件的旋轉(zhuǎn)接頭300。在接頭300的旋轉(zhuǎn)期間，護蓋342可與基座部分308以及垂直壁309共同作用以在管件彈性彎曲時，限制撓曲管部分306的移動。如前述記載，這樣的限制可用來確保撓曲管部分306于可控制的范圍內(nèi)彎曲，因此避免管件不必要的移動，其可于構(gòu)件使用時造成損壞性的摩擦。護蓋342給予撓曲管部分308實體的保護，以避免直接或間接的離子束轟擊旋轉(zhuǎn)接頭元件，包括避免任何管件、軸承/軸套移動過程中產(chǎn)生粒子，并避免在離子植入制程時，光阻凝結(jié)于撓曲管部分上。
[0041]圖12示出在一對與圖2-3中的裝置200 —同使用的旋轉(zhuǎn)接頭300的應(yīng)用。在這個實施例中，其中一個旋轉(zhuǎn)接頭300支援低溫流體從冷卻機供應(yīng)至冷卻平臺，而其他旋轉(zhuǎn)接頭300支援低溫流體排回冷卻機中。
[0042]如上所述，揭示的旋轉(zhuǎn)接頭300限制撓曲管部分306，以使得其只可以撓曲的方式移動。藉由彎曲限制任何側(cè)向的移動，因此維持禁止撓曲/展開的移動。除此之外，在運轉(zhuǎn)期間，撓曲管部分306是在最高至150鎊(psi)的壓力下，并且易受在長期運轉(zhuǎn)下所需的撓曲/展開移動變形的影響。沒有這樣的限制，撓曲管部分可蠕動(squirm)，造成元件不必要的摩擦，并產(chǎn)生不受歡迎的粒子。
[0043]如可被理解的是，揭示的旋轉(zhuǎn)接頭300讓平臺204從裝置位置(圖2平面處)移動至離子植入位置(舉例如圖3)，同時加快冷卻氣體流至平臺或是平臺后的冷卻環(huán)。
[0044]應(yīng)可被理解的是，目前所揭示的實施例可被應(yīng)用于多種離子植入系統(tǒng)的任何一種，像是等離子體離子植入系統(tǒng)。這些系統(tǒng)可包括射頻等離子體摻雜(RF-PLAD)系統(tǒng)，輝光放電等離子體摻雜(GD-PLAD)系統(tǒng)，以及其他類似系統(tǒng)。
[0045]本揭示并不限制于此處特定實施例所揭示的范圍。確實，除了此處所揭示的這些實施例以外，其他多種對于本揭示修改的實施例，對于本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，經(jīng)由參考上述的內(nèi)容與所伴隨的圖示后將是顯而易見。因此，其他這種實施例與修改都將落于本揭示的保護范圍中。同時本發(fā)明已在不離開本發(fā)明如下所定義的專利發(fā)明范圍的精神與范圍的情形下，參考特定實施例、多種的修改、變化以及改變作揭示。因此，本發(fā)明并非是要限制于此所述的實施例，而是具有藉由下述的權(quán)利項或與其相等的語言所定義的全部范圍。
【主權(quán)項】
1.一種旋轉(zhuǎn)平臺裝置，其特征在于包括: 平臺基座； 平臺，旋轉(zhuǎn)地連接至所述平臺基座；以及 旋轉(zhuǎn)接頭，用以提供低溫流體來冷卻所述平臺，所述旋轉(zhuǎn)接頭連接于所述平臺基座與所述平臺之間，所述旋轉(zhuǎn)接頭包括撓曲彈性管件，所述撓曲彈性管件具有與所述平臺的非旋轉(zhuǎn)位置相關(guān)的第一配置結(jié)構(gòu)，以及與所述平臺的旋轉(zhuǎn)位置相關(guān)的第二配置結(jié)構(gòu)，其中在所述第一配置結(jié)構(gòu)中，所述撓曲彈性管件具有第一彎曲半徑，并且在所述第二配置結(jié)構(gòu)中，所述撓曲彈性管件具有第二彎曲半徑，所述第一彎曲半徑與所述第二彎曲半徑相異。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)平臺裝置，其特征在于還包括與所述撓曲彈性管件的第一端與第二端有關(guān)的第一管連接件與第二管連接件，所述第一管連接件用來從低溫流體供應(yīng)源接收所述低溫流體，所述第二管連接件用來供應(yīng)所述低溫流體至所述平臺。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)平臺裝置，其特征在于所述旋轉(zhuǎn)接頭還包括在所述撓曲彈性管件于所述第一配置結(jié)構(gòu)與所述第二配置結(jié)構(gòu)之間移動時，用來可控地限制所述撓曲彈性管件移動的夾持構(gòu)件。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)平臺裝置，其特征在于所述旋轉(zhuǎn)接頭還包括具有外側(cè)圍墻的接頭基座元件，所述接頭基座元件在所述撓曲彈性管件于所述第一配置結(jié)構(gòu)與所述第二配置結(jié)構(gòu)之間移動時，用來可控地限制所述撓曲彈性管件的移動。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)平臺裝置，其特征在于還包括連接于所述撓曲彈性管件與所述第一管連接件之間的驅(qū)動區(qū)塊部分，所述驅(qū)動區(qū)塊部分包括流體通道以讓所述低溫流體流經(jīng)所述撓曲彈性管件與所述第一連通管之間。6.根據(jù)權(quán)利要求6所述的旋轉(zhuǎn)平臺裝置，其特征在于還包括連接至所述驅(qū)動區(qū)塊部分的桿，所述桿旋轉(zhuǎn)地連接至所述旋轉(zhuǎn)接頭的基座部分，所述基座部分固定至所述平臺基座。7.根據(jù)權(quán)利要求7所述的旋轉(zhuǎn)平臺裝置，其特征在于還包括相對于所述平臺固定的防護構(gòu)件，所述防護構(gòu)件連接至所述驅(qū)動區(qū)塊部分，所述防護元件經(jīng)配置以在所述平臺與所述平臺基座彼此相對轉(zhuǎn)動時，經(jīng)由所述旋轉(zhuǎn)接頭傳送旋轉(zhuǎn)力。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)平臺裝置，其特征在于還包括具有外側(cè)圍墻的基座構(gòu)件及連接至所述基座構(gòu)件的護蓋，其中所述基座構(gòu)件、所述外側(cè)圍墻及所述護蓋經(jīng)配置以在所述撓曲彈性管件于所述第一配置結(jié)構(gòu)與所述第二配置結(jié)構(gòu)之間移動時，用來可控地限制所述撓曲彈性管件的移動。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)平臺裝置，其特征在于還包括第二旋轉(zhuǎn)接頭用來從所述平臺排出所述低溫流體，所述第二旋轉(zhuǎn)接頭連接于所述平臺基座與所述平臺之間，所述第二旋轉(zhuǎn)接頭包括撓曲彈性管件，所述撓性彈性管件具有與所述平臺的非旋轉(zhuǎn)位置有關(guān)的第一配置結(jié)構(gòu)，以及與所述平臺的旋轉(zhuǎn)位置有關(guān)的第二配置結(jié)構(gòu)，其中在所述第一配置結(jié)構(gòu)中，所述撓曲彈性管件具有第一彎曲半徑，并且在所述第二配置結(jié)構(gòu)中，所述撓曲彈性管件具有第二彎曲半徑，所述第一彎曲半徑與所述第二彎曲半徑相異。10.一種旋轉(zhuǎn)彎曲接頭，適用于半導(dǎo)體制程，其特征在于所述旋轉(zhuǎn)彎曲接頭包括: 基座部分； 桿，旋轉(zhuǎn)地連接至所述基座部分； 驅(qū)動區(qū)塊部分，由第一端連接至所述桿，并且第二端連接至第一管接頭；以及 撓曲彈性管件，具有第一端與第二端，所述第一端連接至所述驅(qū)動區(qū)塊部分，所述第二端連接至第二管接頭，其中所述撓曲彈性管件具有與所述旋轉(zhuǎn)接頭的非旋轉(zhuǎn)位置相關(guān)的第一配置結(jié)構(gòu)，及與所述旋轉(zhuǎn)接頭的旋轉(zhuǎn)位置相關(guān)的第二配置結(jié)構(gòu)，其中在所述第一配置結(jié)構(gòu)中，所述撓曲彈性管件具有第一彎曲半徑，且在所述第二配置結(jié)構(gòu)中，所述撓曲彈性管件具有第二彎曲半徑，所述第一彎曲半徑與所述第二彎曲半徑相異。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的旋轉(zhuǎn)彎曲接頭，其特征在于所述第一管連接件用來接收來自低溫流體源的低溫流體，所述第二管連接件用來供應(yīng)所述低溫流體至平臺。12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的旋轉(zhuǎn)彎曲接頭，其特征在于所述旋轉(zhuǎn)接頭還包括夾持元件用來在所述撓曲彈性管件于所述第一配置結(jié)構(gòu)與所述第二配置結(jié)構(gòu)之間移動時，可控地限制所述撓曲彈性管件的移動。13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的旋轉(zhuǎn)彎曲接頭，其特征在于所述基座部分還具有外側(cè)圍墻可用來在所述撓曲彈性管件于所述第一配置結(jié)構(gòu)與所述第二配置結(jié)構(gòu)之間移動時，可控地限制所述撓曲彈性管件的移動。14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的旋轉(zhuǎn)彎曲接頭，其特征在于所述驅(qū)動區(qū)塊部分還包括流體通道以讓低溫流體流經(jīng)所述撓曲彈性管件與所述第一管連接件之間。15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的旋轉(zhuǎn)彎曲接頭，其特征在于所述基座部分具有外側(cè)圍墻和連接至所述基座部分的護蓋，其中所述基座部分、所述外側(cè)圍墻以及所述護蓋經(jīng)配置以在所述撓曲彈性管件于所述第一配置結(jié)構(gòu)與所述第二配置結(jié)構(gòu)之間移動時，可控地限制所述撓曲彈性管件的移動。
【專利摘要】揭示一種用于半導(dǎo)體制程應(yīng)用的旋轉(zhuǎn)接頭。旋轉(zhuǎn)接頭包括用來傳遞低溫流體至平臺以在離子植入的步驟中冷卻平臺的撓曲彈性管件。撓曲彈性管件具有與平臺的非旋轉(zhuǎn)位置有關(guān)的第一配置結(jié)構(gòu)，以及與平臺旋轉(zhuǎn)位置有關(guān)的第二配置結(jié)構(gòu)。在第一配置結(jié)構(gòu)中，撓曲彈性管件具有第一彎曲半徑，并且在第二配置結(jié)構(gòu)中，撓曲彈性管件具有第二彎曲半徑，其小于第一彎曲半徑。旋轉(zhuǎn)接頭還包括具有圍墻的基座，其在撓曲彈性管件于第一與第二配置結(jié)構(gòu)之間旋轉(zhuǎn)時，限制撓曲彈性管件的移動。
【IPC分類】H01J37/317
【公開號】CN105190825
【申請?zhí)枴緾N201480013428
【發(fā)明人】亞瑟·P·瑞福
【申請人】瓦里安半導(dǎo)體設(shè)備公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2014年3月11日
【公告號】US9377048, US20140270905, WO2014164791A1