高電壓下工作時(shí),會產(chǎn)生較大的熱量,通過減薄基底可以加快散熱,但是基底不可能無限制的減薄,因此通過背面通孔可以起到很好的散熱作用。然而,當(dāng)半導(dǎo)體器件的工作電壓越高時(shí),產(chǎn)生的熱量也越大,而且熱量多集中于柵極和漏極之間,如果散熱不及時(shí),半導(dǎo)體器件的可靠性將變差,甚至很容易燒毀。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型主要解決的技術(shù)問題是提供一種半導(dǎo)體器件,能夠有效地加快散熱。
[0005]為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種半導(dǎo)體器件,包括基底、外延層、柵極、源極和漏極,所述外延層為多層結(jié)構(gòu),所述外延層形成在所述基底上,所述柵極、源極和漏極形成在所述外延層上,且所述柵極位于所述源極和所述漏極之間,所述基底開設(shè)有第一散熱孔和第二散熱孔,所述第一散熱孔位于所述源極下方,所述第一散熱孔貫穿所述基底和所述外延層并與所述源極接觸,所述第二散熱孔位于所述柵極和所述漏極之間的下方,所述第二散熱孔與所述柵極和所述漏極相隔預(yù)定距離。
[0006]優(yōu)選地,所述第一散熱孔和所述第二散熱孔的表面鍍有金屬層。
[0007]優(yōu)選地,所述第二散熱孔中預(yù)先填充有散熱材料。
[0008]優(yōu)選地,所述散熱材料為AlN或鋁合金。
[0009]優(yōu)選地,所述金屬層為金層或銅層。
[0010]優(yōu)選地,所述第二散熱孔的深度為所述基底的厚度。
[0011]優(yōu)選地,所述第二散熱孔的形狀為圓形,橢圓形或長方形。
[0012]優(yōu)選地,所述第一散熱孔的形狀為圓形,橢圓形或長方形。
[0013]區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況,本實(shí)用新型的有益效果是:通過在源極下方和柵極和漏極之間的下方的基底上開設(shè)第一散熱孔和第二散熱孔,利用第二散熱孔散發(fā)柵極和漏極之間聚集的熱量,從而能夠有效地加快散熱,可以提高工作電壓,獲得更好的穩(wěn)定性和可靠性。
【附圖說明】
[0014]圖1是本實(shí)用新型一實(shí)施例半導(dǎo)體器件的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖2是本實(shí)用新型另一實(shí)施例半導(dǎo)體器件的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0017]參見圖1,是本實(shí)用新型一實(shí)施例半導(dǎo)體器件的結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)施例的半導(dǎo)體器件包括基底1、外延層2、柵極3、源極4和漏極5,外延層2為多層結(jié)構(gòu),外延層2形成在基底I上,柵極3、源極4和漏極5形成在外延層2上,且柵極3位于源極4和漏極5之間,基底I開設(shè)有第一散熱孔11和第二散熱孔12,第一散熱孔11位于源極4下方,第一散熱孔11貫穿基底I和外延層2并與源極4接觸,第二散熱孔12位于柵極3和漏極5之間的下方,第二散熱孔12與柵極3和漏極5相隔預(yù)定距離。
[0018]具體而言,第二散熱孔12的深度比第一散熱孔11的深度小,從而第二散熱孔12與柵極3和漏極5之間隔著至少部分的外延層2。在本實(shí)施例中,第二散熱孔12的深度為基底I的厚度。本實(shí)施例并不限定第一散熱孔11和第二散熱孔12的形狀,第一散熱孔11的形狀可以為圓形,橢圓形或長方形,第二散熱孔12的形狀也可以為圓形,橢圓形或長方形。
[0019]在本實(shí)施例中,第一散熱孔11和第二散熱孔12的表面鍍有金屬層13。金屬層13為金層或銅層。
[0020]由于第二散熱孔12位于柵極3和漏極5之間的下方,而不是位于柵極3的正下方,所以第二散熱孔12不僅在一定程度上增加了散熱能力,而且鍍金或鍍銅后不會與柵極3的金屬之間形成寄生電容,也不會增加半導(dǎo)體器件的應(yīng)力,對柵極3區(qū)域的二維電子氣沒有影響,所以能夠有效地散發(fā)柵極3和漏極5之間聚集的熱量,保證半導(dǎo)體器件獲得更好的性能。
[0021]參見圖2,是本實(shí)用新型另一實(shí)施例半導(dǎo)體器件的結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)施例的半導(dǎo)體器件在前述實(shí)施例的半導(dǎo)體器件的基礎(chǔ)上,增加了散熱材料14。散熱材料14預(yù)先填充在第二散熱孔12中,金屬層13覆蓋在散熱材料14上。在本實(shí)施例中,散熱材料14為AlN (氮化鋁)或鋁合金。由于散熱材料14替代了原有位置處的基底1,而基底I通常由化合物半導(dǎo)體制成,AlN或鋁合金等材料的散熱性能優(yōu)于化合物半導(dǎo)體,所以第二通孔12能夠起到很好的散熱作用O以化合物半導(dǎo)體GaAs (砷化鎵)為例,GaAs的熱導(dǎo)系數(shù)為55W/m*K,而AlN的熱導(dǎo)系數(shù)為160W/m*K。
[0022]通過上述方式,本實(shí)用新型實(shí)施例的半導(dǎo)體器件通過在源極下方和柵極和漏極之間的下方的基底上開設(shè)第一散熱孔和第二散熱孔,利用第二散熱孔散發(fā)柵極和漏極之間聚集的熱量,從而能夠有效地加快散熱,進(jìn)而使半導(dǎo)體器件獲得更高的工作電壓,且獲得更好的穩(wěn)定性和可靠性。
[0023]以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例,并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍,凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種半導(dǎo)體器件,其特征在于,包括基底、外延層、柵極、源極和漏極,所述外延層為多層結(jié)構(gòu),所述外延層形成在所述基底上,所述柵極、源極和漏極形成在所述外延層上,且所述柵極位于所述源極和所述漏極之間,所述基底開設(shè)有第一散熱孔和第二散熱孔,所述第一散熱孔位于所述源極下方,所述第一散熱孔貫穿所述基底和所述外延層并與所述源極接觸,所述第二散熱孔位于所述柵極和所述漏極之間的下方,所述第二散熱孔與所述柵極和所述漏極相隔預(yù)定距離。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,所述第一散熱孔和所述第二散熱孔的表面鍍有金屬層。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,所述第二散熱孔中預(yù)先填充有散熱材料。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,所述散熱材料為AlN或鋁合金。5.根據(jù)權(quán)利要求2至4任一項(xiàng)所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,所述金屬層為金層或銅層。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,所述第二散熱孔的深度為所述基底的厚度。7.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,所述第二散熱孔的形狀為圓形,橢圓形或長方形。8.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,所述第一散熱孔的形狀為圓形,橢圓形或長方形。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種半導(dǎo)體器件。半導(dǎo)體器件包括基底、外延層、柵極、源極和漏極,外延層為多層結(jié)構(gòu),外延層形成在基底上,柵極、源極和漏極形成在外延層上,且柵極位于源極和漏極之間,基底開設(shè)有第一散熱孔和第二散熱孔,第一散熱孔位于源極下方,第一散熱孔貫穿基底和外延層并與源極接觸,第二散熱孔位于柵極和漏極之間的下方,第二散熱孔與柵極和漏極相隔預(yù)定距離。通過上述方式,本實(shí)用新型能夠有效地加快散熱。
【IPC分類】H01L23/367, H01L23/373
【公開號】CN204760374
【申請?zhí)枴緾N201520578444
【發(fā)明人】強(qiáng)歡
【申請人】成都嘉石科技有限公司
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2015年8月4日
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